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基于数字微流控芯片的多通路水相^(18)F标记工艺
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作者 缪立威 姚琼 +8 位作者 牟钊彪 陈俊威 金晨涛 钟燕 李子婧 王菁 张宏 杜培臻 和庆钢 《高校化学工程学报》 北大核心 2025年第3期441-447,共7页
研发一种基于数字微流控(DMF)芯片技术的小体积多通路^(18)F标记工艺,并以该工艺合成^(18)F标记的放射性化合物。方法利用激光刻蚀磁控溅射技术,以氧化铟锡导电玻璃及特氟龙材料制作DMF芯片。在DMF芯片上进行^(18)F标记放射性化合物的... 研发一种基于数字微流控(DMF)芯片技术的小体积多通路^(18)F标记工艺,并以该工艺合成^(18)F标记的放射性化合物。方法利用激光刻蚀磁控溅射技术,以氧化铟锡导电玻璃及特氟龙材料制作DMF芯片。在DMF芯片上进行^(18)F标记放射性化合物的多通道合成,并通过放射化学转化率(RCCs)筛选最适合的合成条件。DMF芯片底片体积为10 cm×10 cm×1.1 mm,合成通道为6组,加热范围为室温至80℃。实现了同时多通道不同前体浓度、不同反应时间的水相^(18)F标记。合成出的^(18)F标记放射性化合物的RCCs为96.8%,产品放化纯度大于99%。结果表明,相较于传统的放射性化学合成方式,介质上电润湿数字微流控(EWOD-DMF)技术可以在同一时间内进行不同体系的放射性化学合成,可以极大的节省优化合成条件的时间,并且可以得到更高的RCCs,推动新的放射性化合物更快的进入应用。 展开更多
关键词 数字微流控芯片 放射性药物 氟-18 水相标记
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