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纳米尺度HfO_2薄膜的光谱椭偏模型建立 被引量:2
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作者 张寅辉 任玲玲 +5 位作者 高慧芳 贾亚斌 Fu Weien 刘小萍 Kim Changsoo Yasushi Azuma 《计量学报》 CSCD 北大核心 2017年第5期548-552,共5页
为了建立厚度为1 nm左右HfO_2超薄膜的光谱椭偏测量方法,采用掠入射X射线反射技术进行国家/地区实验室间比对认证,其膜厚准确量值作为参比值,建立了HfO_2超薄膜的光谱椭偏结构拟合模型。研究了HfO_2超薄膜的光谱椭偏色散模型和拟合参数... 为了建立厚度为1 nm左右HfO_2超薄膜的光谱椭偏测量方法,采用掠入射X射线反射技术进行国家/地区实验室间比对认证,其膜厚准确量值作为参比值,建立了HfO_2超薄膜的光谱椭偏结构拟合模型。研究了HfO_2超薄膜的光谱椭偏色散模型和拟合参数,最后确定了拟合色散模型为Tauc-Lorentz 3,拟合光谱范围为3.45~4.35 eV,表面污染层孔隙比例为60:40。 展开更多
关键词 计量学 HfO2超薄膜 纳米尺度 光谱椭偏模型 掠入射X射线反射技术
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