-
题名微波等离子体低温制备氮杂二氧化钒薄膜
被引量：2
- 1
-
-
作者
陈金民
黄志良
刘羽
王升高
-
机构
武汉工程大学湖北省等离子体重点实验室
-
出处
《功能材料》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2007年第5期743-745,749,共4页
-
基金
湖北省自然科学基金资助项目(2005ABA024)
湖北省科技厅重大攻关资助项目(2006AA101C45)
-
文摘
选用V2O5为前驱物,通过在玻璃片上镀膜,采用微波等离子体增强法,在低温条件下,成功制备了氮杂二氧化钒薄膜。通过X射线衍射(XRD),FT-IR对样品进行表征,结果表明:合成的样品为多晶氮杂二氧化钒。相变温度测试结果表明:退火工艺可以降低相变温度,同时提高薄膜的结晶度;改变氮气流量,相变温度先降低后升高,当氮气流量为20ml/min时,相变温度可以降低至40℃。
-
关键词
微波等离子体
VO2
氮杂二氧化钒
相变温度
-
Keywords
microwave plasma
VO2
nitrogen doped VO2-xNy
phase transition temperature
thin film
-
分类号
TB34
[一般工业技术—材料科学与工程]
-
