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衬底温度对ZnO薄膜生长过程和微结构的影响 被引量:6
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作者 刘永利 刘欢 +2 位作者 李蔚 赵骞 祁阳 《物理化学学报》 SCIE CAS CSCD 北大核心 2013年第3期631-638,共8页
从原子尺度上去研究薄膜生长过程中温度对薄膜取向性、缺陷结构以及薄膜完整性的影响和作用规律,对于解释薄膜生长的物理本质、控制生长条件、提高薄膜制备的质量具有重要意义.本文应用基于反应力场的分子动力学方法研究了ZnO薄膜(000l... 从原子尺度上去研究薄膜生长过程中温度对薄膜取向性、缺陷结构以及薄膜完整性的影响和作用规律,对于解释薄膜生长的物理本质、控制生长条件、提高薄膜制备的质量具有重要意义.本文应用基于反应力场的分子动力学方法研究了ZnO薄膜(000l)表面作为衬底的薄膜沉积生长过程,初步讨论了衬底温度(200、500和800K)变化对沉积较薄ZnO膜质量的影响,部分结果与实验观察相符.结果表明,衬底温度在500K左右时,沉积原子结构径向分布函数曲线特征峰尖锐、明显,有序度较高,注入和溅射对薄膜完整性影响较小,沉积形成的薄膜结构稳定而又致密.在预置衬底表面平坦的情况下薄膜呈现一种链岛状的生长模式,每原子层均具有两种生长取向,导致其生长前锋交汇处形成了一种新的有序缺陷. 展开更多
关键词 分子动力学方法 薄膜生长 微结构 ZNO
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