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氧化物晶体与薄膜最新研究进展(英文)
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作者 木村秀夫 赵洪阳 +2 位作者 姚启文 程振祥 王小林 《人工晶体学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2011年第3期789-795,共7页
在工业发展的进程中,氧化物材料在电子学领域中应用最为广泛。到目前为止,即使是对于氧化物晶体材料,从纳米科技角度来说,研究的趋势是降低尺寸直到很小的尺度。近年来,氧化物的研究目标也发生了显著的变化。本文介绍了作者课题组的与... 在工业发展的进程中,氧化物材料在电子学领域中应用最为广泛。到目前为止,即使是对于氧化物晶体材料,从纳米科技角度来说,研究的趋势是降低尺寸直到很小的尺度。近年来,氧化物的研究目标也发生了显著的变化。本文介绍了作者课题组的与氧化物晶体及薄膜有关的三个研究方向。 展开更多
关键词 体晶体 薄膜 压电性 铁电性 多铁性 光催化
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