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射频磁控溅射法在玻璃基片上沉积CeO_2薄膜的研究(英文)
被引量：
1
1
作者
梁飞
倪佳苗
赵青南
《传感技术学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2006年第2期281-284,288,共5页
二氧化铈具有高折射率、介电常数和紫外吸收率,因此它广泛地应用于各种光学和电子器件。本文采用射频磁控溅射法在玻璃基片上沉积CeO2薄膜。溅射过程中,首先制备纯二氧化铈靶材,然后在不同的功率上调节不同的基片温度进行溅射。采用光...
二氧化铈具有高折射率、介电常数和紫外吸收率,因此它广泛地应用于各种光学和电子器件。本文采用射频磁控溅射法在玻璃基片上沉积CeO2薄膜。溅射过程中,首先制备纯二氧化铈靶材,然后在不同的功率上调节不同的基片温度进行溅射。采用光电子能谱、X射线衍射、拉曼光谱和扫描电镜等测试方法表征薄膜的特性。
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关键词
射频磁控溅射
二氧化铈薄膜
光电子能谱
X射线衍射
拉曼光谱
扫描电镜
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职称材料
题名
射频磁控溅射法在玻璃基片上沉积CeO_2薄膜的研究(英文)
被引量：
1
1
作者
梁飞
倪佳苗
赵青南
机构
武汉理工大学信息学院通信与信息系统
武汉理工大学
材料与工程
学院
材料学
出处
《传感技术学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2006年第2期281-284,288,共5页
文摘
二氧化铈具有高折射率、介电常数和紫外吸收率,因此它广泛地应用于各种光学和电子器件。本文采用射频磁控溅射法在玻璃基片上沉积CeO2薄膜。溅射过程中,首先制备纯二氧化铈靶材,然后在不同的功率上调节不同的基片温度进行溅射。采用光电子能谱、X射线衍射、拉曼光谱和扫描电镜等测试方法表征薄膜的特性。
关键词
射频磁控溅射
二氧化铈薄膜
光电子能谱
X射线衍射
拉曼光谱
扫描电镜
Keywords
R. F
sputtering
CeO2 thin films
XPS
XRD
raman
SEM
分类号
TN304.055 [电子电信—物理电子学]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
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1
射频磁控溅射法在玻璃基片上沉积CeO_2薄膜的研究(英文)
梁飞
倪佳苗
赵青南
《传感技术学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2006
1
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