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电老化和老化台的设计要点
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作者 施式凡 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 1998年第1期58-60,共3页
介绍电老化的作用,大功率老化台线路设计和分析比较,老化台的冷却系统和各种保护系统,以及现用老化台中一些易被忽视的问题。
关键词 电老化 保护系统 设计 电子元器件 半导体材料
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硅功率晶体管的热疲劳及温度循环图
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作者 叶奇放 周志坤 《半导体技术》 CAS 1987年第3期45-50,共6页
最近几年来,随着军用和民用电子设备对可靠性要求的日益提高,可靠性研究工作的不断深化,功率晶体管的热疲劳正在理论上和实践上越来越为国内所重视.七十年代前后,国外就对此课题进行了不少的研究工作.美国和日本相继将晶体管间歇工作寿... 最近几年来,随着军用和民用电子设备对可靠性要求的日益提高,可靠性研究工作的不断深化,功率晶体管的热疲劳正在理论上和实践上越来越为国内所重视.七十年代前后,国外就对此课题进行了不少的研究工作.美国和日本相继将晶体管间歇工作寿命(热疲动)试验列为国家标准.例如美国的MIL-S-19500F标准和日本的JIS-C-7215标准(1980年)均把热疲劳作为耐久性试验的项目。 展开更多
关键词 功率晶体管 热疲劳试验 功率管 巨型晶体管 电力电子器件 电子管 温度循环
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大电流光激可控硅的设计制造及应用
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作者 阮震翔 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 1994年第1期16-21,共6页
本文给出了大电流光激可控硅的设计考虑,特别对光激可控硅的正、反向阻断电压和α_(npn)、α_(pnp)的关系,以及光触发开启灵敏度和dV/dt、dI/dt耐量的解决办法作了较为详细的论述。同时还介绍了3安培光激可控... 本文给出了大电流光激可控硅的设计考虑,特别对光激可控硅的正、反向阻断电压和α_(npn)、α_(pnp)的关系,以及光触发开启灵敏度和dV/dt、dI/dt耐量的解决办法作了较为详细的论述。同时还介绍了3安培光激可控硅的制造方法,以及在光敏固态继电器(SSR)上的应用。 展开更多
关键词 晶闸管 光激可控硅 设计制造
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符合特殊要求的大功率晶体管的制造
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作者 杜永辉 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 1996年第2期40-41,共2页
符合特殊要求的大功率晶体管的制造杭州半导体厂(杭州310007)杜永辉共发射极电流放大系数hFE是晶体管的一个重要电学参数。此参数值的大小又是集电极电流Ic和温度TA的函数。随着Ic和TA的不同,其大小亦不相同。但在... 符合特殊要求的大功率晶体管的制造杭州半导体厂(杭州310007)杜永辉共发射极电流放大系数hFE是晶体管的一个重要电学参数。此参数值的大小又是集电极电流Ic和温度TA的函数。随着Ic和TA的不同,其大小亦不相同。但在实际应用中却又常常要求该变化必需满... 展开更多
关键词 大功率晶体管 制造工艺
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带内建二极管的彩电行管瞬态热阻的测量
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作者 周志坤 叶奇放 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 1989年第2期31-34,27,共5页
本文以实验比较了一般功率晶体管和带内建二极管的功率晶体管的EB结的温度特性,分析了并联在EB结上的扩散电阻Rb对测量晶体管△V_(BE)E产生影响的原因.提出了带内建二极管的功率管△v_(BE)测量条件.
关键词 彩电 功率晶体管 瞬态热阻 测量
全文增补中
提高功率器件抗热疲劳性能研究
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作者 郭萍 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 1989年第3期24-28,共5页
众所周知,当半导体器件处于间歇工作状态时,器件经历周期性高温、低温循环,形成了热循环.该热循环在器件内部产生应力,并在热循环过程中反复不断地作用在器件内部的接合层上,使器件的热阻增加,最后导致器件热疲劳失效.热疲劳失效是影响... 众所周知,当半导体器件处于间歇工作状态时,器件经历周期性高温、低温循环,形成了热循环.该热循环在器件内部产生应力,并在热循环过程中反复不断地作用在器件内部的接合层上,使器件的热阻增加,最后导致器件热疲劳失效.热疲劳失效是影响功率器件可靠性的重要因素.因此,开展间歇工作寿命试验(即疲劳试验)。 展开更多
关键词 功率器件 抗热疲劳性能
全文增补中
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