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ITO膜层蚀刻性能实验研究
被引量:
7
1
作者
汤安东
《激光与红外》
CAS
CSCD
北大核心
1997年第1期48-50,共3页
讨论了ITO膜的湿法蚀刻特性,得出了有关蚀刻速率的定量关系;比较了ITO膜的不同配比的蚀刻没,并指出了加热至50℃~60℃的、体积比为50∶(3~9)∶50的HCl和HNO_3与水混合液比较适合于大规模生产需要。
关键词
ITO膜
蚀刻
膜层
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职称材料
玻璃基板的表面特征对STN-LCD显示特性的影响
2
作者
汤安东
《光学精密工程》
EI
CAS
CSCD
2001年第3期273-278,共6页
基于STN -LCD显示的双折射干涉原理并结合人眼视觉系统因素 ,从理论上说明了液晶盒间隙的不均匀性与STN -LCD显示出现彩虹的关系 ,进而阐述了ITO玻璃基板的表面形貌特征对STN -LCD显示特性的影响。实践表明 :致使STN
关键词
超扭曲向列液晶显示器
双折射
浮法玻璃
表面特征
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职称材料
LCD工艺中使用的碱性溶液对SiO_2膜层的刻蚀作用
3
作者
汤安东
刘金瑞
+1 位作者
王秋花
黄永卓
《光学精密工程》
EI
CAS
CSCD
1999年第3期74-78,共5页
钠钙玻璃基片上的SiO2膜层在很大程度上决定了液晶显示器件(LCD)的化学稳定性及使用寿命。本文以射频溅射法制备的SiO2膜层为样品,结合LCD工艺特点,初步研究分析了其工艺流程中所使用的不同碱性溶液对SiO2膜层不...
钠钙玻璃基片上的SiO2膜层在很大程度上决定了液晶显示器件(LCD)的化学稳定性及使用寿命。本文以射频溅射法制备的SiO2膜层为样品,结合LCD工艺特点,初步研究分析了其工艺流程中所使用的不同碱性溶液对SiO2膜层不同的刻蚀作用。本文的结论有利于在LCD工艺中更好地保护SiO2膜层。
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关键词
液晶显示器件
SiO2膜层
碱性溶液
刻蚀
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职称材料
题名
ITO膜层蚀刻性能实验研究
被引量:
7
1
作者
汤安东
机构
深圳莱宝真空技术有限公司
出处
《激光与红外》
CAS
CSCD
北大核心
1997年第1期48-50,共3页
文摘
讨论了ITO膜的湿法蚀刻特性,得出了有关蚀刻速率的定量关系;比较了ITO膜的不同配比的蚀刻没,并指出了加热至50℃~60℃的、体积比为50∶(3~9)∶50的HCl和HNO_3与水混合液比较适合于大规模生产需要。
关键词
ITO膜
蚀刻
膜层
Keywords
ITO films, Etch, film thickness
分类号
TN304.055 [电子电信—物理电子学]
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职称材料
题名
玻璃基板的表面特征对STN-LCD显示特性的影响
2
作者
汤安东
机构
深圳莱宝真空技术有限公司
出处
《光学精密工程》
EI
CAS
CSCD
2001年第3期273-278,共6页
文摘
基于STN -LCD显示的双折射干涉原理并结合人眼视觉系统因素 ,从理论上说明了液晶盒间隙的不均匀性与STN -LCD显示出现彩虹的关系 ,进而阐述了ITO玻璃基板的表面形貌特征对STN -LCD显示特性的影响。实践表明 :致使STN
关键词
超扭曲向列液晶显示器
双折射
浮法玻璃
表面特征
Keywords
STN-LCD
birefringence
float substrate glass
surface texture
分类号
TN141.9 [电子电信—物理电子学]
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职称材料
题名
LCD工艺中使用的碱性溶液对SiO_2膜层的刻蚀作用
3
作者
汤安东
刘金瑞
王秋花
黄永卓
机构
深圳莱宝真空技术有限公司
秦皇岛市玻璃厂
秦皇岛
莱
成电子
有限公司
出处
《光学精密工程》
EI
CAS
CSCD
1999年第3期74-78,共5页
文摘
钠钙玻璃基片上的SiO2膜层在很大程度上决定了液晶显示器件(LCD)的化学稳定性及使用寿命。本文以射频溅射法制备的SiO2膜层为样品,结合LCD工艺特点,初步研究分析了其工艺流程中所使用的不同碱性溶液对SiO2膜层不同的刻蚀作用。本文的结论有利于在LCD工艺中更好地保护SiO2膜层。
关键词
液晶显示器件
SiO2膜层
碱性溶液
刻蚀
Keywords
Liquid crystal display devices, SiO 2 films, Alkaline solution
分类号
TN141.9 [电子电信—物理电子学]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
ITO膜层蚀刻性能实验研究
汤安东
《激光与红外》
CAS
CSCD
北大核心
1997
7
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职称材料
2
玻璃基板的表面特征对STN-LCD显示特性的影响
汤安东
《光学精密工程》
EI
CAS
CSCD
2001
0
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职称材料
3
LCD工艺中使用的碱性溶液对SiO_2膜层的刻蚀作用
汤安东
刘金瑞
王秋花
黄永卓
《光学精密工程》
EI
CAS
CSCD
1999
0
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职称材料
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