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基于Cerebrus的Genus+Innovus流程的功耗面积优化
1
作者
汪锋刚
晋亚紧
+1 位作者
周国华
刘宇峥
《电子技术应用》
2024年第8期21-25,共5页
对于性能功耗面积(PPA)的追求已成为IC芯片设计的共识,尤其是发展到先进工艺节点,PPA已成为IC设计综合性能的重要指标,尤其是对于大型SoC芯片中clone很多次的模块,对于PPA的追求变得更加极致。介绍了基于Cadence公司的Genus工具和Cereb...
对于性能功耗面积(PPA)的追求已成为IC芯片设计的共识,尤其是发展到先进工艺节点,PPA已成为IC设计综合性能的重要指标,尤其是对于大型SoC芯片中clone很多次的模块,对于PPA的追求变得更加极致。介绍了基于Cadence公司的Genus工具和Cerebrus工具,通过综合阶段与后端PR各个阶段的优化,共同提升PPA的优化方案。最终结果显示,在时序及DRC基本收敛的情况下,使用Cerebrus工具相比Innovus可以使功耗降低3.5%,面积降低3.1%,使用Genus+Innovus流程可以使功耗降低6.4%,面积降低8.5%,极大地降低了芯片的面积及功耗。
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关键词
芯片设计
Genus工具
Cerebrus工具
PPA优化
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职称材料
基于Innovus工具的IR Drop自动化修复
被引量：
3
2
作者
万健
王硕
+4 位作者
邱欢
陈飞阳
叶林
武辰飞
欧阳可青
《电子技术应用》
2021年第8期43-47,共5页
在先进工艺节点下,芯片电源网络的电阻增加和高密度的晶体管同时翻转会在VDD和VSS上产生电压降(IR Drop),导致芯片产生时序问题和功能性障碍。采用基于Innovus工具的三种自动化IR Drop修复流程在PR(Placement and Route)阶段优化模块的...
在先进工艺节点下,芯片电源网络的电阻增加和高密度的晶体管同时翻转会在VDD和VSS上产生电压降(IR Drop),导致芯片产生时序问题和功能性障碍。采用基于Innovus工具的三种自动化IR Drop修复流程在PR(Placement and Route)阶段优化模块的动态IR Drop。结果表明,Pegasus PG Fix Flow和IR-Aware Placement这两种方法能分别修复设计的48%和33.8%的IR Drop违例,且不会恶化时序和DRC(Design Rule Check),而IR-Aware PG Strape Addition这种方法的优化力度相对较小,且会使DRC有较大程度的恶化。
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关键词
芯片设计
Innovus工具
IR
Drop修复
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职称材料
题名
基于Cerebrus的Genus+Innovus流程的功耗面积优化
1
作者
汪锋刚
晋亚紧
周国华
刘宇峥
机构
深圳市中兴微电子技术有限公司后端设计部
移动网络和移动多媒体
技术
国家重点实验室
上海楷登
电子
科技
有限公司
出处
《电子技术应用》
2024年第8期21-25,共5页
文摘
对于性能功耗面积(PPA)的追求已成为IC芯片设计的共识,尤其是发展到先进工艺节点,PPA已成为IC设计综合性能的重要指标,尤其是对于大型SoC芯片中clone很多次的模块,对于PPA的追求变得更加极致。介绍了基于Cadence公司的Genus工具和Cerebrus工具,通过综合阶段与后端PR各个阶段的优化,共同提升PPA的优化方案。最终结果显示,在时序及DRC基本收敛的情况下,使用Cerebrus工具相比Innovus可以使功耗降低3.5%,面积降低3.1%,使用Genus+Innovus流程可以使功耗降低6.4%,面积降低8.5%,极大地降低了芯片的面积及功耗。
关键词
芯片设计
Genus工具
Cerebrus工具
PPA优化
Keywords
chip design
Genus tool
Cerebrus tool
PPA optimization
分类号
TN402 [电子电信—微电子学与固体电子学]
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职称材料
题名
基于Innovus工具的IR Drop自动化修复
被引量：
3
2
作者
万健
王硕
邱欢
陈飞阳
叶林
武辰飞
欧阳可青
机构
深圳市中兴微电子技术有限公司后端设计部
移动网络和移动多媒体
技术
国家重点实验室
出处
《电子技术应用》
2021年第8期43-47,共5页
文摘
在先进工艺节点下,芯片电源网络的电阻增加和高密度的晶体管同时翻转会在VDD和VSS上产生电压降(IR Drop),导致芯片产生时序问题和功能性障碍。采用基于Innovus工具的三种自动化IR Drop修复流程在PR(Placement and Route)阶段优化模块的动态IR Drop。结果表明,Pegasus PG Fix Flow和IR-Aware Placement这两种方法能分别修复设计的48%和33.8%的IR Drop违例,且不会恶化时序和DRC(Design Rule Check),而IR-Aware PG Strape Addition这种方法的优化力度相对较小,且会使DRC有较大程度的恶化。
关键词
芯片设计
Innovus工具
IR
Drop修复
Keywords
chip design
Innovus implementation system
IR drop fixing
分类号
TN402 [电子电信—微电子学与固体电子学]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
基于Cerebrus的Genus+Innovus流程的功耗面积优化
汪锋刚
晋亚紧
周国华
刘宇峥
《电子技术应用》
2024
0
在线阅读
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职称材料
2
基于Innovus工具的IR Drop自动化修复
万健
王硕
邱欢
陈飞阳
叶林
武辰飞
欧阳可青
《电子技术应用》
2021
3
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职称材料
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