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n^(+)/n^(-)型硅衬底扩散片X_(jn+)理论分析与测试方法优化
1
作者 张现磊 李立谦 +1 位作者 周涛 张志林 《半导体技术》 CAS 北大核心 2025年第1期39-45,共7页
n型衬底扩散片扩散深度(X_(jn+))是n^(+)/n^(-)型硅衬底扩散片最重要的参数之一,X_(jn+)的理论计算对磷扩散生产和X_(jn+)测试具有重要的指导意义。但现有扩散理论计算结果与实验数据差异较大,需更精准的计算方法。通过实验对X_(jn+)的... n型衬底扩散片扩散深度(X_(jn+))是n^(+)/n^(-)型硅衬底扩散片最重要的参数之一,X_(jn+)的理论计算对磷扩散生产和X_(jn+)测试具有重要的指导意义。但现有扩散理论计算结果与实验数据差异较大,需更精准的计算方法。通过实验对X_(jn+)的测试与理论计算结果进行对比分析,引入了修正系数k_(n)与k_(p),得到理论计算与测试结果吻合的X_(jn+)计算方法。并根据修正后的计算方法对染色法测试X_(jn+)进行了优化。新的X_(jn+)计算方法得到的结果与测试结果差异小于2%,可用于指导生产,且优化后的X_(jn+)测试方法更加便捷。 展开更多
关键词 衬底扩散片 扩散系数修正 协同扩散 n型衬底扩散片扩散深度(X_(jn+))计算 X_(jn+)测试方法优化
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卧式扩散炉管的硅热氧化均匀性
2
作者 李立谦 张现磊 +1 位作者 周涛 张志林 《半导体技术》 北大核心 2025年第2期187-193,共7页
基于卧式扩散炉管的硅热氧化工艺,对影响SiO_(2)薄膜厚度均匀性的工装和工艺气体体积流量进行了研究,并使用数学模型对不同工装条件下炉管内气体流动分布及平衡态气体体积流量进行分析和讨论。测试结果和分析结论表明,保证炉管出气口的... 基于卧式扩散炉管的硅热氧化工艺,对影响SiO_(2)薄膜厚度均匀性的工装和工艺气体体积流量进行了研究,并使用数学模型对不同工装条件下炉管内气体流动分布及平衡态气体体积流量进行分析和讨论。测试结果和分析结论表明,保证炉管出气口的气密性对生成的SiO_(2)薄膜厚度的均匀性至关重要。在通入O_(2)量可携带足够H2O蒸气进入扩散炉管中参与反应的情况下,SiO_(2)薄膜厚度的均匀性与通入O_(2)体积流量无关。当通入O_(2)体积流量过小时,其携带入的H2O蒸气不足,造成SiO_(2)薄膜厚度的均匀性差。在加装石英挡板且O_(2)体积流量为1.5 L/min时,可在卧式扩散炉管中制备出厚度不均匀性小于1%的SiO_(2)薄膜。对于理解硅的热氧化过程中的动力学分布和提升SiO_(2)薄膜厚度均匀性有着重要的意义。 展开更多
关键词 卧式扩散炉管 气体体积流量 气体流动分布 气密性 均匀性
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