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温和氢气等离子体对薄层二硫化钼的影响研究 被引量:2
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作者 张学成 肖少庆 +3 位作者 南海燕 张秀梅 闫大为 顾晓峰 《人工晶体学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2017年第3期550-554,561,共6页
薄层二硫化钼(MoS_2)作为一种二维过渡金属硫属化合物(TMDC)具有较好的光学和电学特性,在目前的半导体光电功能器件领域中具有良好的应用前景。本文主要采用一种温和等离子体技术并在以氢气作为先驱气体的环境下对薄层二硫化钼进行处理... 薄层二硫化钼(MoS_2)作为一种二维过渡金属硫属化合物(TMDC)具有较好的光学和电学特性,在目前的半导体光电功能器件领域中具有良好的应用前景。本文主要采用一种温和等离子体技术并在以氢气作为先驱气体的环境下对薄层二硫化钼进行处理,研究处理前后以及后续退火后薄层二硫化钼的光学与电学特性的变化。研究表明,氢原子在温和等离子体的作用下会渗入薄层MoS_2,从而改变原始的晶格结构并影响MoS_2的晶格振动,导致荧光淬灭,同时使薄层MoS_2趋于本征或者p型。后续退火会引起极少数MoS_2分子与氢原子的重新键合,从而改变其带隙。 展开更多
关键词 薄层二硫化钼 温和等离子体 拉曼光谱 荧光 场效应晶体管
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基于先进等离子体的低温钝化氮化硅薄膜的研究 被引量:2
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作者 周晶晶 肖少庆 +1 位作者 姚尧 顾晓峰 《人工晶体学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2016年第3期623-628,共6页
本文利用容性放电模式(E-mode)的电感耦合等离子体(ICP)化学气相沉积技术,在低温(100℃)下采用硅烷(Si H_4)、氮气(N_2)和氢气(H_2)作为先驱反应气体制备氢化氮化硅薄膜(Si Nx∶H),并通过傅里叶红外光谱(FTIR)、扫描电子显微镜(SEM)和X... 本文利用容性放电模式(E-mode)的电感耦合等离子体(ICP)化学气相沉积技术,在低温(100℃)下采用硅烷(Si H_4)、氮气(N_2)和氢气(H_2)作为先驱反应气体制备氢化氮化硅薄膜(Si Nx∶H),并通过傅里叶红外光谱(FTIR)、扫描电子显微镜(SEM)和X射线光电子能谱仪(XPS)对薄膜的键结构、键密度、氢含量以及化学组成进行表征。采用少子寿命测试仪(Sinton WCT-120)研究薄膜在n型晶硅表面的钝化效果。结果表明,氮硅原子比为0.4的Si N0.4∶H薄膜具有最高的氢含量,高达29%,而且其钝化效果最好。最高少子寿命达到251μs,表面复合速率降低至85 cm/s,Suns-Voc测到的提示开路电压达到652 m V。 展开更多
关键词 SINX 等离子体化学气相沉积 表面钝化 容性放电
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基于In_(2)O_(3)纳米纤维的高响应及快速恢复的室温NO_(2)气体传感器研究 被引量:4
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作者 包楠 张博 倪屹 《传感技术学报》 CAS CSCD 北大核心 2021年第2期168-174,共7页
由于暴露于NO_(2)气氛的高危害性,种类繁多的NO2气体传感器得以被开发。近年来,室温气体传感器引起了研究者的广泛关注,并且已经成为该领域一个流行的发展方向。然而,在低温下,传感器的响应值很低。此外,敏感材料表面的气体分子很难脱附... 由于暴露于NO_(2)气氛的高危害性,种类繁多的NO2气体传感器得以被开发。近年来,室温气体传感器引起了研究者的广泛关注,并且已经成为该领域一个流行的发展方向。然而,在低温下,传感器的响应值很低。此外,敏感材料表面的气体分子很难脱附,这会导致其恢复过程很慢。利用静电纺丝法和随后的煅烧工艺成功合成了In_(2)O_(3)纳米纤维,通过X射线衍射、扫描电子显微镜和透射电子显微镜证实了其成分和微结构。气敏测试结果表明,基于制备的In_(2)O_(3)纳米纤维气体传感器在室温下对NO_(2)表现出高响应。更重要的是,引入了一种有效的可见光照射法对所制备的传感器的恢复过程进行了加速。基于所有的实验数据,最后提出了一些合理的机理和解释。 展开更多
关键词 气体传感器 室温NO_(2)检测 静电纺丝法 In_(2)O_(3) 可见光照射
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基于RISC-V处理器的固件更新系统设计 被引量:3
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作者 郭俊 虞致国 +1 位作者 洪广伟 顾晓峰 《计算机工程与应用》 CSCD 北大核心 2022年第4期298-303,共6页
为简化嵌入式开发人员更新RISC-V处理器固件的操作流程,提出了一种易操作、高效且稳定的固件更新系统设计方法,包括BootROM引导流程设计和在应用中编程(in-application programming,IAP)设计。在BootROM引导流程设计中,通过启动参数再... 为简化嵌入式开发人员更新RISC-V处理器固件的操作流程,提出了一种易操作、高效且稳定的固件更新系统设计方法,包括BootROM引导流程设计和在应用中编程(in-application programming,IAP)设计。在BootROM引导流程设计中,通过启动参数再配置的方法,可使此引导流程兼容多种启动模式,如SRAM启动、主内存启动。在IAP设计中,处理器先通过通用异步收发传输器(universal asynchronous receiver/transmitter,UART)接收从上位机发送过来的新固件,该固件采用Ymodem协议发送,再通过串行外设接口(serial peripheral interface,SPI)进行片外Flash的重新烧写,以完成对系统固件的更新,同时,为保证接收新固件的可靠性,加入了循环冗余校验(cyclic redundancy check,CRC)算法。在现场可编程门阵列(field programmable gate array,FPGA)上对该系统进行了多次测试,均完成了对系统固件的更新,验证了该设计的可行性与稳定性。 展开更多
关键词 RISC-V处理器 BootROM设计 在应用中编程(IAP) Ymodem协议 现场可编程门阵列(FPGA)
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基于金担载氧化钨纳米线的高性能三乙胺气体传感器研究 被引量:2
5
作者 王涛 张博 倪屹 《传感技术学报》 CAS CSCD 北大核心 2022年第9期1157-1166,共10页
作为一种有害性气体,三乙胺的检测备受关注。实际上,研究人员近年来已开发出基于多种敏感材料的三乙胺传感器。然而,梳理发现,现有三乙胺传感器的工作温度普遍偏高,且对低浓度三乙胺的检测潜力有限。借助静电纺丝法和高温煅烧工艺,成功... 作为一种有害性气体,三乙胺的检测备受关注。实际上,研究人员近年来已开发出基于多种敏感材料的三乙胺传感器。然而,梳理发现,现有三乙胺传感器的工作温度普遍偏高,且对低浓度三乙胺的检测潜力有限。借助静电纺丝法和高温煅烧工艺,成功制备出金担载的氧化钨纳米线。利用X射线粉末衍射、X射线光电子能谱、场发射扫描电子显微镜、透射电子显微镜等手段对样品的微观结构和形貌进行了详尽表征。气敏测试表明,金担载的氧化钨对20×10^(-6)三乙胺的最佳检测温度较纯氧化钨降低了40℃,响应值却提升了4倍。最后给出了相应的敏感机理。 展开更多
关键词 气体传感器 三乙胺检测 静电纺丝 氧化钨 金担载
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黑磷-二硫化钼异质结光电流特性的研究 被引量:2
6
作者 王潇雅 葛飞洋 +1 位作者 南海燕 肖少庆 《人工晶体学报》 EI CAS 北大核心 2019年第11期2025-2031,共7页
黑磷是一种近年来新兴的二维材料,具有可调控窄带隙及宽光吸收谱、高载流子迁移率等优异光电特性,可用于实现中红外波段高速光电探测器。但是黑磷样品在空气中的不稳定性也是制约其应用的主要因素。二硫化钼作为二维层状过渡金属硫属化... 黑磷是一种近年来新兴的二维材料,具有可调控窄带隙及宽光吸收谱、高载流子迁移率等优异光电特性,可用于实现中红外波段高速光电探测器。但是黑磷样品在空气中的不稳定性也是制约其应用的主要因素。二硫化钼作为二维层状过渡金属硫属化物(TMDCs)中的典型代表,单层为直接带隙,双层及厚层为间接带隙,在可见光范围内有着较好的光电响应,但由于带隙范围的限制,在近红外的吸收较弱,几乎没有探测能力。基于此,本文通过构建二硫化钼在上,黑磷在下的垂直异质结构,通过硫化钼的保护作用实现了黑磷稳定性的提升,在空气环境中能够保持两个月之久;同时利用黑磷在近红外的吸收,增强了器件在近红外(940 nm)的响应。该异质结构对二维材料实现红外高性能的稳定探测有重要意义。 展开更多
关键词 黑磷 二硫化钼 异质结 光电流
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二维MoS_(2)/WSe_(2)异质结的光电性能研究 被引量:2
7
作者 皇甫路遥 戴梦德 +2 位作者 南海燕 顾晓峰 肖少庆 《人工晶体学报》 CAS 北大核心 2021年第11期2075-2080,共6页
近年来基于二维半导体过渡金属硫族化合物如MoS_(2)的光电晶体管被广泛研究。虽然基于单层MoS_(2)的光电探测器表现出较高的响应度,但是其较低的载流子迁移率也限制了响应时间,约在秒量级。二维半导体的相互堆垛可以形成具有低缺陷态且... 近年来基于二维半导体过渡金属硫族化合物如MoS_(2)的光电晶体管被广泛研究。虽然基于单层MoS_(2)的光电探测器表现出较高的响应度,但是其较低的载流子迁移率也限制了响应时间,约在秒量级。二维半导体的相互堆垛可以形成具有低缺陷态且空间均匀的范德华异质结构,是提高二维光电探测器性能的有效途径。基于此本文通过机械剥离转移法构筑MoS_(2)/WSe_(2)垂直pn异质结,其较强的空间电荷区能有效地分离光生载流子,所以在自驱动状态下仍具有较好的光电探测能力,光响应度和探测率分别达到2.12×10^(3) A/W和2.33×10^(11) Jones,同时极大地缩短了响应时间,响应时间达到40 ms。这种二维异质结器件制备方法简易,性能优异,在光电子领域具有广阔的应用前景。 展开更多
关键词 MoS_(2)/WSe_(2) PN结 机械剥离转移法 二维范德华异质结构 光电探测器 过渡金属硫族化合物
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基于温和氧等离子体实现硫化钼P型掺杂的研究
8
作者 刘明雪 冯少朋 +3 位作者 肖少庆 南海燕 张秀梅 顾晓峰 《人工晶体学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2018年第9期1778-1783,1797,共7页
采用一种处于电容放电模式(E-mode)的温和氧气电容耦合等离子体技术对薄层MoS_2进行处理,实现了P型掺杂。通过光学显微镜、拉曼光谱、X射线光电子能谱和场效应晶体管的转移曲线测试,对MoS_2的掺杂机理进行了分析,发现温和氧气等离子体... 采用一种处于电容放电模式(E-mode)的温和氧气电容耦合等离子体技术对薄层MoS_2进行处理,实现了P型掺杂。通过光学显微镜、拉曼光谱、X射线光电子能谱和场效应晶体管的转移曲线测试,对MoS_2的掺杂机理进行了分析,发现温和氧气等离子体处理过程中氧和钼能形成Mo-O键,从而提供额外的空穴使其电子浓度下降,最终导致其开启电压变高、输出电流下降,同时氧气的化学吸附诱导在MoS_2层中引入了P型掺杂。此研究为实现MoS_2的P型掺杂提供了新途径。 展开更多
关键词 二硫化钼 温和等离子体 P型掺杂 场效应晶体管
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基于温和等离子体技术的二硫化钨可控减薄
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作者 冯少朋 肖少庆 +1 位作者 南海燕 顾晓峰 《人工晶体学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2018年第9期1868-1872,共5页
二硫化钨(WS_2)作为二维过渡金属硫族化合物(TMDs)中的一员,具有独特的光学和电子性能,引起学术界和产业界的高度关注和广泛研究。当厚层WS_2转变为少层甚至单层WS_2时,其能带结构由间接带隙转为直接带隙,因此可用于光电探测器,和电致... 二硫化钨(WS_2)作为二维过渡金属硫族化合物(TMDs)中的一员,具有独特的光学和电子性能,引起学术界和产业界的高度关注和广泛研究。当厚层WS_2转变为少层甚至单层WS_2时,其能带结构由间接带隙转为直接带隙,因此可用于光电探测器,和电致发光器件等。本文采用一种处于电容放电模式(E-mode)下的温和电感耦合等离子体对WS_2进行减薄。通过使用不同的RF功率密度,厚层WS_2可以被快速减薄,而少层WS_2可以被逐层减薄。拉曼和荧光表明,随着WS_2样品被减薄,其荧光显著增强。本研究为对二维材料的可控减薄提供了新途径。 展开更多
关键词 二硫化钨 温和等离子体 可控减薄 荧光
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基于温和等离子体CVD的非晶硅薄膜的制备与钝化研究
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作者 刘晶晶 姚尧 +3 位作者 朱月岭 戴伟 肖少庆 顾晓峰 《人工晶体学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2018年第6期1197-1203,共7页
采用容性放电模式(E-mode)的电感耦合等离子体化学气相沉积技术(ICPCVD),以硅烷(SiH_4)和氢气(H_2)作为气源,通过改变沉积气压来制备氢化非晶硅薄膜(a-Si∶H)。采用少子寿命测试仪(Sinton WCT-120)研究薄膜在n型单晶硅片表面的钝化效果... 采用容性放电模式(E-mode)的电感耦合等离子体化学气相沉积技术(ICPCVD),以硅烷(SiH_4)和氢气(H_2)作为气源,通过改变沉积气压来制备氢化非晶硅薄膜(a-Si∶H)。采用少子寿命测试仪(Sinton WCT-120)研究薄膜在n型单晶硅片表面的钝化效果。并通过傅里叶红外光谱仪(FTIR)和扫描电子显微镜(SEM)进一步表征薄膜的氢含量、微结构因子和表面形貌。结果表明,气压偏低或者偏高都会影响薄膜质量,生成多孔隙的薄膜,从而影响薄膜的钝化性能。最优沉积气压为65 Pa,并进一步优化少子寿命到445μs,复合速度减小到48 cm/s,隐开路电压接近700 m V。 展开更多
关键词 非晶硅薄膜 电感耦合等离子体化学气相沉积 微结构 表面钝化
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InSe/石墨烯异质结光学特性的研究与调控
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作者 郭思嘉 王潇雅 +3 位作者 南海燕 张秀梅 肖少庆 顾晓峰 《人工晶体学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2018年第3期544-549,共6页
InSe是一种新兴的二维层状材料,具有多种优异的光学特性。随着层数的降低,带隙从近红外逐步变到可见(1.26 e V到2.11 e V),如此大的可调谐的带隙和高本征迁移率,让其在光电探测领域有着良好的应用前景。但是研究发现,InSe在空气中不稳定... InSe是一种新兴的二维层状材料,具有多种优异的光学特性。随着层数的降低,带隙从近红外逐步变到可见(1.26 e V到2.11 e V),如此大的可调谐的带隙和高本征迁移率,让其在光电探测领域有着良好的应用前景。但是研究发现,InSe在空气中不稳定,易被氧化,很大的限制了其应用。而石墨烯具有极宽的光谱吸收范围和高电子迁移率,同时具有理论上97.7%的透光率。因此石墨烯-InSe复合体系能够充分将石墨烯优异的电子传输特性以及InSe突出的光学吸收特性结合起来,从而提升光电性能。本文首先利用干法转移制备了石墨烯和InSe的异质结构,然后通过阶段式退火处理调控了两者之间的相互作用,研究发现随着退火时间的加长,被石墨烯覆盖的InSe荧光强度逐渐降低,说明二者之间相互作用逐渐增强,InSe中更多的电子转移到石墨烯中,极大的提升其光电特性。该结果为异质结相互作用的调控以及光电性能的提升提供了非常好的途径。 展开更多
关键词 硒化铟 石墨烯 退火 荧光
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带逻辑校正的低延时低功耗高电平移位电路
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作者 蒋志林 姜岩峰 于平平 《电源学报》 CSCD 北大核心 2024年第6期304-310,共7页
提出1种带有逻辑校正功能的新型低延时低功耗的低电平到高电平的移位电路。该电路采用低延时电平移位电路与低功耗电平移位电路并行工作,在逻辑校正无误后将1.0~1.5 V的低电平转换为5 V的高电平,可广泛应用于GaN驱动电路中。基于0.5μm... 提出1种带有逻辑校正功能的新型低延时低功耗的低电平到高电平的移位电路。该电路采用低延时电平移位电路与低功耗电平移位电路并行工作,在逻辑校正无误后将1.0~1.5 V的低电平转换为5 V的高电平,可广泛应用于GaN驱动电路中。基于0.5μm的BCD工艺,将1.5V的电源低压和5 V的电源高压在5 MHz频率下对该电路进行验证。结果表明,该电路虽版图面积有所增加,但上升和下降延时分别降低至2.3ns和1.8ns,总功耗电流仅为11μA。 展开更多
关键词 高电平移位 逻辑校正 低功耗 低延时 GaN驱动
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利用AFORS-HET对P型HIT太阳电池的模拟优化 被引量:3
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作者 姚尧 肖少庆 +1 位作者 刘晶晶 顾晓峰 《人工晶体学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2016年第4期935-940,共6页
运用模拟软件AFORS-HET对TCO/a-Si∶H(n)/a-Si∶H(i)/c-Si(p)/Ag结构的异质结(HIT)太阳电池进行仿真,分析其光伏输出特性随发射层掺杂浓度、晶硅衬底掺杂浓度、透明导电氧化物薄膜(TCO)的选择以及TCO功函数的变化规律。结果显示,当发射... 运用模拟软件AFORS-HET对TCO/a-Si∶H(n)/a-Si∶H(i)/c-Si(p)/Ag结构的异质结(HIT)太阳电池进行仿真,分析其光伏输出特性随发射层掺杂浓度、晶硅衬底掺杂浓度、透明导电氧化物薄膜(TCO)的选择以及TCO功函数的变化规律。结果显示,当发射层掺杂浓度大于1.0×1020cm^(-3),晶硅衬底掺杂浓度大于1.2×10^(16)cm^(-3),以ZnO为TCO层且Zn O的功函数低于4.4 e V时,电池的开路电压、短路电流密度、填充因子及电池转换效率达到最优值,光电转换效率最高达到19.18%。 展开更多
关键词 异质结太阳电池 透明导电氧化物薄膜 AFORS-HET 功函数
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一种基于可重用激励发生机制的SoC验证平台 被引量:1
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作者 苏艺端 虞致国 顾晓峰 《计算机工程与科学》 CSCD 北大核心 2016年第7期1309-1315,共7页
在系统芯片的设计中,传统的激励发生机制耗费人工多且难以重用,严重影响了仿真验证的效率。针对此问题,构建了一种基于可重用激励发生机制的虚拟SoC验证平台。该平台利用可重用的激励发生模块调用端口激励文件,仿真时将端口激励文件转... 在系统芯片的设计中,传统的激励发生机制耗费人工多且难以重用,严重影响了仿真验证的效率。针对此问题,构建了一种基于可重用激励发生机制的虚拟SoC验证平台。该平台利用可重用的激励发生模块调用端口激励文件,仿真时将端口激励文件转换成对应于验证电路端口的时序信号。通过对通用同步/异步串行接收/发送器、中断及定时器等功能模块的验证,证明了激励发生机制具有较强的可观察性、可控制性及可重用性。验证结果分析表明,在验证不同的功能点时仅需修改固件及端口激励文件,使验证平台在重用时减少代码修改量,提高了灵活性和验证效率,缩短了系统芯片的验证时间。 展开更多
关键词 可重用 激励发生机制 虚拟SoC验证平台 端口激励文件
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基于SimpleSim-ARM模拟器的软错误易感性分析与评估 被引量:1
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作者 高苗 虞致国 +1 位作者 魏敬和 顾晓峰 《计算机应用研究》 CSCD 北大核心 2020年第7期2054-2057,2062,共5页
随着集成电路特征尺寸的逐步缩小,随之而来快速增长的软错误率严重限制了现代微处理器的应用,因此对微处理器可靠性进行评估十分重要。在微处理器体系结构级进行软错误易感性评估能反映出微处理器部件的可靠性,提出基于Simple Sim-ARM... 随着集成电路特征尺寸的逐步缩小,随之而来快速增长的软错误率严重限制了现代微处理器的应用,因此对微处理器可靠性进行评估十分重要。在微处理器体系结构级进行软错误易感性评估能反映出微处理器部件的可靠性,提出基于Simple Sim-ARM模拟器对微处理器体系结构级进行软错误易感性评估的方法,可用于对ARM体系结构微处理器进行软错误易感性评估。根据提出方法对Strong ARM SA-11xx进行软错误易感性分析,实验结果表明,在基准配置情况下,存储部件中寄存器文件的平均AVF值为57.76%;非存储部件发射队列(IQ)、保留站与重定序缓冲(RUU)与功能单元(FU)的平均AVF值分别为38.53%、32.02%和12.39%。在不同配置下,IQ和RUU部件容量越大,对应部件AVF评估值越小;FU数量越多,该部件AVF评估值越小。 展开更多
关键词 软错误 易感性分析 ACE分析 AVF评估 Simple Sim-ARM模拟器
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水溶性高质量二维材料纳米片的制备及其表征 被引量:1
16
作者 颜元凯 顾杰 +1 位作者 王帅 万茜 《人工晶体学报》 EI CAS 北大核心 2020年第1期92-98,共7页
近几年来,二维(2D)材料的研究,已成为纳米科学最令人兴奋的领域之一。其中液相分离具有层状结构的块体材料来制备二维材料的方法成为研究热点。相比于化学气相沉积(CVD)等自下而上的制备方法,通过块体层状材料的剥离制备二维材料及其分... 近几年来,二维(2D)材料的研究,已成为纳米科学最令人兴奋的领域之一。其中液相分离具有层状结构的块体材料来制备二维材料的方法成为研究热点。相比于化学气相沉积(CVD)等自下而上的制备方法,通过块体层状材料的剥离制备二维材料及其分散液的方法具有低成本、可大规模生产的优势。在这里主要研究以液相剥离(LPE)的方法制备石墨烯(graphene)、六方氮化硼(h-BN)和四种过渡金属硫属化物(TMDs)溶液,这种水溶性的二维材料具有绿色环保、成本低等优点。使用拉曼光谱(Raman),原子力显微镜(AFM),扫描电子显微镜(SEM)等仪器对研制的层状纳米片的物质组分、表面结构等进行表征,通过紫外(UV)吸收光谱估算出不同离心转速下的浓度,最后通过电化学工作站的循环伏安法(cyclic voltammetry)测出用于MoS2纳米片电解质门控的离子液体体电容,分析可见制得的二维材料纳米片平均尺寸在400 nm左右,离子溶液的体电容为1.21 F/cm3,该体电容是研究电子器件性能的关键性参数。上述表征结果对基于水溶性二维材料纳米片的电子器件研究有着重要的科学与应用价值。 展开更多
关键词 二维(2D)材料 液相剥离(LEP) UV紫外吸收光谱(UV) 循环伏安法(CV)
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温和氢气等离子体对石墨烯的各向异性刻蚀
17
作者 沈钢 肖少庆 +1 位作者 张秀梅 顾晓峰 《材料科学与工程学报》 CAS CSCD 北大核心 2018年第6期970-974,984,共6页
本文采用一种简单有效的方法对石墨烯进行处理,可将多层石墨烯减薄为单层或任意层。采用自主研发的温和等离子体系统,以氢气作为先驱气体对多层石墨烯进行处理,再对处理过的样品进行高温退火。研究表明,温和氢气等离子体能利用氢离子的... 本文采用一种简单有效的方法对石墨烯进行处理,可将多层石墨烯减薄为单层或任意层。采用自主研发的温和等离子体系统,以氢气作为先驱气体对多层石墨烯进行处理,再对处理过的样品进行高温退火。研究表明,温和氢气等离子体能利用氢离子的轰击效应对顶层石墨烯进行刻蚀,刻蚀过程具有良好的各向异性,刻蚀后氮气环境下的高温退火能够有效修复刻蚀过程中产生的晶格缺陷,从而得到品质较好的单层与少层石墨烯。本研究为制备品质良好的单层及少层石墨烯提供了一种新的方法。 展开更多
关键词 石墨烯 减薄 温和等离子体 拉曼 各向异性
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单层MoSe2-WSe2平面异质结的可控生长及表征
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作者 段智勇 颜元凯 +2 位作者 顾杰 万茜 顾晓峰 《人工晶体学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2018年第12期2457-2463,共7页
二维(2D)材料由于其独特的性质和原子级厚度而受到了广泛的关注。尽管目前学术界与工业界已经成功地制备了具有不同光学和电学性质的单种2D材料,但是为了构建用于实际应用的更复杂的器件,必须开发用于制造2D异质结构的策略。在这里主要... 二维(2D)材料由于其独特的性质和原子级厚度而受到了广泛的关注。尽管目前学术界与工业界已经成功地制备了具有不同光学和电学性质的单种2D材料,但是为了构建用于实际应用的更复杂的器件,必须开发用于制造2D异质结构的策略。在这里主要研究了单层二硒化钼(MoSe_2)与二硒化钨(WSe_2)平面异质结的生长,以水溶性钼酸铵((NH_4)_6Mo_7O_(24)·4H_2O)与钨酸铵((NH_4)_(10)W_(12)O_(41))分别作为钼源与钨源,通过改进的一步生长法,并调控前驱体反应位置、含量与生长时间、温度等关键生长参数,采用化学气相沉积(CVD)法在SiO_2/Si衬底上制备出平面异质结,并使用光学显微镜,拉曼光谱(RAMAN),光致发光光谱(PL),原子力显微镜(AFM),扫描电子显微镜(SEM)等,对异质结的样貌、物质组分、表面形貌、表面形态等进行表征。分析可见制备的异质结由单层硒化钼与硒化钨组成,且高度为0. 8 nm。这种连续可控的方法具有很强的普适性,为其他多结异质结的制备开辟了道路。 展开更多
关键词 钼酸铵 钨酸铵 化学气相沉积 平面异质结
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限制空间法制备大尺寸单层二硫化钨薄膜
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作者 张秀梅 肖少庆 +2 位作者 史丽弘 南海燕 顾晓峰 《人工晶体学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2018年第6期1254-1260,共7页
采用一种限制空间的化学气相沉积方法,在整个SiO_2(300 nm)/Si衬底上制备出了大面积、大尺寸、高质量的单层WS_2薄膜,薄膜尺寸随生长时间可控,最大尺寸可达500μm。利用光镜、原子力显微镜(AFM)、荧光、拉曼以及XPS等手段对所得的单层W... 采用一种限制空间的化学气相沉积方法,在整个SiO_2(300 nm)/Si衬底上制备出了大面积、大尺寸、高质量的单层WS_2薄膜,薄膜尺寸随生长时间可控,最大尺寸可达500μm。利用光镜、原子力显微镜(AFM)、荧光、拉曼以及XPS等手段对所得的单层WS_2样品进行了表征。结果表明:限制空间方法可以很好地对两种源粉的比例进行调控,制备的单层WS_2薄膜样品以三角形为主导,有着清洁的表面、均匀的荧光和拉曼强度分布,以及较高的单晶质量。限制空间化学气相沉积方法操作简单,可控性与可重复性高,可以为其他过渡金属硫属化合物单层薄膜材料的大面积、大尺寸、高质量生长提供借鉴。 展开更多
关键词 限制空间 单层WS2薄膜 CVD 大尺寸
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大范围ReS2纳米带的化学气相沉积制备及特性表征
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作者 张秀梅 肖少庆 +3 位作者 史丽弘 康培培 南海燕 顾晓峰 《人工晶体学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2018年第9期1899-1903,共5页
采用化学气相沉积方法,在整个SiO_2(300 nm)/Si衬底上制备出了大面积、高质量的单层及多层ReS_2纳米带,纳米带的长度可达150μm。利用光镜、原子力显微镜(AFM)、荧光(PL),拉曼(Raman)以及X射线光电子能谱分析(XPS)等手段对所得不同层数... 采用化学气相沉积方法,在整个SiO_2(300 nm)/Si衬底上制备出了大面积、高质量的单层及多层ReS_2纳米带,纳米带的长度可达150μm。利用光镜、原子力显微镜(AFM)、荧光(PL),拉曼(Raman)以及X射线光电子能谱分析(XPS)等手段对所得不同层数的ReS_2样品进行了表征。结果表明:所制备的ReS_2纳米带的拉曼信号与化学气相沉积方法制备的(CVD)单层及多层的薄膜材料差别不大,而其荧光峰出现了明显的展宽,且峰位出现了明显的蓝移。化学气相沉积法(CVD)制备ReS_2纳米带操作简单,可控性与可重复性高,对其基础研究和未来潜在应用有着比较重要的现实意义。 展开更多
关键词 ReS2 CVD 大面积
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