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纳米尺度HfO_2薄膜的光谱椭偏模型建立
被引量:
2
1
作者
张寅辉
任玲玲
+5 位作者
高慧芳
贾亚斌
Fu Weien
刘小萍
Kim Changsoo
Yasushi Azuma
《计量学报》
CSCD
北大核心
2017年第5期548-552,共5页
为了建立厚度为1 nm左右HfO_2超薄膜的光谱椭偏测量方法,采用掠入射X射线反射技术进行国家/地区实验室间比对认证,其膜厚准确量值作为参比值,建立了HfO_2超薄膜的光谱椭偏结构拟合模型。研究了HfO_2超薄膜的光谱椭偏色散模型和拟合参数...
为了建立厚度为1 nm左右HfO_2超薄膜的光谱椭偏测量方法,采用掠入射X射线反射技术进行国家/地区实验室间比对认证,其膜厚准确量值作为参比值,建立了HfO_2超薄膜的光谱椭偏结构拟合模型。研究了HfO_2超薄膜的光谱椭偏色散模型和拟合参数,最后确定了拟合色散模型为Tauc-Lorentz 3,拟合光谱范围为3.45~4.35 eV,表面污染层孔隙比例为60:40。
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关键词
计量学
HfO2超薄膜
纳米尺度
光谱椭偏模型
掠入射X射线反射技术
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职称材料
题名
纳米尺度HfO_2薄膜的光谱椭偏模型建立
被引量:
2
1
作者
张寅辉
任玲玲
高慧芳
贾亚斌
Fu Weien
刘小萍
Kim Changsoo
Yasushi Azuma
机构
太原理工大学
中国
计量
科学
研究院
工业技术
研究院
韩国标准科学
研究院
日本国家计量研究院
出处
《计量学报》
CSCD
北大核心
2017年第5期548-552,共5页
基金
国家质量基础的共性技术研究与应用重点专项基金(2016YFF0204300)
国家重点研发计划纳米科技重点专项(2016YFA0200901)
文摘
为了建立厚度为1 nm左右HfO_2超薄膜的光谱椭偏测量方法,采用掠入射X射线反射技术进行国家/地区实验室间比对认证,其膜厚准确量值作为参比值,建立了HfO_2超薄膜的光谱椭偏结构拟合模型。研究了HfO_2超薄膜的光谱椭偏色散模型和拟合参数,最后确定了拟合色散模型为Tauc-Lorentz 3,拟合光谱范围为3.45~4.35 eV,表面污染层孔隙比例为60:40。
关键词
计量学
HfO2超薄膜
纳米尺度
光谱椭偏模型
掠入射X射线反射技术
Keywords
metrology
ultrathin HfO2 film
nanoscale
spectroscopic ellipsometry model
grazing incidence X-ray reflection method
分类号
TB921 [机械工程—测试计量技术及仪器]
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作者
出处
发文年
被引量
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1
纳米尺度HfO_2薄膜的光谱椭偏模型建立
张寅辉
任玲玲
高慧芳
贾亚斌
Fu Weien
刘小萍
Kim Changsoo
Yasushi Azuma
《计量学报》
CSCD
北大核心
2017
2
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