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题名不同基台时种植体支持全瓷单冠的应力分析
被引量：16
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作者
李智勇
刘学军
赵丽雅
胡建
程祥荣
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机构
武汉大学口腔医学院修复科
武汉大学医学院职业技术学院
武汉大学口腔医院口腔生物医学工程教育部重点实验室
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出处
《口腔医学研究》
CAS
CSCD
2007年第4期402-404,共3页
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文摘
目的:观察氧化铝、氧化锆全瓷基台和钛基台支持时种植体全瓷单冠各部位的应力分布情况。方法:建立种植体支持下颌第一前磨牙全瓷单冠的三维有限元模型,基台分别选用氧化铝、氧化锆和钛,采用垂直和水平加载两种方式,分析全瓷冠、基台、种植体及其周围骨组织的应力分布情况和最大应力。结果:全瓷基台和钛基台支持时应力分布基本类似,最大应力在水平加载时大于垂直加载时。全瓷冠内部应力集中在加载部位和舌侧肩台处,全瓷基台支持时最大应力无明显差异,稍低于钛基台支持时。基台内部应力集中在基台-种植体连接处的颊侧,瓷基台内部的最大应力高于钛基台,位移量小于钛基台。种植体及骨组织内部应力集中在种植体颈部皮质骨,最大应力在垂直加载条件下不同基台时无明显差异,在水平加载条件下钛基台高于全瓷基台。结论:全瓷基台支持时全瓷冠、种植体和骨组织内部应力较小;两种全瓷基台内部应力无明显差异,均高于钛基台。
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关键词
基台
种植体
全瓷冠
应力
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Keywords
Abutment Implant All - ceramic crown Stress
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分类号
R783.6
[医药卫生—口腔医学]
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