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原位电学引入PbTiO_(3)铁电薄膜高密度90°畴的研究
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作者 李柱 刘中然 +2 位作者 陈嘉璐 任召辉 田鹤 《电子显微学报》 北大核心 2025年第2期145-152,共8页
铁电薄膜材料在低功耗、高密度信息存储领域具有广阔的应用前景,有望制造高性能微电子器件。尤其是铁电体中的90°畴,在提高压电响应、应变协调以及柔性器件的性能中发挥着关键作用。大多数90°畴的形成是通过晶格失配、改变沉... 铁电薄膜材料在低功耗、高密度信息存储领域具有广阔的应用前景,有望制造高性能微电子器件。尤其是铁电体中的90°畴,在提高压电响应、应变协调以及柔性器件的性能中发挥着关键作用。大多数90°畴的形成是通过晶格失配、改变沉积温度和速率等生长条件获得的,90°畴的生成难以精确可控,制约了90°畴在铁电薄膜中的应用。因此,本文采用原位电学方法,在PbTiO_(3)铁电薄膜中生成了高密度90°畴和类涡旋畴,通过对外加电场下90°畴的动态形成和原子级结构的研究,为铁电薄膜中90°畴的调控与应用了提供新的方法和理论依据。 展开更多
关键词 原位透射电子显微镜 铁电薄膜 PbTiO_(3) 90°畴
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束带状WO_(3)的水热法制备及其吸附性能
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作者 周婧 曾安平 +3 位作者 谢君樑 赵高凌 柯星 韩高荣 《材料科学与工程学报》 CAS CSCD 北大核心 2021年第3期355-359,436,共6页
采用D/L型甲硫氨酸作为添加剂,使用一步水热法制备了微米级束带状六方相WO3,考察了甲硫氨酸添加量对WO_(3)晶体结构、微观形貌和吸附性能的影响。研究结果表明,D/L型甲硫氨酸对六方相WO3起结构导向剂的作用。当甲硫氨酸添加量为0.05g时,... 采用D/L型甲硫氨酸作为添加剂,使用一步水热法制备了微米级束带状六方相WO3,考察了甲硫氨酸添加量对WO_(3)晶体结构、微观形貌和吸附性能的影响。研究结果表明,D/L型甲硫氨酸对六方相WO3起结构导向剂的作用。当甲硫氨酸添加量为0.05g时,WO3纳米棒沿[001]方向定向生长,并相互附着形成均一的微米级束带状形貌。在吸附测试中,WO_(3)样品对亚甲基蓝表现出优秀的吸附性能,25mg样品在3min内对亚甲基蓝(20mg/L)的吸附量为37.1mg/g,在废水处理等领域中有广阔的应用前景。 展开更多
关键词 三氧化钨 甲硫氨酸 吸附性能 水热法
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低温大载荷冲击下纯铜的微观组织演变 被引量:4
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作者 王琪明 刘中亭 +1 位作者 王正山 宫海龙 《材料科学与工程学报》 CAS CSCD 北大核心 2015年第6期843-846 817,817,共5页
本文提出了一种低温大载荷冲击制备块体超细晶纯铜材料的新方法。通过金相、透射电镜和显微硬度测试,研究了粗晶纯铜低温大载荷冲击变形后的微观组织演变以及退火处理对其微观组织的影响。结果表明,粗晶纯铜经低温大载荷冲击后晶粒得到... 本文提出了一种低温大载荷冲击制备块体超细晶纯铜材料的新方法。通过金相、透射电镜和显微硬度测试,研究了粗晶纯铜低温大载荷冲击变形后的微观组织演变以及退火处理对其微观组织的影响。结果表明,粗晶纯铜经低温大载荷冲击后晶粒得到明显细化。应变量为2.21时,材料内部出现高密度位错,晶粒在横截面上为等轴状,尺寸150~450nm;纵截面上为板条状,宽度30~220nm。粗晶纯铜低温大载荷冲击晶粒细化机制主要包括位错胞演变、动态再结晶和机械孪晶细化。经190℃退火60min后,材料内部高密度位错消失,晶粒在横截面上仍为等轴状,尺寸200~450nm;纵截面上仍为板条状,宽度70~100nm。 展开更多
关键词 低温 大载荷冲击 纯铜 超细晶 晶粒细化
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含有YAG∶Ce^(3+)和CASN∶Eu^(2+)的LED照明多相荧光玻璃陶瓷 被引量:1
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作者 何梦婷 乔旭升 樊先平 《材料科学与工程学报》 CAS CSCD 北大核心 2022年第6期909-914,939,共7页
采用热压烧结法制备得到了一种掺有YAG∶Ce^(3+)黄色荧光粉和CASN∶Eu^(2+)红色荧光粉的烧结玻璃陶瓷。利用X射线衍射仪、扫描电子显微镜和荧光光谱仪对比研究了热压烧结后的烧结玻璃陶瓷和烧结前荧光粉的晶体结构和微观形貌方面的变化... 采用热压烧结法制备得到了一种掺有YAG∶Ce^(3+)黄色荧光粉和CASN∶Eu^(2+)红色荧光粉的烧结玻璃陶瓷。利用X射线衍射仪、扫描电子显微镜和荧光光谱仪对比研究了热压烧结后的烧结玻璃陶瓷和烧结前荧光粉的晶体结构和微观形貌方面的变化,结果显示,荧光相在玻璃基质中没有发生聚集现象,且不会被玻璃基质侵蚀,能保持其发光性能。光谱研究和光电参数分析显示,在YAG∶Ce^(3+)黄色荧光粉中引入CASN∶Eu^(2+)红色荧光粉,可以有效改善其发光性能,其中显色指数最高为90,色温为4787 K,明显改善了商用LED照明器件色温高,显色指数低等问题。 展开更多
关键词 发光二极管 玻璃陶瓷 热压烧结法 荧光粉
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掺杂及分子修饰对类金刚石细胞相容性的影响
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作者 刘敏 刘爱萍 +1 位作者 郁建灿 钱国栋 《浙江大学学报(工学版)》 EI CAS CSCD 北大核心 2015年第9期1790-1795,1804,共7页
为实现类金刚石(DLC)薄膜在不同使用环境下生物相容性的可调性,采用元素掺杂及化学分子修饰对DLC薄膜表面进行改性,借助X射线光电子能谱、拉曼光谱及静态接触角测试表征薄膜的表面形貌和微观结构,探究掺杂及分子修饰对薄膜细胞相容性的... 为实现类金刚石(DLC)薄膜在不同使用环境下生物相容性的可调性,采用元素掺杂及化学分子修饰对DLC薄膜表面进行改性,借助X射线光电子能谱、拉曼光谱及静态接触角测试表征薄膜的表面形貌和微观结构,探究掺杂及分子修饰对薄膜细胞相容性的影响.结果显示:B、N、P、Pt元素掺杂以及3-氨基苯硼酸(APBA)修饰均没有改变薄膜非晶结构,只是提高薄膜有序程度.B、N、P元素的掺入减小了DLC薄膜的接触角,而N、Pt元素共掺使接触角变化不大.APBA修饰使各种DLC薄膜的接触角均减小.B、N、P元素的掺入促进PC12细胞的黏附与增殖,抑制细胞凋亡,而Pt元素的掺入起相反的作用,APBA修饰对细胞生长有明显促进作用.这说明元素掺杂及分子修饰是调节DLC薄膜细胞相容性的有效方法. 展开更多
关键词 类金刚石(DLC)薄膜 掺杂 化学修饰 细胞黏附 细胞增殖
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