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脉冲激光沉积(PLD)机理分析及其应用
被引量：
4
1
作者
江辉明
叶志清
曾明生
《江西师范大学学报（自然科学版）》
CAS
北大核心
2005年第1期53-57,共5页
脉冲激光沉积薄膜是近年来发展起来的使用范围最广,最有希望的制膜技术.该文阐述了脉冲激光沉积技术的机理、特点,薄膜生长主要包括三个过程:1)激光与物质相互作用产生等离子体;2)等离子体向基片扩散;3)等离子体中粒子在基片上生长薄膜...
脉冲激光沉积薄膜是近年来发展起来的使用范围最广,最有希望的制膜技术.该文阐述了脉冲激光沉积技术的机理、特点,薄膜生长主要包括三个过程:1)激光与物质相互作用产生等离子体;2)等离子体向基片扩散;3)等离子体中粒子在基片上生长薄膜.文章还分析了脉冲沉积过程中各主要沉积参数,如激光能量密度、沉积气压和衬底情况等对薄膜质量的影响,并介绍了其在制备半导体、高温超导、类金刚石、生物陶瓷薄膜等方面的应用.
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关键词
脉冲激光沉积
等离子体
薄膜
介电常数
折射率
光学吸收系数
等离子体
铁电材料
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职称材料
题名
脉冲激光沉积(PLD)机理分析及其应用
被引量：
4
1
作者
江辉明
叶志清
曾明生
机构
江西省电子重点实验室
出处
《江西师范大学学报（自然科学版）》
CAS
北大核心
2005年第1期53-57,共5页
文摘
脉冲激光沉积薄膜是近年来发展起来的使用范围最广,最有希望的制膜技术.该文阐述了脉冲激光沉积技术的机理、特点,薄膜生长主要包括三个过程:1)激光与物质相互作用产生等离子体;2)等离子体向基片扩散;3)等离子体中粒子在基片上生长薄膜.文章还分析了脉冲沉积过程中各主要沉积参数,如激光能量密度、沉积气压和衬底情况等对薄膜质量的影响,并介绍了其在制备半导体、高温超导、类金刚石、生物陶瓷薄膜等方面的应用.
关键词
脉冲激光沉积
等离子体
薄膜
介电常数
折射率
光学吸收系数
等离子体
铁电材料
Keywords
Pulsed laser deposition
plasma
thin film
分类号
TB43 [一般工业技术]
TM27 [一般工业技术—材料科学与工程]
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题名
作者
出处
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被引量
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1
脉冲激光沉积(PLD)机理分析及其应用
江辉明
叶志清
曾明生
《江西师范大学学报（自然科学版）》
CAS
北大核心
2005
4
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