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W-Cu薄膜沉积初期亚稳态固溶体形成机制
被引量：
2
1
作者
谢添乐
周灵平
+3 位作者
符立才
朱家俊
杨武霖
李德意
《材料导报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2016年第24期98-102,共5页
采用直流双靶磁控溅射共沉积的方法制备了W含量为75%(原子分数)的W-Cu薄膜,并通过EDS、XRD、SEM、TEM等对W-Cu薄膜沉积初期的微观形貌及组织结构进行了表征和分析。结果表明,沉积初期,随着沉积时间延长,W-Cu薄膜有逐渐晶化的趋势,并形成...
采用直流双靶磁控溅射共沉积的方法制备了W含量为75%(原子分数)的W-Cu薄膜,并通过EDS、XRD、SEM、TEM等对W-Cu薄膜沉积初期的微观形貌及组织结构进行了表征和分析。结果表明,沉积初期,随着沉积时间延长,W-Cu薄膜有逐渐晶化的趋势,并形成了W(Cu)基亚稳态固溶体,且Cu在W中的固溶度逐渐增加。沉积10s时薄膜呈长程无序、短程有序的非晶态,局部有由于靶材粒子扩散不充分而形成的小于5nm的W、Cu纳米晶;20s时局部纳米晶消失但晶化程度升高;30s时晶化显著。沉积初期W-Cu薄膜随沉积时间延长逐渐晶化的原因是沉积过程中高能量的原子或原子团与已沉积的原子碰撞,传递能量,促进原子进一步扩散,克服了薄膜的晶化形成能,从而形成了亚稳态的W(Cu)固溶体。
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关键词
W-Cu薄膜
沉积初期
微观结构
晶化
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职称材料
空间太阳电池玻璃盖板表面超薄ITO防静电层的设计及制备工艺
2
作者
金鹤
周灵平
+3 位作者
朱家俊
符立才
杨武霖
李德意
《材料导报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2017年第17期158-162,共5页
ITO/MgF2复合薄膜既具有较好的表面导电性能又具有较高的透过率,可应用于空间太阳电池玻璃盖板表面。文章主要对ITO/MgF2复合薄膜中表层的超薄ITO薄膜进行了研究。利用TFCalc软件模拟了ITO薄膜厚度对ITO/MgF2复合薄膜光学性能的影响,根...
ITO/MgF2复合薄膜既具有较好的表面导电性能又具有较高的透过率,可应用于空间太阳电池玻璃盖板表面。文章主要对ITO/MgF2复合薄膜中表层的超薄ITO薄膜进行了研究。利用TFCalc软件模拟了ITO薄膜厚度对ITO/MgF2复合薄膜光学性能的影响,根据模拟结果采用电子束蒸发法在衬底上依次沉积MgF2薄膜和氧化铟锡(ITO)薄膜,研究了ITO薄膜工艺参数(沉积速率、沉积温度和工作气压)和ITO薄膜厚度对ITO/MgF2复合薄膜光电性能及微观结构的影响。当ITO薄膜沉积速率为0.05nm/s、沉积温度为400℃、工作气压为2.3×10^(-2) Pa、厚度为10nm时,表层ITO薄膜基本连续,其方块电阻(1.94kΩ/)已符合设计需求,ITO/MgF2复合薄膜在可见光区间(400~800nm)的平均透过率达到89.00%。
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关键词
氧化铟锡(ITO)薄膜
防静电
空间太阳电池
MgF2薄膜
电子束蒸发
玻璃盖板
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职称材料
题名
W-Cu薄膜沉积初期亚稳态固溶体形成机制
被引量：
2
1
作者
谢添乐
周灵平
符立才
朱家俊
杨武霖
李德意
机构
湖南
大学材料科学与工程学院
湖南省喷射沉积技术重点实验室
出处
《材料导报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2016年第24期98-102,共5页
基金
国家自然科学基金(51401080)
文摘
采用直流双靶磁控溅射共沉积的方法制备了W含量为75%(原子分数)的W-Cu薄膜,并通过EDS、XRD、SEM、TEM等对W-Cu薄膜沉积初期的微观形貌及组织结构进行了表征和分析。结果表明,沉积初期,随着沉积时间延长,W-Cu薄膜有逐渐晶化的趋势,并形成了W(Cu)基亚稳态固溶体,且Cu在W中的固溶度逐渐增加。沉积10s时薄膜呈长程无序、短程有序的非晶态,局部有由于靶材粒子扩散不充分而形成的小于5nm的W、Cu纳米晶;20s时局部纳米晶消失但晶化程度升高;30s时晶化显著。沉积初期W-Cu薄膜随沉积时间延长逐渐晶化的原因是沉积过程中高能量的原子或原子团与已沉积的原子碰撞,传递能量,促进原子进一步扩散,克服了薄膜的晶化形成能,从而形成了亚稳态的W(Cu)固溶体。
关键词
W-Cu薄膜
沉积初期
微观结构
晶化
Keywords
W-Cu thin film
initial stage of deposition process
microstructure
crystallization
分类号
TB303 [一般工业技术—材料科学与工程]
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职称材料
题名
空间太阳电池玻璃盖板表面超薄ITO防静电层的设计及制备工艺
2
作者
金鹤
周灵平
朱家俊
符立才
杨武霖
李德意
机构
湖南
大学材料科学与工程学院
湖南省喷射沉积技术重点实验室
出处
《材料导报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2017年第17期158-162,共5页
基金
国家自然科学基金(51401080)
文摘
ITO/MgF2复合薄膜既具有较好的表面导电性能又具有较高的透过率,可应用于空间太阳电池玻璃盖板表面。文章主要对ITO/MgF2复合薄膜中表层的超薄ITO薄膜进行了研究。利用TFCalc软件模拟了ITO薄膜厚度对ITO/MgF2复合薄膜光学性能的影响,根据模拟结果采用电子束蒸发法在衬底上依次沉积MgF2薄膜和氧化铟锡(ITO)薄膜,研究了ITO薄膜工艺参数(沉积速率、沉积温度和工作气压)和ITO薄膜厚度对ITO/MgF2复合薄膜光电性能及微观结构的影响。当ITO薄膜沉积速率为0.05nm/s、沉积温度为400℃、工作气压为2.3×10^(-2) Pa、厚度为10nm时,表层ITO薄膜基本连续,其方块电阻(1.94kΩ/)已符合设计需求,ITO/MgF2复合薄膜在可见光区间(400~800nm)的平均透过率达到89.00%。
关键词
氧化铟锡(ITO)薄膜
防静电
空间太阳电池
MgF2薄膜
电子束蒸发
玻璃盖板
Keywords
indium tin oxide （ITO） film, anti-static, space solar cell, MgF2 thin film, electron beam evaporation, glass cover
分类号
TB34 [一般工业技术—材料科学与工程]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
W-Cu薄膜沉积初期亚稳态固溶体形成机制
谢添乐
周灵平
符立才
朱家俊
杨武霖
李德意
《材料导报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2016
2
在线阅读
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职称材料
2
空间太阳电池玻璃盖板表面超薄ITO防静电层的设计及制备工艺
金鹤
周灵平
朱家俊
符立才
杨武霖
李德意
《材料导报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2017
0
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职称材料
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