溅射辅助微波等离子体化学气相沉积SiCN晶体

1

作者 万军 马志斌 +2 位作者 曹宏 吴振辉 汪建华 《新型炭材料》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2010年第1期48-52,共5页

在微波等离子体化学气相沉积系统中,利用脉冲氮离子束溅射二氰二氨靶产生的碳氮粒子作为合成前驱物,在石英玻璃基片上研究了SiCN晶体的合成。用扫描电子显微镜(SEM)、X射线能谱(EDX)、X射线衍射(XRD)和X射线光电子能谱(XPS)研究了基片... 在微波等离子体化学气相沉积系统中,利用脉冲氮离子束溅射二氰二氨靶产生的碳氮粒子作为合成前驱物,在石英玻璃基片上研究了SiCN晶体的合成。用扫描电子显微镜(SEM)、X射线能谱(EDX)、X射线衍射(XRD)和X射线光电子能谱(XPS)研究了基片温度对薄膜的形貌、成分和结构的影响。结果表明:随着基片温度的降低,沉积物由截面为六方形的结晶良好的SiCN晶体(800℃)变成发育不完全的聚片状晶体(700℃),直到变成颗粒细小的无定形碳氮薄膜(550℃)。衍射峰的强度以及晶胞参数a和c的值随温度的降低而减小。薄膜为C原子部分取代Si3N4中的Si原子位置而形成的SiCN晶体,其中N原子主要与Si原子结合,C原子以sp3C—N、sp2CN和sp2CC键的形式存在。降低基片温度有利于提高薄膜中的C含量和sp3C—N键的含量。 展开更多

关键词 SiCN晶体 微波等离子体 溅射 二氰二氨

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高气压微波氢等离子体发射光谱诊断 被引量：7

2

作者 吴利峰 马志斌 +1 位作者 翁国锋 湛玉龙 《强激光与粒子束》 EI CAS CSCD 北大核心 2010年第9期2027-2031,共5页

在2.45GHz,800W级的高气压微波等离子体放电系统中,通过测量不同微波功率和放电气压下氢等离子体的Balmer线系的发射光谱,从测量的谱线总展宽中卷积去掉具有高斯线形的Doppler展宽和仪器展宽得到谱线的Stark展宽,并通过Stark展宽测量氢... 在2.45GHz,800W级的高气压微波等离子体放电系统中,通过测量不同微波功率和放电气压下氢等离子体的Balmer线系的发射光谱,从测量的谱线总展宽中卷积去掉具有高斯线形的Doppler展宽和仪器展宽得到谱线的Stark展宽,并通过Stark展宽测量氢等离子体的电子数密度和电场强度。结果表明:等离子体的电子数密度和电场强度随着放电气压的升高都是先增大后减小,随着微波功率的增加呈现逐渐增大的趋势。微波功率为800W时,气压在25kPa时电子数密度和电场强度都达到最大值,等离子体的电子数密度和内部的电场强度分别为3.55×1012cm-3及4.01kV/cm。 展开更多

关键词 发射光谱 Stark展宽 高气压放电 氢等离子体 电场强度

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MPCVD等离子体的发射光谱研究 被引量：6

3

作者 马志斌 吴建鹏 +3 位作者 陶利平 曹为 李国伟 汪建华 《光谱学与光谱分析》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2013年第9期2562-2565,共4页

在2.45GHz,800W微波等离子体化学气相沉积装置上,利用发射光谱对CH4/H2等离子体进行在线诊断,分析了等离子体中存在的基团,研究了甲烷浓度对各基团浓度及基团的空间分布的影响。结果表明:等离子体中存在CH,Hα,Hβ,Hγ,C2基团和Mo杂质原... 在2.45GHz,800W微波等离子体化学气相沉积装置上,利用发射光谱对CH4/H2等离子体进行在线诊断,分析了等离子体中存在的基团,研究了甲烷浓度对各基团浓度及基团的空间分布的影响。结果表明:等离子体中存在CH,Hα,Hβ,Hγ,C2基团和Mo杂质原子,随着甲烷浓度的升高,各基团的发射光谱强度均有增加,其中C2基团强度显著增加。CH与Hα基团的发射光谱强度比值随甲烷浓度的增加变化不大,而C2与Hα基团的发射光谱强度的比值随甲烷浓度的增加而显著增大。另外,甲烷浓度的增加使得等离子体中各基团在空间分布的均匀性变差。 展开更多

关键词 发射光谱 甲烷浓度 均匀性

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ECR等离子体刻蚀增强机械抛光CVD金刚石 被引量：4

4

作者 潘鑫 马志斌 +2 位作者 高攀 李国伟 曹为 《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2015年第2期174-178,共5页

采用电子回旋共振(ECR)等离子体刻蚀与机械抛光相结合的方法抛光化学气相沉积(CVD)金刚石,运用扫描电镜、Raman光谱观察、分析了刻蚀与抛光后金刚石的表面形貌和质量变化,并与单纯的机械抛光相比较,研究了等离子体刻蚀对后续机械抛光的... 采用电子回旋共振(ECR)等离子体刻蚀与机械抛光相结合的方法抛光化学气相沉积(CVD)金刚石,运用扫描电镜、Raman光谱观察、分析了刻蚀与抛光后金刚石的表面形貌和质量变化,并与单纯的机械抛光相比较,研究了等离子体刻蚀对后续机械抛光的影响,结果发现:金刚石经ECR等离子体刻蚀后非晶碳含量有一定程度降低,刻蚀过程在金刚石晶面形成的疏松表面有利于机械抛光,金刚石表面平均粗糙度更加快速降低。对比实验表明等离子体刻蚀对机械抛光前期的抛光效率的增强效果更为明显,在ECR等离子体刻蚀后的金刚石样品经10min机械抛光后粗糙度从7.284下降到1.054μm,而直接机械抛光30min时金刚石的表面粗糙度为1.133μm,在机械抛光的初始阶段,等离子体刻蚀后的机械抛光效率是单纯机械抛光效率的3倍。最终,经过三次重复刻蚀后机械抛光,金刚石表面粗糙度降为0.045μm。 展开更多

关键词 刻蚀 机械抛光 电子回旋共振等离子体 化学气相沉积金刚石

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氧等离子体刻蚀CVD金刚石膜的影响机理 被引量：4

5

作者 潘鑫 马志斌 +3 位作者 李国伟 曹为 王传新 付秋明 《强激光与粒子束》 EI CAS CSCD 北大核心 2014年第7期243-247,共5页

采用电子回旋共振(ECR)等离子体在不同的磁场位形和工作气压下刻蚀化学气相沉积(CVD)金刚石膜,运用双探针和离子灵敏探针法对等离子体进行了诊断,研究了等离子体参数对刻蚀效果的影响。结果表明:磁场由发散场向收敛场转变时,离子温度、... 采用电子回旋共振(ECR)等离子体在不同的磁场位形和工作气压下刻蚀化学气相沉积(CVD)金刚石膜,运用双探针和离子灵敏探针法对等离子体进行了诊断,研究了等离子体参数对刻蚀效果的影响。结果表明:磁场由发散场向收敛场转变时,离子温度、电子温度和等离子体密度都随之增大,刻蚀效果逐渐增强;当工作气压由低气压向高气压变化时,等离子体参数先增大后减小,CVD金刚石膜表面粗糙度降低程度也出现了相同的趋势。 展开更多

关键词 刻蚀 CVD金刚石 等离子体参数 ECR等离子体

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溴甲烷的等离子体发射光谱测量 被引量：2

6

作者 翁国峰 马志斌 《强激光与粒子束》 EI CAS CSCD 北大核心 2011年第12期3391-3394,共4页

利用脉冲射频空心阴极等离子体源激发含溴甲烷的工作气体产生等离子体,采用HR4000型高分辨力光谱仪测量了等离子体的发射光谱。通过光谱比较,在等离子体发射光谱图中得到了位于635.07,700.52nm的溴原子的特征峰,并实验研究了工作气压和... 利用脉冲射频空心阴极等离子体源激发含溴甲烷的工作气体产生等离子体,采用HR4000型高分辨力光谱仪测量了等离子体的发射光谱。通过光谱比较,在等离子体发射光谱图中得到了位于635.07,700.52nm的溴原子的特征峰,并实验研究了工作气压和溴甲烷密度对溴原子特征峰强度的影响。实验结果表明:在相同的溴甲烷密度下,溴原子的特征峰强度随气压的升高而降低;在相同的气压条件下,溴原子的特征峰强度随溴甲烷密度的升高而升高;溴甲烷密度测量的精度高于1g/m3。 展开更多

关键词 空心阴极 脉冲射频 等离子体发射光谱 溴甲烷 特征峰

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ECR等离子体刻蚀CVD金刚石膜的研究 被引量：1

7

作者 潘鑫 马志斌 吴俊 《金刚石与磨料磨具工程》 CAS 2013年第1期23-25,30,共4页

在自主设计的具有非对称磁镜场位形的ECR等离子体装置上进行CVD金刚石膜的刻蚀实验,研究了基片温度、工作气压和磁场位形三个工艺参数对刻蚀效果的影响。实验结果表明:通过此方法刻蚀的CVD金刚石膜,其晶粒顶端被优先刻蚀,表面粗糙度降... 在自主设计的具有非对称磁镜场位形的ECR等离子体装置上进行CVD金刚石膜的刻蚀实验,研究了基片温度、工作气压和磁场位形三个工艺参数对刻蚀效果的影响。实验结果表明:通过此方法刻蚀的CVD金刚石膜,其晶粒顶端被优先刻蚀,表面粗糙度降低。实际数据显示,刻蚀温度为20℃和150℃时,后者的刻蚀效果更好;工作气压为2×10-3Pa和3×10-2Pa时,前者的刻蚀效果更好;磁场强度为0.2T和0.15 T时,前者的刻蚀效果更强。 展开更多

关键词 ECR等离子体 CVD金刚石膜 刻蚀 基片温度 工作气压 磁场位形

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热丝CVD沉积金刚石薄膜时的等离子体空间分布研究

8

作者 易成 王传新 +5 位作者 范咏志 代凯 马志斌 王升高 满卫东 吴超 《光谱学与光谱分析》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2016年第8期2601-2606,共6页

采用热丝化学气相沉积(chemical vapordeposition,CVD)的方法,以丙酮为碳源生长金刚石薄膜时,利用等离子体发射光谱对生长过程中的等离子体空间分布进行了在线诊断。采用SEM,Raman光谱分别对沉积金剐石膜表面、断面的形貌和质量进行表... 采用热丝化学气相沉积(chemical vapordeposition,CVD)的方法,以丙酮为碳源生长金刚石薄膜时,利用等离子体发射光谱对生长过程中的等离子体空间分布进行了在线诊断。采用SEM,Raman光谱分别对沉积金剐石膜表面、断面的形貌和质量进行表征。光谱分析表明,对于线性阵列布丝情况下,中心区域与边缘区域的基团分布存在差异,中心区温度高,裂解能力强,基团强度高于两边,但中心区域基团特征峰强度的变化比等离子球平缓的多;距离热丝越远,热辐射减小,从丙酮分子中裂解出CH和CO等基团以及由原子H激发的H_β与H_α等强度降低,反而使得复合生成的C2基团增加。SEM测试结果表明,当丝基间距为4.5,5.5,6.5 mm时,所沉积的金刚石薄膜表面由致密规则晶面向混乱转变,且单位时间内的生长速率也依次降低,此外,Raman光谱表明随着纵向间距的加大,金刚石薄膜的质量随之降低。这与诊断结果中CH和CO强度的降低,C_2基团强度增加及基团C_2/H_α比强度下降相吻合。 展开更多

关键词 热丝CVD 金刚石薄膜 发射光谱 空间分布

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氧化铈改性聚丙烯复合材料的介电及力学性能研究

9

作者 朱奎霖 吕冲 +5 位作者 郭雷 陈艺琳 黄易峰 赵培琦 江学良 游峰 《中国塑料》 北大核心 2025年第6期19-23,共5页

通过氨基功能化处理CeO_(2)进行改性,引入MAPP作为增容剂,改善其在聚丙烯(PP)基体中的分散性,并引入聚烯烃弹性体(POE)制备NH_(2)-CeO_(2)/MAPP/PP/POE复合材料,对其介电性能、力学性能进行了研究。结果表明,POE填入量越大,NH_(2)-CeO_(... 通过氨基功能化处理CeO_(2)进行改性,引入MAPP作为增容剂,改善其在聚丙烯(PP)基体中的分散性,并引入聚烯烃弹性体(POE)制备NH_(2)-CeO_(2)/MAPP/PP/POE复合材料,对其介电性能、力学性能进行了研究。结果表明,POE填入量越大,NH_(2)-CeO_(2)/MAPP/PP/POE复合材料的介电常数会增大,相应的介电损耗也会增大。POE质量分数为11%时,测试频率为1 kHz,NH_(2)-CeO_(2)/MAPP/PP/POE复合材料的介电常数达到最大值4.23,对应的介电损耗为0.0183,断裂伸长率为66.7%。 展开更多

关键词 氧化铈 聚烯烃弹性体 聚丙烯 介电性能 力学性能

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乳液包覆氧化铈改性聚丙烯复合材料的介电及热性能研究

10

作者 国江 许梦伊 +4 位作者 黄想 史正雪 吕冲 江学良 游峰 《塑料工业》 北大核心 2025年第7期52-57,65,共7页

为改善氧化铈(CeO_(2))易自团聚现象,以聚丙烯(PP)为基体,利用聚丙烯蜡乳液对CeO_(2)进行表面乳液包覆处理得到m-CeO_(2),通过熔融共混法制备m-CeO_(2)/PP复合材料。采用扫描电子显微镜(SEM)、宽频介电阻抗仪、差示扫描量热仪(DSC)、热... 为改善氧化铈(CeO_(2))易自团聚现象,以聚丙烯(PP)为基体,利用聚丙烯蜡乳液对CeO_(2)进行表面乳液包覆处理得到m-CeO_(2),通过熔融共混法制备m-CeO_(2)/PP复合材料。采用扫描电子显微镜(SEM)、宽频介电阻抗仪、差示扫描量热仪(DSC)、热失重分析仪(TG)和热变形维卡软化点测定仪对其界面相容性、介电性能及热性能进行了研究。结果表明,经表面处理后的m-CeO_(2)在PP基体中的分散性提高。m-CeO_(2)/PP复合材料的介电常数随m-CeO_(2)含量的增多而增大,并且降低了CeO_(2)/PP复合材料过高的介电损耗。当测试频率为1 kHz时,30%m-CeO_(2)/PP复合材料介电常数最大为3.71,相较于纯PP和30%CeO_(2)/PP复合材料分别提高了64.2%和3.9%,介电性能明显增强。此外,由于m-CeO_(2)与PP基体间具有更好的界面相容性,m-CeO_(2)/PP复合材料的结晶性、热稳定性及维卡软化温度相较于CeO_(2)/PP复合材料均有所提高,有效提升了m-CeO_(2)/PP复合材料在高温介电领域的应用前景。 展开更多

关键词 氧化铈 乳液包覆 聚丙烯 介电性能 热性能

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MPCVD中双基片结构对等离子体的影响研究 被引量：2

11

作者 丁康俊 马志斌 +2 位作者 黄宏伟 宋修曦 任昱霖 《真空科学与技术学报》 CSCD 北大核心 2017年第5期488-493,共6页

在传统的波导耦合微波等离子体化学气相沉积装置中引入双基片结构,测量了金刚石沉积过程中的等离子体发射光谱,通过与单基片结构对比,比较研究了双基片对微波等离子体参数的影响。研究表明:在相同金刚石沉积参数下,双基片结构相比于单... 在传统的波导耦合微波等离子体化学气相沉积装置中引入双基片结构,测量了金刚石沉积过程中的等离子体发射光谱,通过与单基片结构对比,比较研究了双基片对微波等离子体参数的影响。研究表明:在相同金刚石沉积参数下,双基片结构相比于单基片结构下等离子体基团强度更高。其中H_α基团强度远高于单基片台下H_α基团强度;随着甲烷浓度的增加,双基片结构下C_2基团强度上升更加显著,且在相同条件下,双基片结构下C_2与H_α的比值更小,有利于提高金刚石膜的质量。此外,双基片结构下等离子体电子温度较低且随气压的上升而进一步降低。 展开更多

关键词 化学气相沉积 发射光谱 金刚石膜 新型MPCVD装置

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ECR微波等离子体对单晶金刚石表面的碳纳米墙修饰 被引量：1

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作者 衡凡 廖学红 +4 位作者 曹为 付秋明 许传波 赵洪阳 马志斌 《金刚石与磨料磨具工程》 CAS 北大核心 2020年第1期34-38,共5页

利用电子回旋共振(ECR)微波等离子体,在CH4/H2体系下,对高温高压单晶金刚石表面进行了碳纳米墙修饰。通过等离子体发射光谱研究ECR等离子体内基团的谱线强度在不同工作气压、CH4浓度下的变化规律,结合扫描电子显微镜对单晶金刚石表面的... 利用电子回旋共振(ECR)微波等离子体,在CH4/H2体系下,对高温高压单晶金刚石表面进行了碳纳米墙修饰。通过等离子体发射光谱研究ECR等离子体内基团的谱线强度在不同工作气压、CH4浓度下的变化规律,结合扫描电子显微镜对单晶金刚石表面的微观形貌进行分析,进一步研究了工作气压和CH4浓度对碳纳米墙修饰结果的影响。结果表明:碳纳米墙的取向性受工作气压影响大,低气压(0.07 Pa)条件下生长的碳纳米墙垂直取向明显,金刚石表面也出现垂直刻蚀形貌;在高气压(5 Pa)条件下生长的碳纳米墙取向性较差。同时,碳纳米墙生长的临界CH4浓度也与工作气压有关:低气压条件下碳纳米墙生长的临界CH4浓度高,工作气压为0.07 Pa时,碳纳米墙生长的临界CH4浓度为3%;工作气压升至5 Pa时,碳纳米墙生长的临界CH4浓度降为1%,碳纳米墙密度随CH4浓度升高而增大。 展开更多

关键词 ECR微波等离子体 单晶金刚石 碳纳米墙修饰

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氢氧等离子体预处理对单晶金刚石刻蚀坑的研究 被引量：3

13

作者 熊刚 汪建华 +3 位作者 翁俊 白傲 周程 刘繁 《真空科学与技术学报》 CSCD 北大核心 2017年第9期909-915,共7页

采用自制的微波等离子体化学气相沉积装置,在高温高压法合成的金刚石的衬底上外延生长单晶金刚石。实验分为两步,首先用氢氧等离子体在生长之前进行预处理刻蚀,然后外延生长30 h。利用金相显微镜和激光拉曼光谱来表征单晶金刚石刻蚀坑... 采用自制的微波等离子体化学气相沉积装置,在高温高压法合成的金刚石的衬底上外延生长单晶金刚石。实验分为两步,首先用氢氧等离子体在生长之前进行预处理刻蚀,然后外延生长30 h。利用金相显微镜和激光拉曼光谱来表征单晶金刚石刻蚀坑以及外延生长的单晶金刚石质量。研究结果表明,氧会优先刻蚀籽晶表面的缺陷和位错,可以通过刻蚀坑密度来判断衬底质量,且经过预处理刻蚀能消除单晶金刚石表面的缺陷。籽晶表面经刻蚀后会出现平底型和尖锥型两种倒金字塔型刻蚀坑,且晶体表面的原本缺陷或由抛光造成起的缺陷会随刻蚀时间延长、刻蚀强度增大而消失。经过氢氧等离子体预处理外延生长的单晶中非金刚石相杂质含量较少,结晶性高。 展开更多

关键词 微波等离子体 化学气相沉积 单晶金刚石 刻蚀坑

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双路微波耦合反应腔的等离子体发射光谱分析 被引量：2

14

作者 李方辉 何中文 +4 位作者 曹为 赵洪阳 付秋明 许传波 马志斌 《光谱学与光谱分析》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2020年第11期3613-3616,共4页

反应腔作为微波等离子体化学气相沉积法制备光纤预制棒的核心,其结构直接影响到反应腔内的电磁场分布,进而影响到等离子体状态,因此对反应腔的结构进行研究是十分有必要的。为了在反应腔中获得较高密度和较好均匀性的等离子体,提出了一... 反应腔作为微波等离子体化学气相沉积法制备光纤预制棒的核心,其结构直接影响到反应腔内的电磁场分布,进而影响到等离子体状态,因此对反应腔的结构进行研究是十分有必要的。为了在反应腔中获得较高密度和较好均匀性的等离子体,提出了一种双路微波耦合反应腔结构,首先模拟计算了不同反应腔结构参数下反应腔内的电场分布规律,并以氧气作为工作气体,通过等离子体发射光谱探究了反应腔结构和工作气压对石英管内的等离子体分布的影响。研究结果表明:双路微波输入方式在石英管中心区域产生了很强的电场耦合增强效果。反应腔的内径对电场分布状态影响较大,在反应腔内径为86 mm时,石英管内的电场分布出现轴对称性,且轴向中心区域的等离子体密度最大。在两路矩形波导的距离为61.2 mm和反应腔的长度为202 mm时,反应腔内等离子体的强度和均匀性具有最佳分布。另外还发现,当气压从1.8 kPa上升到2.8 kPa时,反应腔内等离子体光谱强度减小,但靠近石英管内壁处的变化不明显,这与等离子体中粒子碰撞几率增加造成的能量损失和管壁存在的高温有关。 展开更多

关键词 双路微波耦合反应腔 发射光谱 微波等离子体

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氮化硼功能化改性高分子导热复合材料的制备及性能研究进展 被引量：3

15

作者 柯雪 董姗 +5 位作者 刘婵玉 李梦莎 游峰 江兵兵 江学良 姚楚 《高分子材料科学与工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2024年第3期180-190,共11页

高导热绝缘材料在应对日益严峻的电子元器件领域的热管理问题中的应用广泛,以氮化硼改性高分子基导热复合材料已成为其中的研究热点之一。引入具有高导热系数的氮化硼纳米材料,不仅可以解决高分子材料热导率低的问题,还能使得所制氮化... 高导热绝缘材料在应对日益严峻的电子元器件领域的热管理问题中的应用广泛,以氮化硼改性高分子基导热复合材料已成为其中的研究热点之一。引入具有高导热系数的氮化硼纳米材料,不仅可以解决高分子材料热导率低的问题,还能使得所制氮化硼改性高分子导热复合材料的力学性能、电绝缘性能和热稳定性能得到提升。文中简要介绍了氮化硼的结构特性及各种制备方法,结合课题组的研究工作综述了六方氮化硼从功能化、取向分散、三维导热网络构建3个方面对高分子材料的改性,以及六方氮化硼和零维、一维、多元导热填料协同杂化高分子材料。最终,提出现阶段六方氮化硼改性高分子导热复合材料存在的主要问题,并对未来的研究方向进行了分析与展望。 展开更多

关键词 氮化硼 导热性能 填料杂化 复合材料 功能化改性

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聚氨酯多孔吸声材料的制备、结构及性能研究进展 被引量：2

16

作者 段银莹 徐奕灵 +5 位作者 洪峰 刘婵玉 严小龙 柯雪 江学良 游峰 《高分子材料科学与工程》 CSCD 北大核心 2024年第12期137-147,共11页

随着科学技术的迅猛发展,噪声污染已成为人们生活的一大障碍,高效吸声材料的研究已经成为热点研究领域。聚氨酯孔状材料具有优异的阻尼性能和发达的孔隙结构,因此,其作为声学材料基体在吸声降噪方面具有重要的应用价值。文中综述了国内... 随着科学技术的迅猛发展,噪声污染已成为人们生活的一大障碍,高效吸声材料的研究已经成为热点研究领域。聚氨酯孔状材料具有优异的阻尼性能和发达的孔隙结构,因此,其作为声学材料基体在吸声降噪方面具有重要的应用价值。文中综述了国内外聚氨酯吸声材料的研究报道,探讨了多孔材料的吸声原理,主要介绍了聚氨酯吸声材料的制备、结构及吸声性能,以及改性聚氨酯孔状吸声材料的研究进展,主要包括以下方面:填料改性聚氨酯、制备复合气凝胶、聚氨酯发泡以及形成多层发泡结构;最后对聚氨酯在吸声领域的发展方向进行了展望,并指出了存在的问题。基于现有分析认为,在未来的研究中可以综合运用填料改性和结构设计双重机制对聚氨酯吸声体系性能进行调控,以获得具有高阻尼高吸声性能的聚氨酯吸声材料,以满足工业化、商业化应用的需求。 展开更多

关键词 聚氨酯 吸声系数 吸声材料 发泡

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用于应变传感器的自愈合抗冻离子水凝胶

17

作者 杜海燕 朱凯 +4 位作者 游峰 王金凤 赵一帆 张楠 李英 《化工学报》 EI CSCD 北大核心 2024年第7期2709-2722,共14页

近年来,导电水凝胶在电子驱动器、医疗监测传感器及可穿戴设备等领域的应用备受关注。然而,多数凝胶机械强度低、寿命短、抗冻性能差,从而导致低温下无法使用。为了解决该问题,以聚乙烯醇、离子液体1-丁基-3-甲基咪唑四氟硼酸盐和植酸... 近年来,导电水凝胶在电子驱动器、医疗监测传感器及可穿戴设备等领域的应用备受关注。然而,多数凝胶机械强度低、寿命短、抗冻性能差,从而导致低温下无法使用。为了解决该问题,以聚乙烯醇、离子液体1-丁基-3-甲基咪唑四氟硼酸盐和植酸为原料,在水与二甲基亚砜(DMSO)二元溶液中借助多重氢键及离子基团间的静电作用实现了超分子自组装,制备出一种可用于应变传感的自愈合、耐低温多功能离子水凝胶。研究发现在凝胶中引入DMSO,凝胶表现出优异的抗冻能力;同时,调节DMSO的含量可优化凝胶的强度和韧性,当DMSO体积分数为40%时,最大拉伸强度和断裂伸长率分别可达4.43 MPa和869.1%。该离子水凝胶在低温应变传感器、智能可穿戴响应元件等领域展现出较好的应用潜力。 展开更多

关键词 离子液体 凝胶 聚合物 聚乙烯醇 自愈合 抗冻 应变传感器

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吸声材料制备、性能研究进展 被引量：15

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作者 刘杨 霍又嘉 +4 位作者 杜元开 胡祥 张伟程 赵培 游峰 《功能材料》 CAS CSCD 北大核心 2022年第2期2073-2079,共7页

近年来,吸声材料的发展突飞猛进,在交通建筑等邻域应用广泛。综述了吸声材料的特点和研究进展,探讨了基本吸声原理。此外,从吸声材料的制备入手,着重介绍了多孔吸声材料、共振吸声材料和复合吸声材料各自的吸声特性及材料结构的研究进展... 近年来,吸声材料的发展突飞猛进,在交通建筑等邻域应用广泛。综述了吸声材料的特点和研究进展,探讨了基本吸声原理。此外,从吸声材料的制备入手,着重介绍了多孔吸声材料、共振吸声材料和复合吸声材料各自的吸声特性及材料结构的研究进展;如何利用材料内部结构的改善实现高效降噪是吸声材料科研领域研究的重点方向;最后提出了如何将声学材料阻尼损耗因子和声学系数进行关联的问题。并由此关联性进行吸声性能研究,从而通过材料阻尼因子的设计来调控声学性能。 展开更多

关键词 吸声材料 高分子 吸声系数 损耗因子

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氨基甲基吡啶改性氮化硼/线型低密度聚乙烯复合材料的热性能及力学性能 被引量：3

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作者 唐敢 柯雪 +5 位作者 董姗 张兆阳 游峰 陈蓉 刘仿军 江学良 《高分子材料科学与工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2023年第2期43-50,共8页

利用4-氨基甲基吡啶与马来酸酐接枝线型低密度聚乙烯(LLDPE-g-MAH)成功制备了氨基甲基吡啶接枝线型低密度聚乙烯(LLDPE-g-Py),然后采用熔融共混法制备了改性的BN/LLDPE(mBN/LLDPE)复合材料。深入研究了mBN/LLDPE复合材料的热性能和力学... 利用4-氨基甲基吡啶与马来酸酐接枝线型低密度聚乙烯(LLDPE-g-MAH)成功制备了氨基甲基吡啶接枝线型低密度聚乙烯(LLDPE-g-Py),然后采用熔融共混法制备了改性的BN/LLDPE(mBN/LLDPE)复合材料。深入研究了mBN/LLDPE复合材料的热性能和力学性能等。结果表明,LLDPE-g-Py的加入,使mBN/LLDPE复合材料的导热性能得到很大提升,但LLDPE-g-Py过多会导致其耐热性降低。为了改善复合材料的耐热性,将LLDPE-g-Py质量分数固定为10%。当BN质量分数为40%时,mBN/LLDPE复合材料的导热系数达到了0.95 W/(m·K),为纯LLDPE导热系数(0.32 W/(m·K))的3倍。同时,mBN/LLDPE复合材料的拉伸强度在小幅度下降的情况下,其断裂伸长率得到明显的改善。 展开更多

关键词 复合材料 线型低密度聚乙烯 氮化硼 导热性 力学性能

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低收缩耐热耐油聚氯乙烯/氮化硼复合材料的制备及其性能研究 被引量：2

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作者 蔡梦莹 师雯 +4 位作者 张梓楠 朱雯雯 翁闯 耿飞 游峰 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2021年第3期3110-3114,3129,共6页

首先使用退火处理的方法使六方氮化硼(hBN)带上羟基,并与硅烷偶联剂混合,得到表面处理后的氮化硼(BN)。然后用熔融共混的方式制备出不同浓度的聚氯乙烯/氮化硼(PVC/BN)及聚氯乙烯/氮化硼/聚酰胺(PVC/BN/PA)复合材料。通过维卡软化点温... 首先使用退火处理的方法使六方氮化硼(hBN)带上羟基,并与硅烷偶联剂混合,得到表面处理后的氮化硼(BN)。然后用熔融共混的方式制备出不同浓度的聚氯乙烯/氮化硼(PVC/BN)及聚氯乙烯/氮化硼/聚酰胺(PVC/BN/PA)复合材料。通过维卡软化点温度测定仪,动态力学分析仪和游标卡尺、耐油性能测试对复合材料的性能进行测试和表征,表明添加改性后BN粒子,可以使PVC和BN结合的更加紧密,复合体系的热学和耐油性能得到提高。同时添加BN含量为10%,PA6含量为25%(质量分数)时,复合材料的热学性能和耐油性达到最佳,远好于PVC材料。 展开更多

关键词 聚氯乙烯 氮化硼 聚酰胺 耐热性 耐油性 低收缩

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