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TMAH硅湿法刻蚀剂中异丙醇与氧化剂的协同作用
被引量：
1
1
作者
陈东
刘诗斌
梁晋涛
《广西师范大学学报（自然科学版）》
CAS
北大核心
2014年第2期55-59,共5页
四甲基氢氧化铵(TMAH)是一种在微机电系统加工中常用的硅湿法刻蚀剂。在对含有铝结构表面的硅器件进行湿法刻蚀时,需要在TMAH溶液中添加一定量的硅酸和氧化剂,以保护器件表面的金属铝,但这会降低硅表面的光洁度。本文在含硅酸的TMAH溶...
四甲基氢氧化铵(TMAH)是一种在微机电系统加工中常用的硅湿法刻蚀剂。在对含有铝结构表面的硅器件进行湿法刻蚀时,需要在TMAH溶液中添加一定量的硅酸和氧化剂,以保护器件表面的金属铝,但这会降低硅表面的光洁度。本文在含硅酸的TMAH溶液中同时添加过硫酸铵和异丙醇2种物质,研究其对TMAH刻蚀作用的影响。研究结果表明,2种物质的协同作用能够显著提高硅刻蚀表面的光洁度。
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关键词
四甲基氢氧化铵
硅湿法刻蚀
过硫酸铵
异丙醇
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职称材料
题名
TMAH硅湿法刻蚀剂中异丙醇与氧化剂的协同作用
被引量：
1
1
作者
陈东
刘诗斌
梁晋涛
机构
西北工业
大学
电子
信息
学院
西安邮电
大学
电子
工程
学院
桂林电子科技大学环境与生命科学学院
出处
《广西师范大学学报（自然科学版）》
CAS
北大核心
2014年第2期55-59,共5页
基金
国家自然科学基金资助项目(60874101)
文摘
四甲基氢氧化铵(TMAH)是一种在微机电系统加工中常用的硅湿法刻蚀剂。在对含有铝结构表面的硅器件进行湿法刻蚀时,需要在TMAH溶液中添加一定量的硅酸和氧化剂,以保护器件表面的金属铝,但这会降低硅表面的光洁度。本文在含硅酸的TMAH溶液中同时添加过硫酸铵和异丙醇2种物质,研究其对TMAH刻蚀作用的影响。研究结果表明,2种物质的协同作用能够显著提高硅刻蚀表面的光洁度。
关键词
四甲基氢氧化铵
硅湿法刻蚀
过硫酸铵
异丙醇
Keywords
TMAH
silicon wet etching
ammonium persulfate
isopropyl alcohol
分类号
TN305 [电子电信—物理电子学]
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题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
TMAH硅湿法刻蚀剂中异丙醇与氧化剂的协同作用
陈东
刘诗斌
梁晋涛
《广西师范大学学报（自然科学版）》
CAS
北大核心
2014
1
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