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钴钝化多孔硅的制备及其场发射特性研究 被引量:2
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作者 曾凡光 刘兴辉 +1 位作者 朱长纯 王文卫 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2005年第4期604-605,609,共3页
采用化学染色腐蚀法在Co(NO3)2 和HF酸组成的腐蚀液中制备了钴钝化多孔硅,其表面形貌由垂直于表面分布的尺度为0.5~1.5μm 的硅尖组成,部分硅尖顶端还有0.1~0.5μm的圆形孔洞,硅尖的面密度约为1.0×108 个/cm2,多孔硅层厚度约为2μm... 采用化学染色腐蚀法在Co(NO3)2 和HF酸组成的腐蚀液中制备了钴钝化多孔硅,其表面形貌由垂直于表面分布的尺度为0.5~1.5μm 的硅尖组成,部分硅尖顶端还有0.1~0.5μm的圆形孔洞,硅尖的面密度约为1.0×108 个/cm2,多孔硅层厚度约为2μm。XPS分析结果表明,钴原子仅存在于多孔硅表面非常薄的一层内。其场发射具有较好的可靠性和可重复性,开启场强一般为2.3V/μm 左右,场强为5.4V/μm时,亮点均匀而且密集,发射电流密度达到30μA/cm2 左右。 展开更多
关键词 多孔硅 场发射
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电去离子替代混床的超纯水制备技术 被引量:3
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作者 黄宝能 王飞 张波 《水处理技术》 CAS CSCD 北大核心 2006年第11期77-79,共3页
介绍了国产电去离子装置代替混床制备电子工业超纯水的工艺流程、运行参数、经济效益、运行管理经验。长达14个月的连续运行表明,该系统的产水量为32m3/h时,产水水质达到16MΩ.cm以上。该工艺系统运行可靠,产水水质稳定,无污水排放,运... 介绍了国产电去离子装置代替混床制备电子工业超纯水的工艺流程、运行参数、经济效益、运行管理经验。长达14个月的连续运行表明,该系统的产水量为32m3/h时,产水水质达到16MΩ.cm以上。该工艺系统运行可靠,产水水质稳定,无污水排放,运行费用明显降低,同时工人的劳动强度和生产环境得到改善。 展开更多
关键词 电去离子 EDI 混床 超纯水
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