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光学薄膜的损耗测试与分析 被引量:10
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作者 季一勤 崔玉平 +5 位作者 刘华松 宗杰 宋洪君 洪伟 姜福灏 孙赤权 《红外与激光工程》 EI CSCD 北大核心 2008年第3期505-508,共4页
随着激光基准系统和高精度激光测量系统的发展和应用,推动了超低损耗薄膜技术的发展,进一步控制损耗各分量的大小和分布,需要对光学薄膜总损耗进行测试分析。采用DIBS镀膜工艺在超光滑基底上镀制了高反膜和减反膜,给出了镀膜的工艺方法... 随着激光基准系统和高精度激光测量系统的发展和应用,推动了超低损耗薄膜技术的发展,进一步控制损耗各分量的大小和分布,需要对光学薄膜总损耗进行测试分析。采用DIBS镀膜工艺在超光滑基底上镀制了高反膜和减反膜,给出了镀膜的工艺方法及工艺参数。通过分析时间衰减法测试总损耗的原理,分别采用时间衰减法和频率扫描法测试了光学薄膜的总损耗,在632.8nm波长点的测试结果为:高反膜层吸收为19.6×10-6,反射率达到99.99686%;减反膜层总损耗为78×10-6。最后对光学薄膜总损耗的构成和工艺改进进行了探讨。 展开更多
关键词 总损耗 测试 分析 高反膜 减反膜
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