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基于氮化硅微腔的2μm波段孤子光梳研究
1
作者
程如敏
孙嘉浩
+4 位作者
吴加贵
郭登极
许佼
杨俊波
闫培光
《红外与毫米波学报》
SCIE
EI
CAS
CSCD
北大核心
2024年第4期442-449,共8页
本文研究了氮化硅微腔在2μm波段的光学频率梳产生。通过几何设计对氮化硅波导进行色散调控,选取合适的总线波导尺寸,从热吸收理论出发,讨论氮化硅微腔不同调制频率下的热折射噪声。以非线性薛定谔方程为基础模型,研究不同色散作用下的...
本文研究了氮化硅微腔在2μm波段的光学频率梳产生。通过几何设计对氮化硅波导进行色散调控,选取合适的总线波导尺寸,从热吸收理论出发,讨论氮化硅微腔不同调制频率下的热折射噪声。以非线性薛定谔方程为基础模型,研究不同色散作用下的腔体演变过程。数值结果表明,氮化硅在2μm波段能够更清晰地观察系统的滞后状态转变,即系统向稳定域转变过程的弛豫振荡现象,同时在高阶色散的作用下,腔体能够更快地向稳态孤子转变,这为研究呼吸孤子提供了方案。
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关键词
光学频率梳
色散调控
热折射噪声
呼吸孤子
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职称材料
反射式全息光刻系统的对比度分析
2
作者
赵家琦
胡飞
+2 位作者
郭登极
张贤鹏
王序进
《激光技术》
北大核心
2025年第4期532-538,共7页
全息光刻作为一种高效率的微纳加工方法,在3维微纳结构制造领域引起了广泛的研究兴趣。为了分析3维微纳结构的形貌演变并研究曝光系统设计对所制备结构的影响,基于全息光刻原理,建立了光刻胶内的3维曝光剂量模型,并进一步建立了3维微纳...
全息光刻作为一种高效率的微纳加工方法,在3维微纳结构制造领域引起了广泛的研究兴趣。为了分析3维微纳结构的形貌演变并研究曝光系统设计对所制备结构的影响,基于全息光刻原理,建立了光刻胶内的3维曝光剂量模型,并进一步建立了3维微纳结构的形貌演化模型;基于上述数值模型进行了理论分析,探索了光源偏振、曝光基底反射、入射光相位漂移等关键因素对曝光场对比度的影响。结果表明,在经典反射式全息光刻系统中,横向电波-横向电波(TETE)偏振入射光在不同入射角下表现出高对比度(0.95以上),明显优于其它偏振组合;曝光基底反射率对基底法线方向对比度具有重要影响并且二者正相关;大幅值低频相位漂移的入射光将导致曝光场对比度明显下降,因此曝光系统应主动控制环境和系统自身扰动,以获得高对比度的曝光场。该研究为反射式全息光刻系统的参数优化设计提供了参考。
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关键词
光学制造
全息光刻
光束干涉
微纳结构
对比度
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职称材料
等离子弧增材制造Ti-6Al-4V工艺参数对成形性和显微硬度的影响
被引量：
2
3
作者
吴向举
郭登极
+1 位作者
林建军
王序进
《中国表面工程》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2023年第6期186-194,共9页
等离子弧增材制造技术具有低成本、高沉积率和高材料利用率等优势,对航空航天、海洋工程及军事医学等领域的大型复杂零件制造具有重要意义。但等离子弧能量密度高及钛合金热导率低的特性,导致钛合金沉积零件成形性差,且易生成粗大柱状...
等离子弧增材制造技术具有低成本、高沉积率和高材料利用率等优势,对航空航天、海洋工程及军事医学等领域的大型复杂零件制造具有重要意义。但等离子弧能量密度高及钛合金热导率低的特性,导致钛合金沉积零件成形性差,且易生成粗大柱状晶。另外,等离子弧增材制造工艺参数多和调控难的特点,限制了满足力学标准的增材制造工艺参数的快速制定。采用正交试验法、金相组织分析及组织与力学能关系表征等手段,研究等离子弧增材制造Ti-6Al-4V工艺参数对成形性、显微组织及显微硬度的影响规律。研究结果表明,等离子弧工艺参数对成形性的影响程度依次为基值电流(I_(b))>峰值电流(I_(p))>占空比(I_(dcy))>送丝速度(T_(WFS))>沉积速度(T_(s))>脉冲频率(F_(P)),且基值电流对单道沉积层的熔宽、余高和成形性的影响最大;对平均晶粒尺寸的影响程度依次为T_(s)>F_(P)>T_(WFS)>I_(b)>I_(p)>I_(dcy),沉积速度越大,晶粒尺寸越小,脉冲频率影响次之;对显微硬度影响程度依次为T_(s)>I_(dcy)>T_(WFS)>I_(b)>F_(P)>I_(p),沉积速度对平均晶粒尺寸和显微硬度影响最大,峰值电流对平均晶粒尺寸及显微硬度的影响有限。研究结果可为等离子弧增材制造及再制造工艺提供理论依据,并为野外矿山机械、海洋船舶、工程装备平台及石油化工装备等受损零件的快速修复提供工艺调控技术参考。
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关键词
TI-6AL-4V
等离子弧增材制造
正交试验
成形性
显微硬度
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职称材料
题名
基于氮化硅微腔的2μm波段孤子光梳研究
1
作者
程如敏
孙嘉浩
吴加贵
郭登极
许佼
杨俊波
闫培光
机构
深圳大学
物理与光电工程学院
深圳
市激光工程重点实验室
西南
大学
物理科学与技术学院
深圳大学
机电与控制工程学院
深圳大学半导体制造研究院
国防科技
大学
理学院
出处
《红外与毫米波学报》
SCIE
EI
CAS
CSCD
北大核心
2024年第4期442-449,共8页
基金
国家自然科学基金(62205219,52103304)
深圳市科技计划项目(JCYJ20190808160205460,JCYJ20220818095604010)。
文摘
本文研究了氮化硅微腔在2μm波段的光学频率梳产生。通过几何设计对氮化硅波导进行色散调控,选取合适的总线波导尺寸,从热吸收理论出发,讨论氮化硅微腔不同调制频率下的热折射噪声。以非线性薛定谔方程为基础模型,研究不同色散作用下的腔体演变过程。数值结果表明,氮化硅在2μm波段能够更清晰地观察系统的滞后状态转变,即系统向稳定域转变过程的弛豫振荡现象,同时在高阶色散的作用下,腔体能够更快地向稳态孤子转变,这为研究呼吸孤子提供了方案。
关键词
光学频率梳
色散调控
热折射噪声
呼吸孤子
Keywords
optical frequency combs
dispersion modulation
thermorefractive noise
breathe soliton
分类号
TN252 [电子电信—物理电子学]
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职称材料
题名
反射式全息光刻系统的对比度分析
2
作者
赵家琦
胡飞
郭登极
张贤鹏
王序进
机构
深圳大学
物理与光电工程学院
深圳
光峰科技股份有限公司
深圳大学半导体制造研究院
出处
《激光技术》
北大核心
2025年第4期532-538,共7页
基金
国家重点研发计划资助项目(2021YFB3600300)。
文摘
全息光刻作为一种高效率的微纳加工方法,在3维微纳结构制造领域引起了广泛的研究兴趣。为了分析3维微纳结构的形貌演变并研究曝光系统设计对所制备结构的影响,基于全息光刻原理,建立了光刻胶内的3维曝光剂量模型,并进一步建立了3维微纳结构的形貌演化模型;基于上述数值模型进行了理论分析,探索了光源偏振、曝光基底反射、入射光相位漂移等关键因素对曝光场对比度的影响。结果表明,在经典反射式全息光刻系统中,横向电波-横向电波(TETE)偏振入射光在不同入射角下表现出高对比度(0.95以上),明显优于其它偏振组合;曝光基底反射率对基底法线方向对比度具有重要影响并且二者正相关;大幅值低频相位漂移的入射光将导致曝光场对比度明显下降,因此曝光系统应主动控制环境和系统自身扰动,以获得高对比度的曝光场。该研究为反射式全息光刻系统的参数优化设计提供了参考。
关键词
光学制造
全息光刻
光束干涉
微纳结构
对比度
Keywords
optical fabrication
holographic lithography
beam interference
micro/nano structures
contrast ratio
分类号
TN305.7 [电子电信—物理电子学]
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职称材料
题名
等离子弧增材制造Ti-6Al-4V工艺参数对成形性和显微硬度的影响
被引量：
2
3
作者
吴向举
郭登极
林建军
王序进
机构
深圳大学半导体制造研究院
深圳大学
深圳
市高性能特种
制造
重点实验室
出处
《中国表面工程》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2023年第6期186-194,共9页
基金
国家自然科学基金资助项目(51805331)。
文摘
等离子弧增材制造技术具有低成本、高沉积率和高材料利用率等优势,对航空航天、海洋工程及军事医学等领域的大型复杂零件制造具有重要意义。但等离子弧能量密度高及钛合金热导率低的特性,导致钛合金沉积零件成形性差,且易生成粗大柱状晶。另外,等离子弧增材制造工艺参数多和调控难的特点,限制了满足力学标准的增材制造工艺参数的快速制定。采用正交试验法、金相组织分析及组织与力学能关系表征等手段,研究等离子弧增材制造Ti-6Al-4V工艺参数对成形性、显微组织及显微硬度的影响规律。研究结果表明,等离子弧工艺参数对成形性的影响程度依次为基值电流(I_(b))>峰值电流(I_(p))>占空比(I_(dcy))>送丝速度(T_(WFS))>沉积速度(T_(s))>脉冲频率(F_(P)),且基值电流对单道沉积层的熔宽、余高和成形性的影响最大;对平均晶粒尺寸的影响程度依次为T_(s)>F_(P)>T_(WFS)>I_(b)>I_(p)>I_(dcy),沉积速度越大,晶粒尺寸越小,脉冲频率影响次之;对显微硬度影响程度依次为T_(s)>I_(dcy)>T_(WFS)>I_(b)>F_(P)>I_(p),沉积速度对平均晶粒尺寸和显微硬度影响最大,峰值电流对平均晶粒尺寸及显微硬度的影响有限。研究结果可为等离子弧增材制造及再制造工艺提供理论依据,并为野外矿山机械、海洋船舶、工程装备平台及石油化工装备等受损零件的快速修复提供工艺调控技术参考。
关键词
TI-6AL-4V
等离子弧增材制造
正交试验
成形性
显微硬度
Keywords
Ti-6Al-4V
plasma arc additive manufacturing
orthogonal experiment
formability
microhardness
分类号
TG156 [金属学及工艺—热处理]
TB114 [理学—概率论与数理统计]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
基于氮化硅微腔的2μm波段孤子光梳研究
程如敏
孙嘉浩
吴加贵
郭登极
许佼
杨俊波
闫培光
《红外与毫米波学报》
SCIE
EI
CAS
CSCD
北大核心
2024
0
在线阅读
下载PDF
职称材料
2
反射式全息光刻系统的对比度分析
赵家琦
胡飞
郭登极
张贤鹏
王序进
《激光技术》
北大核心
2025
0
在线阅读
下载PDF
职称材料
3
等离子弧增材制造Ti-6Al-4V工艺参数对成形性和显微硬度的影响
吴向举
郭登极
林建军
王序进
《中国表面工程》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2023
2
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职称材料
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