耐HCl和水协同腐蚀、低二次杂质释出是吸附材料用于HCl电子气体深度除水的先决条件。在考察了一系列工业化硅铝酸盐分子筛的耐蚀性、杂质释出和真实HCl电子气体环境下的深度除水性能后证实,硅铝酸盐分子筛的耐蚀性和除水性能与硅铝摩尔...耐HCl和水协同腐蚀、低二次杂质释出是吸附材料用于HCl电子气体深度除水的先决条件。在考察了一系列工业化硅铝酸盐分子筛的耐蚀性、杂质释出和真实HCl电子气体环境下的深度除水性能后证实,硅铝酸盐分子筛的耐蚀性和除水性能与硅铝摩尔比(SiO_(2)/Al_(2)O_(3)摩尔比)密切相关。硅铝摩尔比为2的分子筛耐蚀性较差,硅铝摩尔比为16~360的分子筛均具有较好的耐蚀性;硅铝摩尔比介于2~300之间的分子筛可将HCl电子气体中约2μL/L水分脱除至130~200 n L/L,除水效率与速度均随硅铝摩尔比增加呈下降趋势。根据上述规律开发的MS-1分子筛可脱除HCl电子气体中的水分至约160 nL/L,MS-1分子筛经改性后则可将水分除至<100 nL/L,且对HCl中的金属离子无显著影响。展开更多
文摘耐HCl和水协同腐蚀、低二次杂质释出是吸附材料用于HCl电子气体深度除水的先决条件。在考察了一系列工业化硅铝酸盐分子筛的耐蚀性、杂质释出和真实HCl电子气体环境下的深度除水性能后证实,硅铝酸盐分子筛的耐蚀性和除水性能与硅铝摩尔比(SiO_(2)/Al_(2)O_(3)摩尔比)密切相关。硅铝摩尔比为2的分子筛耐蚀性较差,硅铝摩尔比为16~360的分子筛均具有较好的耐蚀性;硅铝摩尔比介于2~300之间的分子筛可将HCl电子气体中约2μL/L水分脱除至130~200 n L/L,除水效率与速度均随硅铝摩尔比增加呈下降趋势。根据上述规律开发的MS-1分子筛可脱除HCl电子气体中的水分至约160 nL/L,MS-1分子筛经改性后则可将水分除至<100 nL/L,且对HCl中的金属离子无显著影响。
