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从头算分子动力学模拟Pd团簇负载UiO-66材料结构及稳定性
被引量:
4
1
作者
陈德利
杨鹏勇
+2 位作者
武胜男
何思慧
王芳芳
《高等学校化学学报》
SCIE
EI
CAS
CSCD
北大核心
2017年第7期1210-1215,共6页
采用从头算分子动力学模拟与密度泛函理论相结合的方法,计算模拟了不同尺寸的Pdn(n=1~32)金属团簇在UiO-66孔道中的稳定构型,并对金属团簇与材料骨架之间的作用方式、结合能及骨架形变能等进行了讨论.采用Bader电荷分析方法对该体系的...
采用从头算分子动力学模拟与密度泛函理论相结合的方法,计算模拟了不同尺寸的Pdn(n=1~32)金属团簇在UiO-66孔道中的稳定构型,并对金属团簇与材料骨架之间的作用方式、结合能及骨架形变能等进行了讨论.采用Bader电荷分析方法对该体系的电荷转移情况进行了计算分析.结果表明,Pdn团簇稳定负载于UiO-66材料的四面体笼中,且均呈堆积型构型.当Pd原子个数为28时体系的热力学稳定性最好,这与金属团簇和有机配体的成键方式相关,是金属团簇内部结合能和骨架形变能综合作用的结果.
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关键词
UiO-66
钯金属团簇
从头算分子动力学
密度泛函理论
电荷转移
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职称材料
电子气体净化器现状与趋势
被引量:
4
2
作者
叶向荣
陈刚
周黎旸
《低温与特气》
CAS
2015年第2期1-6,共6页
电子气体净化器是对电子气体进行在线净化,使主要杂质含量由10-6级降低到10-9、10-12级的关键纯化装置。与电子气体一样,同属我国亟待发展的战略资源与关键技术。从技术和市场角度,对电子气体净化器国内外现状和发展做总体性概括、介绍...
电子气体净化器是对电子气体进行在线净化,使主要杂质含量由10-6级降低到10-9、10-12级的关键纯化装置。与电子气体一样,同属我国亟待发展的战略资源与关键技术。从技术和市场角度,对电子气体净化器国内外现状和发展做总体性概括、介绍和展望。
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关键词
净化器
电子气体
在线净化
净化材料
痕量杂质
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职称材料
基于表面官能团反应的HCl电子气体深度除水研究
被引量:
4
3
作者
叶向荣
刘华平
+4 位作者
黄明星
张广第
李军
陈刚
张坚文
《低温与特气》
CAS
2020年第2期1-10,共10页
HCl电子气体是集成电路制程中刻蚀和清洗的关键气体,其水分、金属离子等有害杂质需严格控制,ppbv(10-9)级深度除水对保障HCl电子气体的纯度、品质稳定性和制程应用效果至关重要。常规活性炭虽然耐HCl腐蚀,具有较高比表面积,但除水活性...
HCl电子气体是集成电路制程中刻蚀和清洗的关键气体,其水分、金属离子等有害杂质需严格控制,ppbv(10-9)级深度除水对保障HCl电子气体的纯度、品质稳定性和制程应用效果至关重要。常规活性炭虽然耐HCl腐蚀,具有较高比表面积,但除水活性有限。该工作对活性炭进行了酰氯化修饰,并研究了酰氯化活性炭对HCl电子气体的深度除水作用。结果表明,活性炭经氧化酸化和酰氯化处理后,形成的表面酰氯化官能团可选择性地与HCl电子气体中的ppmv(10-6)级水分反应,将水分转化为HCl,使HCl电子气体中水分降至ppbv级,同时自身水解生成表面羧基等官能团,对存在HCl电子气体中和活性炭可能释出的痕量金属离子,有吸附阻滞作用,抑制了深度除水后HCl电子气体中金属离子的显著增加。由于表面羧基等官能团可重新酰氯化,活性炭材料对HCl电子气体的高效、选择性深度除水能力再生成为可能。该工作也为探索石墨烯、碳纳米管等新型碳材料在电子气体深度纯化上的新应用提供了依据。
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关键词
氯化氢电子气体
深度除水
活性炭
酰氯化
表面官能团
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职称材料
HCl电子气体超纯纯化技术研究
被引量:
3
4
作者
叶向荣
刘华平
+4 位作者
黄明星
钟军
张坚文
王树华
陈刚
《低温与特气》
CAS
2019年第1期34-39,共6页
报道了负载型超纯纯化材料及实验纯化器自主研发进展。通过超纯纯化,5N HCl电子气体中的水分,可由10-6(体积分数)级降至100×10-9(体积分数)以下,且重现性良好,水分最低降至12×10-9(体积分数);纯化过程不额外释出痕量的挥发性...
报道了负载型超纯纯化材料及实验纯化器自主研发进展。通过超纯纯化,5N HCl电子气体中的水分,可由10-6(体积分数)级降至100×10-9(体积分数)以下,且重现性良好,水分最低降至12×10-9(体积分数);纯化过程不额外释出痕量的挥发性金属杂质,对HCl中的多数金属杂质有吸附滞留作用。
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关键词
纯化材料
纯化器
氯化氢
深度除水
吸附滞留
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职称材料
题名
从头算分子动力学模拟Pd团簇负载UiO-66材料结构及稳定性
被引量:
4
1
作者
陈德利
杨鹏勇
武胜男
何思慧
王芳芳
机构
浙江师范大学先进催化材料教育部重点实验室
浙江师范大学
化学与生命科学学院
出处
《高等学校化学学报》
SCIE
EI
CAS
CSCD
北大核心
2017年第7期1210-1215,共6页
基金
浙江省自然科学基金(批准号:LQ14B030001)
国家自然科学基金(批准号:21403198
21303165)资助~~
文摘
采用从头算分子动力学模拟与密度泛函理论相结合的方法,计算模拟了不同尺寸的Pdn(n=1~32)金属团簇在UiO-66孔道中的稳定构型,并对金属团簇与材料骨架之间的作用方式、结合能及骨架形变能等进行了讨论.采用Bader电荷分析方法对该体系的电荷转移情况进行了计算分析.结果表明,Pdn团簇稳定负载于UiO-66材料的四面体笼中,且均呈堆积型构型.当Pd原子个数为28时体系的热力学稳定性最好,这与金属团簇和有机配体的成键方式相关,是金属团簇内部结合能和骨架形变能综合作用的结果.
关键词
UiO-66
钯金属团簇
从头算分子动力学
密度泛函理论
电荷转移
Keywords
UiO-66
transfer UiO-66, which could be used as the models for further investigations of the reaction @ UiO-66 as catalysts. Pd metal cluster
Ab initio molecular dynamics
Density functional theory
Charge
分类号
O641 [理学—物理化学]
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职称材料
题名
电子气体净化器现状与趋势
被引量:
4
2
作者
叶向荣
陈刚
周黎旸
机构
浙江
巨化股份有限公司
浙江师范大学先进催化材料教育部重点实验室
出处
《低温与特气》
CAS
2015年第2期1-6,共6页
文摘
电子气体净化器是对电子气体进行在线净化,使主要杂质含量由10-6级降低到10-9、10-12级的关键纯化装置。与电子气体一样,同属我国亟待发展的战略资源与关键技术。从技术和市场角度,对电子气体净化器国内外现状和发展做总体性概括、介绍和展望。
关键词
净化器
电子气体
在线净化
净化材料
痕量杂质
Keywords
purifier
electronic gas
online purification
purification media
trace impurity
分类号
TQ116 [化学工程—无机化工]
在线阅读
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职称材料
题名
基于表面官能团反应的HCl电子气体深度除水研究
被引量:
4
3
作者
叶向荣
刘华平
黄明星
张广第
李军
陈刚
张坚文
机构
浙江
博瑞电子科技有限公司
浙江师范大学先进催化材料教育部重点实验室
衢州氟硅技术研究院
出处
《低温与特气》
CAS
2020年第2期1-10,共10页
基金
国家重点研发计划项目课题(2017YFB04055801)。
文摘
HCl电子气体是集成电路制程中刻蚀和清洗的关键气体,其水分、金属离子等有害杂质需严格控制,ppbv(10-9)级深度除水对保障HCl电子气体的纯度、品质稳定性和制程应用效果至关重要。常规活性炭虽然耐HCl腐蚀,具有较高比表面积,但除水活性有限。该工作对活性炭进行了酰氯化修饰,并研究了酰氯化活性炭对HCl电子气体的深度除水作用。结果表明,活性炭经氧化酸化和酰氯化处理后,形成的表面酰氯化官能团可选择性地与HCl电子气体中的ppmv(10-6)级水分反应,将水分转化为HCl,使HCl电子气体中水分降至ppbv级,同时自身水解生成表面羧基等官能团,对存在HCl电子气体中和活性炭可能释出的痕量金属离子,有吸附阻滞作用,抑制了深度除水后HCl电子气体中金属离子的显著增加。由于表面羧基等官能团可重新酰氯化,活性炭材料对HCl电子气体的高效、选择性深度除水能力再生成为可能。该工作也为探索石墨烯、碳纳米管等新型碳材料在电子气体深度纯化上的新应用提供了依据。
关键词
氯化氢电子气体
深度除水
活性炭
酰氯化
表面官能团
Keywords
HCl electronic gas
deep dehydration
activated carbon
chlorination
surface functional groups
分类号
TQ117 [化学工程—无机化工]
在线阅读
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职称材料
题名
HCl电子气体超纯纯化技术研究
被引量:
3
4
作者
叶向荣
刘华平
黄明星
钟军
张坚文
王树华
陈刚
机构
浙江
博瑞电子科技有限公司
浙江师范大学先进催化材料教育部重点实验室
衢州氟硅技术研究院
出处
《低温与特气》
CAS
2019年第1期34-39,共6页
基金
国家重点研发计划项目课题(2017YFB0405801)
文摘
报道了负载型超纯纯化材料及实验纯化器自主研发进展。通过超纯纯化,5N HCl电子气体中的水分,可由10-6(体积分数)级降至100×10-9(体积分数)以下,且重现性良好,水分最低降至12×10-9(体积分数);纯化过程不额外释出痕量的挥发性金属杂质,对HCl中的多数金属杂质有吸附滞留作用。
关键词
纯化材料
纯化器
氯化氢
深度除水
吸附滞留
Keywords
purification media
purifier
HCl
deep dehydration
adsorptive retention
分类号
TQ117 [化学工程—无机化工]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
从头算分子动力学模拟Pd团簇负载UiO-66材料结构及稳定性
陈德利
杨鹏勇
武胜男
何思慧
王芳芳
《高等学校化学学报》
SCIE
EI
CAS
CSCD
北大核心
2017
4
在线阅读
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职称材料
2
电子气体净化器现状与趋势
叶向荣
陈刚
周黎旸
《低温与特气》
CAS
2015
4
在线阅读
下载PDF
职称材料
3
基于表面官能团反应的HCl电子气体深度除水研究
叶向荣
刘华平
黄明星
张广第
李军
陈刚
张坚文
《低温与特气》
CAS
2020
4
在线阅读
下载PDF
职称材料
4
HCl电子气体超纯纯化技术研究
叶向荣
刘华平
黄明星
钟军
张坚文
王树华
陈刚
《低温与特气》
CAS
2019
3
在线阅读
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职称材料
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