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分子直径法计算相对校正因子在气相色谱法测定三氯氢硅含量中的应用
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作者 于晓艳 陶明 +4 位作者 左世芳 杨红燕 李亚娜 张永凤 赵建为 《理化检验(化学分册)》 CAS CSCD 北大核心 2016年第2期183-186,共4页
在气相色谱法测定三氯氢硅含量中,采用分子直径法,以四氯化硅为标准物,计算氯化氢、二氯二氢硅、三氯氢硅在热导检测器上的相对校正因子,并以氦气为载气,测定三氯氢硅对四氯化硅的相对质量校正因子。未采用分子直径法得到的相对质量校... 在气相色谱法测定三氯氢硅含量中,采用分子直径法,以四氯化硅为标准物,计算氯化氢、二氯二氢硅、三氯氢硅在热导检测器上的相对校正因子,并以氦气为载气,测定三氯氢硅对四氯化硅的相对质量校正因子。未采用分子直径法得到的相对质量校正因子为0.891,采用分子直径法得到的相对质量校正因子为0.915,两者相对误差为1.13%。 展开更多
关键词 分子直径法 气相色谱法 三氯氢硅 相对校正因子
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毛细管柱气相色谱法测定氢气中的氯化氢 被引量:3
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作者 于晓艳 杨红燕 +4 位作者 卢菊花 赵建为 李剑南 王桃萍 任国扬 《理化检验(化学分册)》 CAS CSCD 北大核心 2016年第1期86-87,共2页
多晶硅生产中,干法回收氢气作为原料还原剂和载流气体,若其中氯化氢含量高,则在多晶硅生产过程的前期可能出现倒炉现象,后期可能出现磷超标现象,严重影响多晶硅的质量。因此需对回收氢气中的氯化氢进行测定。
关键词 毛细管柱气相色谱法 回收氢气 氯化氢 测定 生产过程 多晶硅 超标现象 还原剂
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烟酸体系中烟酸含量对镀银过程及镀层性能的影响 被引量:2
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作者 亢若谷 曹梅 +3 位作者 畅玢 龙晋明 朱晓云 杨杰伟 《太原理工大学学报》 CAS 北大核心 2014年第5期594-598,共5页
为了在316L不锈钢材质的还原炉内壁获得光亮镀银层,研究了从烟酸体系制备银镀层的工艺,采用电化学工作站研究了电沉积性能和镀层耐蚀性,采用热反射率测试仪测试了镀层反射率,通过XRD表征不同制备条件下所得镀层的相组成。结果发现,随着... 为了在316L不锈钢材质的还原炉内壁获得光亮镀银层,研究了从烟酸体系制备银镀层的工艺,采用电化学工作站研究了电沉积性能和镀层耐蚀性,采用热反射率测试仪测试了镀层反射率,通过XRD表征不同制备条件下所得镀层的相组成。结果发现,随着烟酸浓度的增大,电沉积电位越低,镀层晶粒越小;不同烟酸浓度得到的银镀层有不同的择优取向,随着镀液中烟酸浓度的升高,镀层的耐腐蚀性降低,热反射率降低;烟酸浓度对镀层的表面光亮度无明显影响,通过对比银镀层与不锈钢基体的热反射率,发现热反射率与材料本身有很大的关系。研究得知,在烟酸体系可以获得光亮、耐蚀性好的银镀层。 展开更多
关键词 烟酸体系 还原炉内壁镀银 电位-时间 晶粒尺寸 极化曲线 热反射率
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