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TiN、Ti(C,N)和(Ti,Al)N涂层的结构和性能研究 被引量:8
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作者 周兴灵 彭卫珍 +1 位作者 周书助 陈利 《矿冶工程》 CAS CSCD 北大核心 2008年第3期114-116,共3页
借助EPMA、XRD、SEM、纳米压痕和划痕仪研究了采用磁控溅射在硬质合金基体上沉积的TiN、Ti(C,N)和(Ti,Al)N涂层的组织结构和力学性能。研究表明,TiN涂层的晶粒形貌为典型的喇叭口结构,呈(220)生长织构;Ti(C,N)与(Ti,Al)N涂层为平直的柱... 借助EPMA、XRD、SEM、纳米压痕和划痕仪研究了采用磁控溅射在硬质合金基体上沉积的TiN、Ti(C,N)和(Ti,Al)N涂层的组织结构和力学性能。研究表明,TiN涂层的晶粒形貌为典型的喇叭口结构,呈(220)生长织构;Ti(C,N)与(Ti,Al)N涂层为平直的柱状晶结构,但表现出不同的取向。Ti(C,N)涂层表现出最高的硬度,TiN涂层则表现出与基体更好的结合力,(Ti,Al)N涂层由于其好的高温稳定性表现出最好的切削性能。 展开更多
关键词 涂层 微观结构 硬度 结合力 切削性能
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超细TaN粉的制备 被引量:1
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作者 潘泽强 杨声海 +1 位作者 王时光 何坤池 《稀有金属快报》 CSCD 2005年第6期34-36,共3页
在耐热钢真空炉中,通氮气加热制备TaN粉。以钽粉为原料,研究了恒温温度、恒温时间和氮气分压对TaN产品含N量的影响,确定了制备TaN粉的最佳工艺条件是:恒温温度为1100℃,氮气分压0.05MPa,恒温时间4h。可以制得含7.2%N、粒径小于1.0μm的... 在耐热钢真空炉中,通氮气加热制备TaN粉。以钽粉为原料,研究了恒温温度、恒温时间和氮气分压对TaN产品含N量的影响,确定了制备TaN粉的最佳工艺条件是:恒温温度为1100℃,氮气分压0.05MPa,恒温时间4h。可以制得含7.2%N、粒径小于1.0μm的超细TaN粉末。XRD分析表明,所得的TaN产品以TaN为主,含有少量的Ta2N,TaN0.8。 展开更多
关键词 钽粉 氮化钽
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