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大直径单晶生长中稳定真空度和优化气流控制的改进措施 被引量:1
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作者 蒋科坚 许真知 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 2004年第2期1-3,共3页
随着国内大直径直拉单晶技术的发展,一些原先在小直径单晶中并未引起重视的问题,对大直径单晶生长的负面影响日渐显现。大直径单晶对其生长环境有很高的稳定性要求。本文就其中真空度的稳定和气流控制的优化两个方面,提出了改进方案,以... 随着国内大直径直拉单晶技术的发展,一些原先在小直径单晶中并未引起重视的问题,对大直径单晶生长的负面影响日渐显现。大直径单晶对其生长环境有很高的稳定性要求。本文就其中真空度的稳定和气流控制的优化两个方面,提出了改进方案,以提高大直径单晶生长的成晶率和内在品质。 展开更多
关键词 大直径单晶 直拉法 真空稳定性 气流控制 半导体 硅单晶
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