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关于水面舰艇编队防空队形的优化研究
被引量：
11
1
作者
李浩
王公宝
《舰船科学技术》
2009年第5期109-112,共4页
针对因队形变化给水面舰艇编队防空能力带来的5方面的影响,初步建立了水面舰艇编队防空队形综合评判的指标体系。由于评价指标较多,且很难用准确的数学语言来描述,因此应用了模糊DEA评价模型对模糊指标进行评价。然后,运用所建立的综合...
针对因队形变化给水面舰艇编队防空能力带来的5方面的影响,初步建立了水面舰艇编队防空队形综合评判的指标体系。由于评价指标较多,且很难用准确的数学语言来描述,因此应用了模糊DEA评价模型对模糊指标进行评价。然后,运用所建立的综合评价模型对水面舰艇编队防空队形进行综合评价。以驱逐舰为例,求出了最佳防空队形——菱形队形。该评价方法简单易行,容易在计算机上实现,初步解决了水面舰艇编队防空队形的优选问题。
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关键词
数据包络分析
防空队形
评价模型
排序
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职称材料
SPPs光刻曝光显影模拟研究
被引量：
2
2
作者
郑宇
王景全
+2 位作者
李敏
牛晓云
杜惊雷
《光子学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2010年第5期792-796,共5页
基于薄层抗蚀剂的曝光模型,建立了普遍适应于表面等离子体激元光刻的抗蚀剂曝光模型.选用AZ1500和AR3170两种抗蚀剂对表面等离子体激元干涉光刻曝光显影过程进行计算对比,获得表面等离子体激元光刻显影的最终轮廓.由此得出工艺优化的条...
基于薄层抗蚀剂的曝光模型,建立了普遍适应于表面等离子体激元光刻的抗蚀剂曝光模型.选用AZ1500和AR3170两种抗蚀剂对表面等离子体激元干涉光刻曝光显影过程进行计算对比,获得表面等离子体激元光刻显影的最终轮廓.由此得出工艺优化的条件,对表面等离子体激元光刻的进一步工作和实验开展有着重要的意义.
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关键词
SPPs光刻
干涉光刻
曝光潜像
显影轮廓
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职称材料
拼接光栅机械形变对远场光强的影响
3
作者
郑宇
杜惊雷
郭永康
《强激光与粒子束》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2010年第7期1487-1490,共4页
分析了将多块较小的光栅使用机械拼接的方式制成超大面积光栅,能解决大面积光栅目前无法整块生产的情况,在实际拼接中光栅会出现很微量的应力变形。根据拼接光栅通常的形变特点,采用标量衍射理论建立了光栅形变的理论模型,并就两块光栅...
分析了将多块较小的光栅使用机械拼接的方式制成超大面积光栅,能解决大面积光栅目前无法整块生产的情况,在实际拼接中光栅会出现很微量的应力变形。根据拼接光栅通常的形变特点,采用标量衍射理论建立了光栅形变的理论模型,并就两块光栅拼接的情况进行了计算和分析,发现形变同拼接误差一样,会对光栅的远场光强产生负面影响,微小的变形量都对远场光强造成破坏,因此对衍射光场的影响不可忽略;获得了光栅机械形变的容限;最后给出了预防形变的措施:可着重减小y方向上约束,并使用多层介质膜光栅降低光栅对能量的吸收。
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关键词
机械形变
远场光强
光栅拼接
归一化光强
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职称材料
题名
关于水面舰艇编队防空队形的优化研究
被引量：
11
1
作者
李浩
王公宝
机构
武警成都指挥学院教研部
海军工程大学理
学院
出处
《舰船科学技术》
2009年第5期109-112,共4页
文摘
针对因队形变化给水面舰艇编队防空能力带来的5方面的影响,初步建立了水面舰艇编队防空队形综合评判的指标体系。由于评价指标较多,且很难用准确的数学语言来描述,因此应用了模糊DEA评价模型对模糊指标进行评价。然后,运用所建立的综合评价模型对水面舰艇编队防空队形进行综合评价。以驱逐舰为例,求出了最佳防空队形——菱形队形。该评价方法简单易行,容易在计算机上实现,初步解决了水面舰艇编队防空队形的优选问题。
关键词
数据包络分析
防空队形
评价模型
排序
Keywords
data envelopment analysis
formation for air defense
evaluation model
ordering
分类号
N945.15 [自然科学总论—系统科学]
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职称材料
题名
SPPs光刻曝光显影模拟研究
被引量：
2
2
作者
郑宇
王景全
李敏
牛晓云
杜惊雷
机构
四川大学物理科学与技术
学院
武警成都指挥学院教研部
出处
《光子学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2010年第5期792-796,共5页
基金
国家自然科学基金(60676024)
教育部博士点基金(20060610006)资助
文摘
基于薄层抗蚀剂的曝光模型,建立了普遍适应于表面等离子体激元光刻的抗蚀剂曝光模型.选用AZ1500和AR3170两种抗蚀剂对表面等离子体激元干涉光刻曝光显影过程进行计算对比,获得表面等离子体激元光刻显影的最终轮廓.由此得出工艺优化的条件,对表面等离子体激元光刻的进一步工作和实验开展有着重要的意义.
关键词
SPPs光刻
干涉光刻
曝光潜像
显影轮廓
Keywords
SPPs lithography
Interference lithography
Exposed latent image
Image contours
分类号
O436.1 [机械工程—光学工程]
在线阅读
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职称材料
题名
拼接光栅机械形变对远场光强的影响
3
作者
郑宇
杜惊雷
郭永康
机构
四川大学物理科学与技术
学院
纳光子技术研究所
武警成都指挥学院教研部
出处
《强激光与粒子束》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2010年第7期1487-1490,共4页
基金
国家自然科学基金项目(60676024)
教育部博士点基金项目(20060610006)
文摘
分析了将多块较小的光栅使用机械拼接的方式制成超大面积光栅,能解决大面积光栅目前无法整块生产的情况,在实际拼接中光栅会出现很微量的应力变形。根据拼接光栅通常的形变特点,采用标量衍射理论建立了光栅形变的理论模型,并就两块光栅拼接的情况进行了计算和分析,发现形变同拼接误差一样,会对光栅的远场光强产生负面影响,微小的变形量都对远场光强造成破坏,因此对衍射光场的影响不可忽略;获得了光栅机械形变的容限;最后给出了预防形变的措施:可着重减小y方向上约束,并使用多层介质膜光栅降低光栅对能量的吸收。
关键词
机械形变
远场光强
光栅拼接
归一化光强
Keywords
mechanical deformation
far-field diffraction
grating splicing
normalized intensity
分类号
O436.1 [机械工程—光学工程]
在线阅读
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
关于水面舰艇编队防空队形的优化研究
李浩
王公宝
《舰船科学技术》
2009
11
在线阅读
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职称材料
2
SPPs光刻曝光显影模拟研究
郑宇
王景全
李敏
牛晓云
杜惊雷
《光子学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2010
2
在线阅读
下载PDF
职称材料
3
拼接光栅机械形变对远场光强的影响
郑宇
杜惊雷
郭永康
《强激光与粒子束》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2010
0
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职称材料
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