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碱液修饰对硅纳米线阵列电池光谱响应的影响 被引量:1
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作者 蒋玉荣 秦瑞平 +5 位作者 边长贤 黄静 胡晓峰 杨海刚 马恒 常方高 《发光学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2012年第9期996-1000,共5页
采用金属催化化学腐蚀法在p型(100)硅基底上制备了硅纳米阵列,然后用碱溶液对纳米线阵列进行修饰。分别研究了碱液修饰对硅纳米线阵列形貌、光电性质的影响。研究表明:与绒面及纳米线阵列相比,碱修饰30 s硅纳米线阵列的表面分散均匀,反... 采用金属催化化学腐蚀法在p型(100)硅基底上制备了硅纳米阵列,然后用碱溶液对纳米线阵列进行修饰。分别研究了碱液修饰对硅纳米线阵列形貌、光电性质的影响。研究表明:与绒面及纳米线阵列相比,碱修饰30 s硅纳米线阵列的表面分散均匀,反射率降低;光谱响应度显著提高,并且出现最大量子效率对应波长红移现象。最后,详细讨论了碱液修饰硅纳米线阵列电池对光谱响应的影响机制。 展开更多
关键词 碱液修饰 量子效率 光谱响应 表面复合 红移
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