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表面光电压法研究抛光硅片制造中铁沾污的来源
被引量：
5
1
作者
罗俊一
沈益军
+4 位作者
李刚
刘培东
张锦心
包宗明
黄宜平
《材料科学与工程》
CSCD
北大核心
2001年第1期70-72,66,共4页
铁杂质是硅片制造过程中常见的重金属沾污 ,表面光电压 (SPV)法可很好地用于测定P型硅中铁杂质。本文通过SPV法测试不同流程制造的P型抛光硅片中的铁沾污 ,找到了在P型抛光硅片制造工艺过程中引入铁沾污的主要来源。
关键词
表面光电压法
铁杂质
抛光硅片
半导体材料
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职称材料
龙凤桥T梁拆除施工关键技术
2
作者
李维安
陈洪
《建筑技术开发》
2022年第6期30-32,共3页
城市桥梁改扩建过程中,旧桥拆除是一项重要的内容,其过程涉及桥上保通和桥下通航。正确的拆除方式是在确保各方面安全的前提下,既经济合理又能提高工程的进度。拆除之前首先需要做施工准备,然后针对各部件制订拆除方案,最后还要考虑拆...
城市桥梁改扩建过程中,旧桥拆除是一项重要的内容,其过程涉及桥上保通和桥下通航。正确的拆除方式是在确保各方面安全的前提下,既经济合理又能提高工程的进度。拆除之前首先需要做施工准备,然后针对各部件制订拆除方案,最后还要考虑拆除时桥下的通航方案。以嘉兴市快速路高架桥改扩建过程中龙凤桥拆除为例,介绍大跨径简支梁桥拆除施工技术,为今后类似桥梁拆除提供参考。
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关键词
城市桥梁
改扩建
旧桥拆除
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职称材料
题名
表面光电压法研究抛光硅片制造中铁沾污的来源
被引量：
5
1
作者
罗俊一
沈益军
李刚
刘培东
张锦心
包宗明
黄宜平
机构
上海先进
半导体
有限公司
浙江海纳半导体有限公司
复旦大学电子工程系
硅材料国家重点实验室
复旦大学电子工程系
出处
《材料科学与工程》
CSCD
北大核心
2001年第1期70-72,66,共4页
文摘
铁杂质是硅片制造过程中常见的重金属沾污 ,表面光电压 (SPV)法可很好地用于测定P型硅中铁杂质。本文通过SPV法测试不同流程制造的P型抛光硅片中的铁沾污 ,找到了在P型抛光硅片制造工艺过程中引入铁沾污的主要来源。
关键词
表面光电压法
铁杂质
抛光硅片
半导体材料
Keywords
surface photo voltage method(SPV)
impurity of iron
polished silicon wafer
分类号
TN305.2 [电子电信—物理电子学]
TN304.12 [电子电信—物理电子学]
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职称材料
题名
龙凤桥T梁拆除施工关键技术
2
作者
李维安
陈洪
机构
宁波市政工程建设集团股份
有限公司
浙江海纳半导体有限公司
出处
《建筑技术开发》
2022年第6期30-32,共3页
文摘
城市桥梁改扩建过程中,旧桥拆除是一项重要的内容,其过程涉及桥上保通和桥下通航。正确的拆除方式是在确保各方面安全的前提下,既经济合理又能提高工程的进度。拆除之前首先需要做施工准备,然后针对各部件制订拆除方案,最后还要考虑拆除时桥下的通航方案。以嘉兴市快速路高架桥改扩建过程中龙凤桥拆除为例,介绍大跨径简支梁桥拆除施工技术,为今后类似桥梁拆除提供参考。
关键词
城市桥梁
改扩建
旧桥拆除
Keywords
urban bridge
reconstruction and expansion
old bridge demolition
分类号
TU74 [建筑科学—建筑技术科学]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
表面光电压法研究抛光硅片制造中铁沾污的来源
罗俊一
沈益军
李刚
刘培东
张锦心
包宗明
黄宜平
《材料科学与工程》
CSCD
北大核心
2001
5
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职称材料
2
龙凤桥T梁拆除施工关键技术
李维安
陈洪
《建筑技术开发》
2022
0
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职称材料
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