期刊文献+
共找到1篇文章
< 1 >
每页显示 20 50 100
Cu基Al掺杂ZnO多层薄膜的生长和性能
1
作者 王钰萍 叶春丽 +3 位作者 吕建国 丛宏林 江忠永 叶志镇 《材料科学与工程学报》 CAS CSCD 北大核心 2012年第5期684-688,693,共6页
本文采用直流磁控溅射技术在玻璃衬底上制备了AZO/Cu、Cu/AZO和AZO/Cu/AZO三种复合结构多层膜,研究了生长温度对多层膜特性的影响,发现AZO/Cu双层薄膜具有最优的光电性能,其最佳生长温度为100~150℃。文中进一步考察了生长温度... 本文采用直流磁控溅射技术在玻璃衬底上制备了AZO/Cu、Cu/AZO和AZO/Cu/AZO三种复合结构多层膜,研究了生长温度对多层膜特性的影响,发现AZO/Cu双层薄膜具有最优的光电性能,其最佳生长温度为100~150℃。文中进一步考察了生长温度对AZO/Cu双层薄膜结构性能和表面形貌的影响,结果表明:合适的生长温度有利于改善AZO/Cu双层薄膜的晶体质量,进而提高其光电性能;150℃下沉积的薄膜具有最佳品质因子1.11×10^-2Ω^-1,此时方块电阻为8.99Ω/sq,可见光透过率为80%,近红外反射率约70%。本文在较低温度下制备的AZO/Cu双层膜具有较优的透明导电性和良好的近红外反射性,可以广泛应用于镀膜玻璃、太阳能电池、平板显示器等光电领域。 展开更多
关键词 AZO 多层结构薄膜 光电性能 生长温度
在线阅读 下载PDF
上一页 1 下一页 到第
使用帮助 返回顶部