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微结构表面润湿模式转换的实验研究 被引量:1
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作者 袁润 李保家 +3 位作者 周明 李健 叶霞 蔡兰 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2009年第12期1958-1960,共3页
采用等离子体刻蚀技术及表面硅烷化处理制备了一组硅基方柱阵列样品,测量了其表面与水的表观接触角,简要分析了表面微结构几何参数对润湿模式转换的影响,探讨了方柱阵列微结构表面发生润湿模式转换的原因。结果表明,微结构表面润湿模式... 采用等离子体刻蚀技术及表面硅烷化处理制备了一组硅基方柱阵列样品,测量了其表面与水的表观接触角,简要分析了表面微结构几何参数对润湿模式转换的影响,探讨了方柱阵列微结构表面发生润湿模式转换的原因。结果表明,微结构表面润湿模式转换受微结构几何参数的影响,原因是微结构几何参数的改变会引起表面上的液滴能量的变化,最终导致液滴的润湿状态发生变化。 展开更多
关键词 微结构表面 润湿模式转换 表观接触角 方柱阵列
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紫外激光对触摸屏产品中不可视区域刻蚀实验研究
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作者 狄建科 周明 +3 位作者 赵裕兴 王星罡 李健 张伟 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2012年第8期973-975,共3页
采用紫外激光对触摸屏产品中不可视区域进行刻蚀分析,探究了紫外激光刻蚀原理,讨论了银浆薄膜激光刻蚀与传统印刷工艺异同点,并在此基础上完成一套紫外激光刻蚀系统方案的设计和建造。实验结果表明,选用波长为355nm的紫外激光器,当激光... 采用紫外激光对触摸屏产品中不可视区域进行刻蚀分析,探究了紫外激光刻蚀原理,讨论了银浆薄膜激光刻蚀与传统印刷工艺异同点,并在此基础上完成一套紫外激光刻蚀系统方案的设计和建造。实验结果表明,选用波长为355nm的紫外激光器,当激光器功率为10W,重复频率100kHz,刻蚀速度为1500mm/s,刻蚀次数1次时,薄膜被完全刻蚀,最终获得功能良好的银浆线路。经测试后发现,所刻蚀后银浆线条平直而光滑,边缘热影响区域较小,最小刻蚀线宽可以达到10μm,基板未受到损伤;与传统印刷工艺相比较,简化了工艺步骤,产品良品率得到提升,是一种无排放的绿色环保先进的刻蚀工艺。 展开更多
关键词 紫外激光 激光刻蚀 薄膜 触摸屏
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飞秒激光烧蚀Ag膜的研究 被引量:3
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作者 吴小麟 高传玉 +1 位作者 周明 张伟 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2011年第B02期179-182,共4页
研究飞秒激光烧蚀Ag膜表面,采用扫描电镜(SEM)观测其表面烧蚀形貌,发现烧蚀点大致分为3个区域,烧蚀面积随着脉冲能量的增大而增大,脉冲数的增加而增大,但当脉冲数达到一定值后烧蚀面积变化不大。改变脉冲数在烧蚀点得到了周期为650和15... 研究飞秒激光烧蚀Ag膜表面,采用扫描电镜(SEM)观测其表面烧蚀形貌,发现烧蚀点大致分为3个区域,烧蚀面积随着脉冲能量的增大而增大,脉冲数的增加而增大,但当脉冲数达到一定值后烧蚀面积变化不大。改变脉冲数在烧蚀点得到了周期为650和150nm的长短周期条纹结构。根据烧蚀区域面积与脉冲能量的关系算出单脉冲与多脉冲的烧蚀阈值,Ag膜的单脉冲烧蚀阈值为0.189J/cm2。通过烧蚀点的累计能量和激光脉冲个数计算出Ag膜的多脉冲累计因子s=0.785。 展开更多
关键词 飞秒激光 周期条纹结构 烧蚀阈值 多脉冲累计因子
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飞秒激光烧蚀制备纳米结构ITO薄膜 被引量:3
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作者 陈谦 周明 +2 位作者 黄宗明 李健 蔡兰 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2011年第1期158-160,共3页
利用飞秒激光烧蚀ITO与ZnO双层薄膜的方法,制备具有大面积表面纳米结构的ITO薄膜。在激光频率1kHz、脉冲宽度130fs、波长775nm、能量20μJ时,在ITO薄膜表面,获得了大面积的周期为176nm左右的周期性平行条纹结构。通过改变激光能量,研究... 利用飞秒激光烧蚀ITO与ZnO双层薄膜的方法,制备具有大面积表面纳米结构的ITO薄膜。在激光频率1kHz、脉冲宽度130fs、波长775nm、能量20μJ时,在ITO薄膜表面,获得了大面积的周期为176nm左右的周期性平行条纹结构。通过改变激光能量,研究了大面积纳米结构与激光能量之间的关系,发现这种大面积纳米结构是在激光能量小于材料烧蚀阈值的条件下形成的。 展开更多
关键词 ITO薄膜 纳米结构 飞秒激光 烧蚀
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H_2气氛退火处理温度对磁控溅射ZnO薄膜光电性能的影响
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作者 马明 高传玉 +2 位作者 周明 李保家 李浩华 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2013年第15期2268-2270,2275,共4页
在室温下,采用直流磁控溅射法,以载玻片作为衬底,淀积出ZnO薄膜。在常压H2气氛中,以不同温度对样品进行退火处理。结果表明,在退火温度为500℃时,样品具有最佳综合光电性能,其在360~960nm波长范围内的平均透光率为76.35%,方块电阻为6.3... 在室温下,采用直流磁控溅射法,以载玻片作为衬底,淀积出ZnO薄膜。在常压H2气氛中,以不同温度对样品进行退火处理。结果表明,在退火温度为500℃时,样品具有最佳综合光电性能,其在360~960nm波长范围内的平均透光率为76.35%,方块电阻为6.3kΩ/□。 展开更多
关键词 ZNO薄膜 退火温度 透光率 方块电阻
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