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用Hopfield网络计算约束条件下系统熵的最小值 被引量:1
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作者 田宝国 谷可 姜璐 《数学物理学报(A辑)》 CSCD 北大核心 2002年第2期264-269,共6页
有约束条件时系统熵的最小值问题是 NP完全问题 ,该文利用 Hopfield人工神经网络解决组合优化问题的能力计算了此问题 。
关键词 最小值 Hopfied人工神经网络 组合优化
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Bi_4Ti_3O_(12)薄膜及快速退火工艺的研究 被引量:1
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作者 苏学军 李岩 张金春 《兵器材料科学与工程》 CAS CSCD 2002年第3期41-43,50,共4页
采用MOCVD工艺在Ts=4 4 0℃条件下制备组分Bi/Ti=1.4 4的非晶态薄膜 ,经过快速退火处理 ,制备高度择优取向的Bi4Ti3 O12 铁电薄膜 ,在Ts=4 0 0℃条件下制备组分Bi/Ti=1.11的非晶态薄膜 ,经过快速退火处理 ,制备高度择优取向的Bi2 Ti2 O... 采用MOCVD工艺在Ts=4 4 0℃条件下制备组分Bi/Ti=1.4 4的非晶态薄膜 ,经过快速退火处理 ,制备高度择优取向的Bi4Ti3 O12 铁电薄膜 ,在Ts=4 0 0℃条件下制备组分Bi/Ti=1.11的非晶态薄膜 ,经过快速退火处理 ,制备高度择优取向的Bi2 Ti2 O7薄膜 ,较好的退火温度为 6 30℃、时间为 6 0s ;快速退火对薄膜组分的影响不大 ,在相同的退火温度下 ,生成 4 3相还是 2 2相取决于退火前薄膜材料的组分。 展开更多
关键词 Bi4Ti3O12薄膜 快速退火工艺 MOCVD XRD EDAX 铁电薄膜
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钛酸铋薄膜退火时间的研究
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作者 苏学军 李岩 张金春 《兵器材料科学与工程》 CAS CSCD 2002年第5期37-39,51,共4页
采用金属有机化学气相沉积工艺和快速退火工艺 ,在硅 (10 0 )基片上制备高度择优取向的Bi4 Ti3 O12 铁电薄膜 ,运用X射线衍射术分析薄膜材料的结构 ,通过测量材料的电滞回线和漏电流密度 ,研究快速退火对Bi4 Ti3 O12 薄膜电性能的影响... 采用金属有机化学气相沉积工艺和快速退火工艺 ,在硅 (10 0 )基片上制备高度择优取向的Bi4 Ti3 O12 铁电薄膜 ,运用X射线衍射术分析薄膜材料的结构 ,通过测量材料的电滞回线和漏电流密度 ,研究快速退火对Bi4 Ti3 O12 薄膜电性能的影响。在优化的工艺条件下 ,Bi4 Ti3 O12 铁电薄膜的剩余极化强度 (Pr)为 8μC/cm2 ,漏电流密度为 10 -11A/cm2 。 展开更多
关键词 钛酸铋薄膜 退火时间 铁电薄膜 金属有机化学气相沉积 X射线衍射
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快速退火对钛酸铋薄膜微结构和铁电性的影响
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作者 苏学军 李岩 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 2002年第7期13-17,共5页
采用MOCVD与快速退火工艺,制备高度择优取向的Bi4Ti3O12铁电薄膜。运用x射线衍射术分析薄膜材料的结构,x射线显微分析仪测量薄膜材料的组分,并通过电滞回线的测量,研究快速退火对BiTiO薄膜结构和铁电性的影响。
关键词 钛酸铋薄膜 微结构 铁电性 MOCVD 快速退火
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快速退火工艺对钛酸铋薄膜电学性能影响的研究
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作者 苏学军 李岩 《兵器材料科学与工程》 CAS CSCD 2002年第1期35-37,共3页
采用快速退火工艺处理的钛酸铋铁电薄膜 ,矫顽场Ec=9kV/cm ,在室温下剩余极化强度Pr=8μC/cm2 ;退火提高了钛酸铋薄膜的介电常数和材料的绝缘性 ,0 .1MHz附近薄膜材料的介电损耗tgδ<0 .
关键词 极化强度 C-V特性 矫顽场 快速退火 介电 钛酸铋铁电薄膜
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