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合金中沉淀的电子显微学研究新进展
1
作者
桥本初次郎
助台荣一
《电子显微学报》
CAS
CSCD
1997年第3期204-209,共6页
本文举例说明了应用透镜成像型高分辨电镜技术观察固溶体中析出物的三种方法:其一,用高分辨电镜技术观察G.P.区及其周围的原子排列和G.P.区向新相的转变过程;其二,利用X射线能谱技术观察到在Cu的层错上析出的Si原子列...
本文举例说明了应用透镜成像型高分辨电镜技术观察固溶体中析出物的三种方法:其一,用高分辨电镜技术观察G.P.区及其周围的原子排列和G.P.区向新相的转变过程;其二,利用X射线能谱技术观察到在Cu的层错上析出的Si原子列和Ti-Mo合金中析出的ω相。其三是利用选择能量的高分辨电镜术观察Al-Si合金中Si析出物的原子像。
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关键词
合金
沉淀
电子显微学
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职称材料
题名
合金中沉淀的电子显微学研究新进展
1
作者
桥本初次郎
助台荣一
机构
日本冈山理科大学工学部机械工学科
出处
《电子显微学报》
CAS
CSCD
1997年第3期204-209,共6页
文摘
本文举例说明了应用透镜成像型高分辨电镜技术观察固溶体中析出物的三种方法:其一,用高分辨电镜技术观察G.P.区及其周围的原子排列和G.P.区向新相的转变过程;其二,利用X射线能谱技术观察到在Cu的层错上析出的Si原子列和Ti-Mo合金中析出的ω相。其三是利用选择能量的高分辨电镜术观察Al-Si合金中Si析出物的原子像。
关键词
合金
沉淀
电子显微学
分类号
TN16 [电子电信—物理电子学]
TG115.213 [金属学及工艺—物理冶金]
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题名
作者
出处
发文年
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1
合金中沉淀的电子显微学研究新进展
桥本初次郎
助台荣一
《电子显微学报》
CAS
CSCD
1997
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