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封闭磁场非平衡磁控溅射偏压对CrN镀层摩擦学性能影响 被引量:15
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作者 徐雪波 鲍明东 +1 位作者 于磊 孙海林 《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2009年第5期565-569,共5页
采用Teer UDP 650型闭合场非平衡磁控溅射离子镀设备沉积CrN镀层,通过调变偏压获得不同结构和性能的CrN镀层。试验用划痕法测定了镀层结合强度、用球-盘方法测定了镀层摩擦系数和比磨损率、用压入法评价镀层韧性,硬度测试在维氏硬度计... 采用Teer UDP 650型闭合场非平衡磁控溅射离子镀设备沉积CrN镀层,通过调变偏压获得不同结构和性能的CrN镀层。试验用划痕法测定了镀层结合强度、用球-盘方法测定了镀层摩擦系数和比磨损率、用压入法评价镀层韧性,硬度测试在维氏硬度计上进行。实验结果表明,随着溅射偏压的升高,离子速流提高,偏压过低或过高均使沉积速率下降,-50V^-70V偏压时沉积速率基本保持稳定。CrN镀层的硬度随偏压的升高而升高,但伴随着韧性的下降。高偏压下沉积的镀层摩擦系数呈下降趋势,偏压在-40V^-70V间制备的镀层对磨WC球时几乎不磨损,但当偏压从-70V提高到-80V时,磨损明显加剧。 展开更多
关键词 CrN镀层 非平衡磁控溅射 偏压 耐磨性
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含钛MoS_2合金减摩镀层摩擦学性能研究 被引量:4
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作者 熊学慧 徐雪波 +1 位作者 鲍明东 孙海林 《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2011年第2期174-177,共4页
应用闭合磁场非平衡磁控溅射离子镀技术,制备了不同Ti含量的MoS2合金减摩镀层,研究了添加元素Ti含量对镀层厚度、硬度、摩擦系数等的影响规律。结果表明MoS2合金减摩镀层的厚度与添加元素Ti溅射靶的输入功率无关,其硬度随Ti含量增加而... 应用闭合磁场非平衡磁控溅射离子镀技术,制备了不同Ti含量的MoS2合金减摩镀层,研究了添加元素Ti含量对镀层厚度、硬度、摩擦系数等的影响规律。结果表明MoS2合金减摩镀层的厚度与添加元素Ti溅射靶的输入功率无关,其硬度随Ti含量增加而提高。不同Ti含量的镀层摩擦系数呈现出不同的变化规律。Ball-on-disc球盘摩擦磨损试验结果显示高载荷时可能因产生转移膜而使摩擦系数呈减小趋势。 展开更多
关键词 磁控溅射 减摩镀层 硬度 摩擦系数
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离子渗氮用气对后续磁控溅射镀层性能的影响 被引量:5
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作者 王军勇 陈炳州 孙海林 《中国表面工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2011年第3期23-27,F0003,共6页
以40Cr钢为基体材料,进行离子氮化和闭合场非平衡磁控溅射PVD复合表面处理工艺试验。重点探讨用氮、氢混合气体及工业用氨进行离子氮化所得到的白亮层对后续PVD镀层性能的影响。测试了镀层厚度、膜基结合力及摩擦学性能。结果显示,不同... 以40Cr钢为基体材料,进行离子氮化和闭合场非平衡磁控溅射PVD复合表面处理工艺试验。重点探讨用氮、氢混合气体及工业用氨进行离子氮化所得到的白亮层对后续PVD镀层性能的影响。测试了镀层厚度、膜基结合力及摩擦学性能。结果显示,不同渗氮气体得到的复合镀层临界划痕载荷均大于60 N,洛氏压坑边缘均无剥落,但氨处理的压坑边缘有少量坍塌并出现裂纹,表明其白亮层存在缺陷,在球坑试验的试样上也直接观察到缺陷的存在。存在缺陷的白亮层断裂韧性低,压坑试验时,缺陷处启动裂纹并扩展,导致化合物层和PVD镀层的剥落。销盘磨损试验结果表明,用氮和氢混合气体氮化后镀CrTiA lN具有更好的综合摩擦学性能。 展开更多
关键词 40CR钢 离子氮化 磁控溅射 复合表面处理 比磨损率
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载荷对含Cr碳膜摩擦磨损性能影响研究
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作者 葛培林 张海军 +3 位作者 刘小萍 鲍明东 于磊 孙海林 《兵工学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2012年第3期329-333,共5页
用闭合场非平衡磁控溅射技术制备了高硬度含Cr碳膜。分别用压入法和划痕法测定了薄膜的结合强度。薄膜厚度用球坑法表征。用显微硬度计测定了薄膜的努氏硬度。在不同载荷条件下,用Ball-on-disc球盘磨损试验机研究了薄膜的摩擦系数、比... 用闭合场非平衡磁控溅射技术制备了高硬度含Cr碳膜。分别用压入法和划痕法测定了薄膜的结合强度。薄膜厚度用球坑法表征。用显微硬度计测定了薄膜的努氏硬度。在不同载荷条件下,用Ball-on-disc球盘磨损试验机研究了薄膜的摩擦系数、比磨损率的变化规律。分析讨论了载荷对含Cr碳膜摩擦磨损性能的影响。结果发现:随着载荷的提高,对磨钢球时薄膜的摩擦系数呈下降趋势.对磨损轨迹和对磨球磨损表面的扫描电镜(SEM)观察发现存在转移膜现象。对磨球磨损表面的EDX分析结果进一步证明了转移膜的存在。文中还对含Cr碳膜磨损机理进行了分析和讨论。 展开更多
关键词 材料表面与界面 磁控溅射 碳膜 抗磨 减摩
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