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氧化物晶体与薄膜最新研究进展(英文)
1
作者
木村秀夫
赵洪阳
+2 位作者
姚启文
程振祥
王小林
《人工晶体学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2011年第3期789-795,共7页
在工业发展的进程中,氧化物材料在电子学领域中应用最为广泛。到目前为止,即使是对于氧化物晶体材料,从纳米科技角度来说,研究的趋势是降低尺寸直到很小的尺度。近年来,氧化物的研究目标也发生了显著的变化。本文介绍了作者课题组的与...
在工业发展的进程中,氧化物材料在电子学领域中应用最为广泛。到目前为止,即使是对于氧化物晶体材料,从纳米科技角度来说,研究的趋势是降低尺寸直到很小的尺度。近年来,氧化物的研究目标也发生了显著的变化。本文介绍了作者课题组的与氧化物晶体及薄膜有关的三个研究方向。
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关键词
体晶体
薄膜
压电性
铁电性
多铁性
光催化
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职称材料
题名
氧化物晶体与薄膜最新研究进展(英文)
1
作者
木村秀夫
赵洪阳
姚启文
程振祥
王小林
机构
日本国立物质
材料
研究
机构
澳大利亚卧龙岗大学电子材料研究所
出处
《人工晶体学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2011年第3期789-795,共7页
基金
Project supported by grants fromJSPS Grant-in-Aid for Scientific Research(C)(21605012)
Grant-in-Aid for JSPS Fellows(21-09608 and 22-00796)
JSPS and ARC under Japan-Australia Research Cooperative Program
文摘
在工业发展的进程中,氧化物材料在电子学领域中应用最为广泛。到目前为止,即使是对于氧化物晶体材料,从纳米科技角度来说,研究的趋势是降低尺寸直到很小的尺度。近年来,氧化物的研究目标也发生了显著的变化。本文介绍了作者课题组的与氧化物晶体及薄膜有关的三个研究方向。
关键词
体晶体
薄膜
压电性
铁电性
多铁性
光催化
Keywords
bulk crystals
thin films
piezoelectric
ferroelectric
multiferroic
photocatalyst
分类号
TN304.053 [电子电信—物理电子学]
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作者
出处
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被引量
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1
氧化物晶体与薄膜最新研究进展(英文)
木村秀夫
赵洪阳
姚启文
程振祥
王小林
《人工晶体学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2011
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