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晶圆级导通电阻测试精度的改进方法
1
作者
方绍明
李照华
《半导体技术》
CAS
北大核心
2021年第1期75-80,共6页
针对晶圆级导通电阻测试误差过高,满足不了低压金属氧化物半导体场效应晶体管(MOSFET)毫欧级导通电阻的测试精度要求,给产品晶圆测试规范的制定及品质监控带来困扰的问题,提出了晶圆级导通电阻测试精度的改进方法。基于开尔文法电阻测...
针对晶圆级导通电阻测试误差过高,满足不了低压金属氧化物半导体场效应晶体管(MOSFET)毫欧级导通电阻的测试精度要求,给产品晶圆测试规范的制定及品质监控带来困扰的问题,提出了晶圆级导通电阻测试精度的改进方法。基于开尔文法电阻测试理论,具体分析了晶圆级导通电阻测试原理,且得出其测试精度不高的根本原因是减薄背金后粗糙不平的硅片背面与测试机的承片台的非充分接触而引入了毫欧级接触电阻。提出3种相应改进测试精度的方法,单相邻芯片辅助的测试方法、双相邻芯片辅助的测试方法和正面漏极测试窗的测试方法。经过验证,3种方法均能将毫欧级导通电阻测试误差控制到小于10%,实现低压MOSFET晶圆级导通电阻参数的有效监测。
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关键词
晶圆级
测试精度
导通电阻
金属氧化物半导体场效应晶体管(MOSFET)
接触电阻
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职称材料
题名
晶圆级导通电阻测试精度的改进方法
1
作者
方绍明
李照华
机构
深圳市明微电子股份有限公司
出处
《半导体技术》
CAS
北大核心
2021年第1期75-80,共6页
文摘
针对晶圆级导通电阻测试误差过高,满足不了低压金属氧化物半导体场效应晶体管(MOSFET)毫欧级导通电阻的测试精度要求,给产品晶圆测试规范的制定及品质监控带来困扰的问题,提出了晶圆级导通电阻测试精度的改进方法。基于开尔文法电阻测试理论,具体分析了晶圆级导通电阻测试原理,且得出其测试精度不高的根本原因是减薄背金后粗糙不平的硅片背面与测试机的承片台的非充分接触而引入了毫欧级接触电阻。提出3种相应改进测试精度的方法,单相邻芯片辅助的测试方法、双相邻芯片辅助的测试方法和正面漏极测试窗的测试方法。经过验证,3种方法均能将毫欧级导通电阻测试误差控制到小于10%,实现低压MOSFET晶圆级导通电阻参数的有效监测。
关键词
晶圆级
测试精度
导通电阻
金属氧化物半导体场效应晶体管(MOSFET)
接触电阻
Keywords
wafer level
test accuracy
on-resistance
metal oxide semiconductor field effect transistor(MOSFET)
contact resistance
分类号
TN307 [电子电信—物理电子学]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
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1
晶圆级导通电阻测试精度的改进方法
方绍明
李照华
《半导体技术》
CAS
北大核心
2021
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