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分子动力学模拟样品温度对F刻蚀SiC的影响被引量：7: 1; 作者宁建平秦尤敏 +2 位作者吕晓丹 A．Bogaerts 苟富君《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2010年第2期111-115,共5页; 利用分子动力学模拟方法研究了在低能F原子刻蚀SiC表面过程中样品温度对刻蚀的影响。由模拟结果可知,随着温度的升高,F在样品表面的沉积量和散射量均呈下降趋势,而发生溅射的F的量和与样品作用生成挥发物质的F的量逐渐增加。Si的刻蚀量... 展开更多; 关键词分子动力学刻蚀样品温度 SIC; 在线阅读下载PDF 职称材料

Ar＋与氟化的Si样品相互作用机制的研究：分子动力学模拟被引量：4: 2; 作者秦尤敏吕晓丹 +2 位作者宁建平 A．Bogaerts 苟富君《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2010年第3期229-235,共7页; 采用分子动力学方法模拟了Ar+与表面含有C,F反应层的Si样品的相互作用过程,以了解Ar+与氟化的Si的作用机制。为了和相对应的实验结果做比较,选择了两种样品,表面富F样品和表面富C样品。模拟结果表明,对于表面富F样品,能清楚地看到Si的... 展开更多; 关键词分子动力学作用机制刻蚀表面富F样品表面富C样品; 在线阅读下载PDF 职称材料

分子动力学模拟不同入射能量的CH与碳氢薄膜的相互作用被引量：2: 3; 作者秦尤敏吕晓丹 +4 位作者赵成利宁建平贺平逆 A.Bogaerts 苟富均《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2011年第2期138-143,共6页; 本文使用分子动力学方法模拟低能CH与碳氢薄膜的相互作用,以探讨在核聚变过程中CH的再沉积行为及对面向等离子体材料性质变化的影响。选择的入射能量分别为0.3,1,5,10 eV。模拟结果表明随着入射能量的增加C原子与H原子的吸附率增加,且... 展开更多; 关键词分子动力学碳氢薄膜再沉积吸附率; 在线阅读下载PDF 职称材料

导电高聚物PPV的次晶结构研究(英文): 4; 作者张孝彬张泽盖塞H J 《浙江大学学报（农业与生命科学版）》 CAS CSCD 北大核心 1998年第S1期79-82,共4页; 通过电子衍射实验揭示了导电高聚物ＰＰＶ（拉伸５倍）的次晶性；对弥散的层线强度分布进行了测量和分析，获取了表达单胞参数涨落的精确值，即Δ１１（３）＝Δ２２（３）＞０．０２７ｎｍ，Δ３３（３）＜０．０１２ｎｍ。此外，还推... 展开更多; 关键词次晶性结构透射电子显微学 PPV; 在线阅读下载PDF 职称材料

题名分子动力学模拟样品温度对F刻蚀SiC的影响被引量：7: 1; 作者宁建平秦尤敏吕晓丹 A．Bogaerts 苟富君; 机构贵州大学等离子体与材料表面作用研究所四川大学核科学与技术工程学院比利时安特卫普大学化学系PLASMANT课题组荷兰皇家科学院等离子体所; 出处《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2010年第2期111-115,共5页; 基金贵州省优秀青年科技人才培养计划(700968101); 文摘利用分子动力学模拟方法研究了在低能F原子刻蚀SiC表面过程中样品温度对刻蚀的影响。由模拟结果可知,随着温度的升高,F在样品表面的沉积量和散射量均呈下降趋势,而发生溅射的F的量和与样品作用生成挥发物质的F的量逐渐增加。Si的刻蚀量均随着温度的升高而升高。样品中Si原子的刻蚀主要是通过生成SiF4得以实现的,C原子的刻蚀主要是通过生成CFx(x=1～3)等挥发性物质实现的。; 关键词分子动力学刻蚀样品温度 SIC; Keywords Molecular dynamics, Etching, Sample Temperature, SiC; 分类号 TN304.12 [电子电信—物理电子学]; 在线阅读下载PDF 职称材料

题名Ar＋与氟化的Si样品相互作用机制的研究：分子动力学模拟被引量：4: 2; 作者秦尤敏吕晓丹宁建平 A．Bogaerts 苟富君; 机构贵州大学等离子体与材料表面作用研究所四川大学核科学与技术工程学院比利时安特卫普大学化学系PLASMANT课题组荷兰皇家科学院等离子体所; 出处《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2010年第3期229-235,共7页; 文摘采用分子动力学方法模拟了Ar+与表面含有C,F反应层的Si样品的相互作用过程,以了解Ar+与氟化的Si的作用机制。为了和相对应的实验结果做比较,选择了两种样品,表面富F样品和表面富C样品。模拟结果表明,对于表面富F样品,能清楚地看到Si的刻蚀且随着入射能量的增加Si的刻蚀增加。当入射Ar+数量到达一定程度后Si的刻蚀完全停止。对于富C样品,几乎没有发生Si的刻蚀,这是由于Si-C键对Si的刻蚀起阻碍作用。; 关键词分子动力学作用机制刻蚀表面富F样品表面富C样品; Keywords Molecular dynamics, Interaction mechanism, Etching, F-rich sample, C-rich sample; 分类号 TN304.12 [电子电信—物理电子学]; 在线阅读下载PDF 职称材料

题名分子动力学模拟不同入射能量的CH与碳氢薄膜的相互作用被引量：2: 3; 作者秦尤敏吕晓丹赵成利宁建平贺平逆 A.Bogaerts 苟富均; 机构贵州大学等离子体与材料表面作用研究所贵州大学材料与冶金学院比利时安特卫普大学化学系PLASMANT课题组辐射物理及技术教育部重点实验室荷兰皇家科学院等离子体所; 出处《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2011年第2期138-143,共6页; 基金国际热核聚变实验堆(ITER)计划专项(2009GB104006) 贵州省优秀青年科技人才培养计划(700968101); 文摘本文使用分子动力学方法模拟低能CH与碳氢薄膜的相互作用,以探讨在核聚变过程中CH的再沉积行为及对面向等离子体材料性质变化的影响。选择的入射能量分别为0.3,1,5,10 eV。模拟结果表明随着入射能量的增加C原子与H原子的吸附率增加,且在入射能量大于CH离解能的情况下,同一能量下H原子的吸附率小于C原子的吸附率。随着入射能量的增加,薄膜的厚度增加,薄膜中含有Csp2的范围变宽,并且表面逐渐转变为Csp2表面。薄膜中的C主要以Csp3形式存在,其次是Csp2,几乎不含Csp1。通过统计薄膜中的CHx（x为1~4）发现CH占优势,其次是CH2,而CH4的量非常少。; 关键词分子动力学碳氢薄膜再沉积吸附率; Keywords Molecular dynamics Hydrocarbon films Redeposition Deposited rate; 分类号 TL62 [核科学技术—核技术及应用]; 在线阅读下载PDF 职称材料

题名导电高聚物PPV的次晶结构研究(英文): 4; 作者张孝彬张泽盖塞H J; 机构浙江大学材料科学与工程系中国科学院凝聚态物理中心电镜室比利时安特卫普大学化学系; 出处《浙江大学学报（农业与生命科学版）》 CAS CSCD 北大核心 1998年第S1期79-82,共4页; 文摘通过电子衍射实验揭示了导电高聚物ＰＰＶ（拉伸５倍）的次晶性；对弥散的层线强度分布进行了测量和分析，获取了表达单胞参数涨落的精确值，即Δ１１（３）＝Δ２２（３）＞０．０２７ｎｍ，Δ３３（３）＜０．０１２ｎｍ。此外，还推导了其取向分布函数值。; 关键词次晶性结构透射电子显微学 PPV; Keywords paractrstalline structure TEM PPV; 分类号 TG115.21 [金属学及工艺—物理冶金] O723 [理学—晶体学]; 在线阅读下载PDF 职称材料

	题名	作者	出处	发文年	被引量	操作
1	分子动力学模拟样品温度对F刻蚀SiC的影响	宁建平秦尤敏吕晓丹 A．Bogaerts 苟富君	《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心	2010	7	在线阅读下载PDF 职称材料
2	Ar＋与氟化的Si样品相互作用机制的研究：分子动力学模拟	秦尤敏吕晓丹宁建平 A．Bogaerts 苟富君	《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心	2010	4	在线阅读下载PDF 职称材料
3	分子动力学模拟不同入射能量的CH与碳氢薄膜的相互作用	秦尤敏吕晓丹赵成利宁建平贺平逆 A.Bogaerts 苟富均	《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心	2011	2	在线阅读下载PDF 职称材料
4	导电高聚物PPV的次晶结构研究(英文)	张孝彬张泽盖塞H J	《浙江大学学报（农业与生命科学版）》 CAS CSCD 北大核心	1998	0	在线阅读下载PDF 职称材料