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厚膜工艺制备后栅极场发射显示板的研究
被引量：
4
1
作者
仲雪飞
张雄
+2 位作者
尹涵春
雷威
王保平
《真空科学与技术学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2010年第4期409-413,共5页
讨论了包括丝网印刷、厚膜光刻、荧光粉沉积成膜、喷涂等厚膜工艺以及后栅极结构场致发射显示屏的制备工艺。研究了老炼工艺对阴极发射特性的改善。采用全厚膜工艺制备了2英寸后栅极场发射显示板样屏,在阳极距为1mm的后栅极结构中,阳极...
讨论了包括丝网印刷、厚膜光刻、荧光粉沉积成膜、喷涂等厚膜工艺以及后栅极结构场致发射显示屏的制备工艺。研究了老炼工艺对阴极发射特性的改善。采用全厚膜工艺制备了2英寸后栅极场发射显示板样屏,在阳极距为1mm的后栅极结构中,阳极工作电压为2kV时,通过对样屏的测试分析,阴极开关范围差小于100V,达到了行列低压寻址驱动的要求,验证了全厚膜制备后栅极场发射显示板的可行性。
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关键词
后栅极
场发射显示
厚膜工艺
测试
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职称材料
前栅极碳纳米管场发射显示板关键结构参数的研究
被引量：
4
2
作者
仲雪飞
张雄
+1 位作者
尹涵春
王保平
《真空科学与技术学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2010年第1期33-37,共5页
前栅极碳纳米管场发射显示板是一种常用的场致发射器件。该器件通过栅极与阴极之间形成的电场产生场致发射电子,在阳极高压的作用下,电子从电场中获得能量,轰击荧光粉产生可见光。本文采用模拟计算的方法研究了标准结构场发射区域内的...
前栅极碳纳米管场发射显示板是一种常用的场致发射器件。该器件通过栅极与阴极之间形成的电场产生场致发射电子,在阳极高压的作用下,电子从电场中获得能量,轰击荧光粉产生可见光。本文采用模拟计算的方法研究了标准结构场发射区域内的电场分布、阴极表面的发射情况、电子轨迹和着屏束斑。并研究了关键结构参数在公差范围内变化对阴极发射特性和阳极着屏束斑的影响。计算结果显示,阴极发射状况和阳极束斑对结构参数的变化非常敏感,也证明了前栅极结构对工艺要求十分严格。
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关键词
电子技术
场发射显示
模拟计算
结构参数
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职称材料
后栅极场发射显示板结构参数在公差范围内变化对工作特性的影响
被引量：
2
3
作者
仲雪飞
张雄
+2 位作者
尹涵春
雷威
王保平
《真空科学与技术学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2010年第2期116-121,共6页
后栅极场发射显示板是一种常用的场致发射器件。该器件结构由阳极、阴极和栅极组成,并且栅极置于阴极背面。本文采用模拟计算的方法研究了标准结构场发射区域内的电场分布、阴极表面的发射情况、电子轨迹和着屏束斑。并研究了关键结构...
后栅极场发射显示板是一种常用的场致发射器件。该器件结构由阳极、阴极和栅极组成,并且栅极置于阴极背面。本文采用模拟计算的方法研究了标准结构场发射区域内的电场分布、阴极表面的发射情况、电子轨迹和着屏束斑。并研究了关键结构参数在公差范围内变化对阴极发射特性和阳极着屏束斑的影响。计算结果显示结构参数在公差范围内的变化对阴极发射状况,阳极束斑栅极调制特性的影响很小,进而证明了后栅极结构对工艺一致性要求较低。
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关键词
电子技术
场发射显示
模拟计算
后栅极结构
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职称材料
题名
厚膜工艺制备后栅极场发射显示板的研究
被引量：
4
1
作者
仲雪飞
张雄
尹涵春
雷威
王保平
机构
江苏省信息显示工程技术研究中心东南大学电子科学与工程学院
出处
《真空科学与技术学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2010年第4期409-413,共5页
基金
国家自然科学基金(No.60801002)
高等学校学科创新引智计划(111计划)资助项目(B07027)
文摘
讨论了包括丝网印刷、厚膜光刻、荧光粉沉积成膜、喷涂等厚膜工艺以及后栅极结构场致发射显示屏的制备工艺。研究了老炼工艺对阴极发射特性的改善。采用全厚膜工艺制备了2英寸后栅极场发射显示板样屏,在阳极距为1mm的后栅极结构中,阳极工作电压为2kV时,通过对样屏的测试分析,阴极开关范围差小于100V,达到了行列低压寻址驱动的要求,验证了全厚膜制备后栅极场发射显示板的可行性。
关键词
后栅极
场发射显示
厚膜工艺
测试
Keywords
Under-gate
Field emission display
Thick film technology
Measurement
分类号
TN873.95 [电子电信—信息与通信工程]
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职称材料
题名
前栅极碳纳米管场发射显示板关键结构参数的研究
被引量：
4
2
作者
仲雪飞
张雄
尹涵春
王保平
机构
江苏省
信息
显示
工程技术
研究
中心
出处
《真空科学与技术学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2010年第1期33-37,共5页
基金
国家自然科学基金(No.60801002)
高等学校学科创新引智计划(111计划)资助项目
文摘
前栅极碳纳米管场发射显示板是一种常用的场致发射器件。该器件通过栅极与阴极之间形成的电场产生场致发射电子,在阳极高压的作用下,电子从电场中获得能量,轰击荧光粉产生可见光。本文采用模拟计算的方法研究了标准结构场发射区域内的电场分布、阴极表面的发射情况、电子轨迹和着屏束斑。并研究了关键结构参数在公差范围内变化对阴极发射特性和阳极着屏束斑的影响。计算结果显示,阴极发射状况和阳极束斑对结构参数的变化非常敏感,也证明了前栅极结构对工艺要求十分严格。
关键词
电子技术
场发射显示
模拟计算
结构参数
Keywords
Electric technology, Field emission display,Simulation, Structural parameters
分类号
O462.4 [理学—电子物理学]
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职称材料
题名
后栅极场发射显示板结构参数在公差范围内变化对工作特性的影响
被引量：
2
3
作者
仲雪飞
张雄
尹涵春
雷威
王保平
机构
江苏省信息显示工程技术研究中心东南大学电子科学与工程学院
出处
《真空科学与技术学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2010年第2期116-121,共6页
基金
国家自科学基金资助项目(No.60801002)
高等学校学科创新引智计划(111计划)资助项目(B07027)
文摘
后栅极场发射显示板是一种常用的场致发射器件。该器件结构由阳极、阴极和栅极组成,并且栅极置于阴极背面。本文采用模拟计算的方法研究了标准结构场发射区域内的电场分布、阴极表面的发射情况、电子轨迹和着屏束斑。并研究了关键结构参数在公差范围内变化对阴极发射特性和阳极着屏束斑的影响。计算结果显示结构参数在公差范围内的变化对阴极发射状况,阳极束斑栅极调制特性的影响很小,进而证明了后栅极结构对工艺一致性要求较低。
关键词
电子技术
场发射显示
模拟计算
后栅极结构
Keywords
Electric technology, Field emission display, Simulation, Under-gate structure
分类号
O462.4 [理学—电子物理学]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
厚膜工艺制备后栅极场发射显示板的研究
仲雪飞
张雄
尹涵春
雷威
王保平
《真空科学与技术学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2010
4
在线阅读
下载PDF
职称材料
2
前栅极碳纳米管场发射显示板关键结构参数的研究
仲雪飞
张雄
尹涵春
王保平
《真空科学与技术学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2010
4
在线阅读
下载PDF
职称材料
3
后栅极场发射显示板结构参数在公差范围内变化对工作特性的影响
仲雪飞
张雄
尹涵春
雷威
王保平
《真空科学与技术学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2010
2
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职称材料
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