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从头算分子动力学模拟Pd团簇负载UiO-66材料结构及稳定性 被引量:4
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作者 陈德利 杨鹏勇 +2 位作者 武胜男 何思慧 王芳芳 《高等学校化学学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2017年第7期1210-1215,共6页
采用从头算分子动力学模拟与密度泛函理论相结合的方法,计算模拟了不同尺寸的Pdn(n=1~32)金属团簇在UiO-66孔道中的稳定构型,并对金属团簇与材料骨架之间的作用方式、结合能及骨架形变能等进行了讨论.采用Bader电荷分析方法对该体系的... 采用从头算分子动力学模拟与密度泛函理论相结合的方法,计算模拟了不同尺寸的Pdn(n=1~32)金属团簇在UiO-66孔道中的稳定构型,并对金属团簇与材料骨架之间的作用方式、结合能及骨架形变能等进行了讨论.采用Bader电荷分析方法对该体系的电荷转移情况进行了计算分析.结果表明,Pdn团簇稳定负载于UiO-66材料的四面体笼中,且均呈堆积型构型.当Pd原子个数为28时体系的热力学稳定性最好,这与金属团簇和有机配体的成键方式相关,是金属团簇内部结合能和骨架形变能综合作用的结果. 展开更多
关键词 UiO-66 钯金属团簇 从头算分子动力学 密度泛函理论 电荷转移
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电子气体净化器现状与趋势 被引量:4
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作者 叶向荣 陈刚 周黎旸 《低温与特气》 CAS 2015年第2期1-6,共6页
电子气体净化器是对电子气体进行在线净化,使主要杂质含量由10-6级降低到10-9、10-12级的关键纯化装置。与电子气体一样,同属我国亟待发展的战略资源与关键技术。从技术和市场角度,对电子气体净化器国内外现状和发展做总体性概括、介绍... 电子气体净化器是对电子气体进行在线净化,使主要杂质含量由10-6级降低到10-9、10-12级的关键纯化装置。与电子气体一样,同属我国亟待发展的战略资源与关键技术。从技术和市场角度,对电子气体净化器国内外现状和发展做总体性概括、介绍和展望。 展开更多
关键词 净化器 电子气体 在线净化 净化材料 痕量杂质
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基于表面官能团反应的HCl电子气体深度除水研究 被引量:4
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作者 叶向荣 刘华平 +4 位作者 黄明星 张广第 李军 陈刚 张坚文 《低温与特气》 CAS 2020年第2期1-10,共10页
HCl电子气体是集成电路制程中刻蚀和清洗的关键气体,其水分、金属离子等有害杂质需严格控制,ppbv(10-9)级深度除水对保障HCl电子气体的纯度、品质稳定性和制程应用效果至关重要。常规活性炭虽然耐HCl腐蚀,具有较高比表面积,但除水活性... HCl电子气体是集成电路制程中刻蚀和清洗的关键气体,其水分、金属离子等有害杂质需严格控制,ppbv(10-9)级深度除水对保障HCl电子气体的纯度、品质稳定性和制程应用效果至关重要。常规活性炭虽然耐HCl腐蚀,具有较高比表面积,但除水活性有限。该工作对活性炭进行了酰氯化修饰,并研究了酰氯化活性炭对HCl电子气体的深度除水作用。结果表明,活性炭经氧化酸化和酰氯化处理后,形成的表面酰氯化官能团可选择性地与HCl电子气体中的ppmv(10-6)级水分反应,将水分转化为HCl,使HCl电子气体中水分降至ppbv级,同时自身水解生成表面羧基等官能团,对存在HCl电子气体中和活性炭可能释出的痕量金属离子,有吸附阻滞作用,抑制了深度除水后HCl电子气体中金属离子的显著增加。由于表面羧基等官能团可重新酰氯化,活性炭材料对HCl电子气体的高效、选择性深度除水能力再生成为可能。该工作也为探索石墨烯、碳纳米管等新型碳材料在电子气体深度纯化上的新应用提供了依据。 展开更多
关键词 氯化氢电子气体 深度除水 活性炭 酰氯化 表面官能团
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HCl电子气体超纯纯化技术研究 被引量:3
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作者 叶向荣 刘华平 +4 位作者 黄明星 钟军 张坚文 王树华 陈刚 《低温与特气》 CAS 2019年第1期34-39,共6页
报道了负载型超纯纯化材料及实验纯化器自主研发进展。通过超纯纯化,5N HCl电子气体中的水分,可由10-6(体积分数)级降至100×10-9(体积分数)以下,且重现性良好,水分最低降至12×10-9(体积分数);纯化过程不额外释出痕量的挥发性... 报道了负载型超纯纯化材料及实验纯化器自主研发进展。通过超纯纯化,5N HCl电子气体中的水分,可由10-6(体积分数)级降至100×10-9(体积分数)以下,且重现性良好,水分最低降至12×10-9(体积分数);纯化过程不额外释出痕量的挥发性金属杂质,对HCl中的多数金属杂质有吸附滞留作用。 展开更多
关键词 纯化材料 纯化器 氯化氢 深度除水 吸附滞留
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