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低偏压下化学气相沉积金刚石薄膜的生长形貌研究
被引量：
1
1
作者
王传新
汪建华
+4 位作者
马志斌
满卫东
王升高
康志成
吴素娟
《材料保护》
CAS
CSCD
北大核心
2003年第5期1-4,共4页
在微波等离子体化学气相沉积装置中,研究了偏压电压、甲烷浓度及沉积气压对金刚石晶形显露的影响。实验结果表明,生长时施加低的衬底偏压对金刚石的晶形显露有较大的影响,正的偏压有利于(111)面显露,负偏压有利于(100)面显露。在低偏压...
在微波等离子体化学气相沉积装置中,研究了偏压电压、甲烷浓度及沉积气压对金刚石晶形显露的影响。实验结果表明,生长时施加低的衬底偏压对金刚石的晶形显露有较大的影响,正的偏压有利于(111)面显露,负偏压有利于(100)面显露。在低偏压条件下生长时,低的沉积气压和甲烷浓度有利于(111)面显露;而高的气压和甲烷浓度有利于(100)面显露。过高的甲烷浓度将恶化金刚石质量,出现菜花状组织,无明显的晶面显露。
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关键词
化学气相沉积
低偏压生长
金刚石薄膜
图像
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职称材料
题名
低偏压下化学气相沉积金刚石薄膜的生长形貌研究
被引量：
1
1
作者
王传新
汪建华
马志斌
满卫东
王升高
康志成
吴素娟
机构
中国科
学院
等离子体
物理研究所
武汉化工学院湖北省微波等离子体化学与新材料重点实验室
出处
《材料保护》
CAS
CSCD
北大核心
2003年第5期1-4,共4页
文摘
在微波等离子体化学气相沉积装置中,研究了偏压电压、甲烷浓度及沉积气压对金刚石晶形显露的影响。实验结果表明,生长时施加低的衬底偏压对金刚石的晶形显露有较大的影响,正的偏压有利于(111)面显露,负偏压有利于(100)面显露。在低偏压条件下生长时,低的沉积气压和甲烷浓度有利于(111)面显露;而高的气压和甲烷浓度有利于(100)面显露。过高的甲烷浓度将恶化金刚石质量,出现菜花状组织,无明显的晶面显露。
关键词
化学气相沉积
低偏压生长
金刚石薄膜
图像
Keywords
chemical vapor deposition
low bias growth
diamond film
分类号
TB43 [一般工业技术]
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题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
低偏压下化学气相沉积金刚石薄膜的生长形貌研究
王传新
汪建华
马志斌
满卫东
王升高
康志成
吴素娟
《材料保护》
CAS
CSCD
北大核心
2003
1
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