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题名多孔钛基氢氧化锰电极的制备及电容特性
被引量：1
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作者
徐国荣
彭满芝
唐安平
吴海江
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机构
湖南科技大学化学化工学院.理论化学与分子模拟省部共建教育部重点实验室分子构效关系湖南省普通高等学校重点实验室
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出处
《电源技术》
CAS
CSCD
北大核心
2013年第9期1559-1561,1565,共4页
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基金
湖南省科技厅计划项目(2012GK3098)
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文摘
用电化学方法制备了一种多孔钛基氢氧化锰膜电极。钛片在热的盐酸中刻蚀20 min,然后在刻蚀的钛基体上阴极电沉积一层氢氧化锰。用扫描电镜仪、X射线粉末衍射仪分别考察了氢氧化锰膜电极的形貌、晶体结构特征,用循环伏安法和充放电曲线法测试氢氧化锰膜电极的电化学性能。结果表明,腐蚀后的钛基体呈现多孔特征,孔径大小在微米级范围。沉积的氢氧化锰呈现纳米片状结构,并相互交错成花状形貌。充放电曲线法测得氢氧化锰膜电极的质量比电容达340 F/g,比普通钛基氢氧化锰膜电极高出28%。循环稳定性测试表明200次循环后,多孔钛基氢氧化锰膜电极比电容只下降7%,而在后续循环扫描过程中容量保持非常稳定。多孔钛基氢氧化锰膜电极是一种有潜力的电化学电容器电极。
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关键词
电化学电容器
氢氧化锰
电沉积
多孔钛
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Keywords
electrochemical capacitor
porous Ti
manganese hydroxide
electrodeposition
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分类号
TM53
[电气工程—电器]
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