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铝基SiOx膜层滑动磨损及其机理研究
1
作者
张际亮
沃银花
+1 位作者
郦剑
甘正浩
《材料科学与工程学报》
CAS
CSCD
北大核心
2005年第3期422-424,共3页
本文采用低温常压CVD方法制备铝基SiOx陶瓷膜层。以黄铜为对磨材料 ,使用销 -盘式磨损试验机对比研究纯铝表面与SiOx膜层的滑动磨损性能 ,通过SEM分析磨损的表面形貌并分析其磨损机理。结果表明纯铝表面发生粘着磨损 ,存在大量塑性变形...
本文采用低温常压CVD方法制备铝基SiOx陶瓷膜层。以黄铜为对磨材料 ,使用销 -盘式磨损试验机对比研究纯铝表面与SiOx膜层的滑动磨损性能 ,通过SEM分析磨损的表面形貌并分析其磨损机理。结果表明纯铝表面发生粘着磨损 ,存在大量塑性变形和折叠 ,导致片状脱落 ,磨损率高 ;SiOx薄膜硬度较高 ,存在孔隙 ,表面发生塑性变形、崩塌和磨粒磨损 ;因薄膜孔隙具有储存润滑剂 (水 )的作用 ,磨损率明显低于对比纯铝样品 ;随沉积时间增加 ,SiOx膜层变厚 ,承载能力提高 ,磨损量减小。
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关键词
铝基SiOx膜
APVCD
滑动磨损
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职称材料
铝表面化学气相沉积SiO_x膜层的显微结构和性能
被引量：
4
2
作者
张际亮
郦剑
+3 位作者
沃银花
王幼文
沈复初
甘正浩
《中国有色金属学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2004年第6期961-966,共6页
采用低温常压化学气相沉积(CVD)方法在铝基底上制备了硅氧化物陶瓷膜层。使用SEM、XPS、AFM、XRD、HRTEM和UV VIS等技术分析了膜层的形貌、成分和组织结构特征,测试了膜层的孔隙率、光学和显微力学性能。结果表明:硅氧化物SiOx陶瓷膜层...
采用低温常压化学气相沉积(CVD)方法在铝基底上制备了硅氧化物陶瓷膜层。使用SEM、XPS、AFM、XRD、HRTEM和UV VIS等技术分析了膜层的形貌、成分和组织结构特征,测试了膜层的孔隙率、光学和显微力学性能。结果表明:硅氧化物SiOx陶瓷膜层在铝基表面以气相反应沉积硅氧化物颗粒—颗粒嵌镶堆垛—融合长大的方式生成,大部分膜层为非晶态区域,其中包含少量局部有序区域,SiOx中的硅氧原子比为1∶1.60～1∶1.75,膜层疏松多孔,具有很高的紫外可见光吸收率,膜层与基底具有很好的结合性。
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关键词
化学气相沉积(CVD)
铝基
SiOx膜层
性能
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职称材料
题名
铝基SiOx膜层滑动磨损及其机理研究
1
作者
张际亮
沃银花
郦剑
甘正浩
机构
浙江
大学
材料科学与
工程
系
新加坡南洋理工大学电气工程系
出处
《材料科学与工程学报》
CAS
CSCD
北大核心
2005年第3期422-424,共3页
基金
国家自然科学基金资助项目 (50 2 71 0 65) .
文摘
本文采用低温常压CVD方法制备铝基SiOx陶瓷膜层。以黄铜为对磨材料 ,使用销 -盘式磨损试验机对比研究纯铝表面与SiOx膜层的滑动磨损性能 ,通过SEM分析磨损的表面形貌并分析其磨损机理。结果表明纯铝表面发生粘着磨损 ,存在大量塑性变形和折叠 ,导致片状脱落 ,磨损率高 ;SiOx薄膜硬度较高 ,存在孔隙 ,表面发生塑性变形、崩塌和磨粒磨损 ;因薄膜孔隙具有储存润滑剂 (水 )的作用 ,磨损率明显低于对比纯铝样品 ;随沉积时间增加 ,SiOx膜层变厚 ,承载能力提高 ,磨损量减小。
关键词
铝基SiOx膜
APVCD
滑动磨损
Keywords
Aluminum substrate
APCVD
SiOx
Slide wear
Morphology
分类号
TB43 [一般工业技术]
TN304.12 [电子电信—物理电子学]
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职称材料
题名
铝表面化学气相沉积SiO_x膜层的显微结构和性能
被引量：
4
2
作者
张际亮
郦剑
沃银花
王幼文
沈复初
甘正浩
机构
浙江
大学
材料科学与
工程
系
新加坡南洋理工大学电气工程系
出处
《中国有色金属学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2004年第6期961-966,共6页
基金
国家自然科学基金资助项目(50271065)
文摘
采用低温常压化学气相沉积(CVD)方法在铝基底上制备了硅氧化物陶瓷膜层。使用SEM、XPS、AFM、XRD、HRTEM和UV VIS等技术分析了膜层的形貌、成分和组织结构特征,测试了膜层的孔隙率、光学和显微力学性能。结果表明:硅氧化物SiOx陶瓷膜层在铝基表面以气相反应沉积硅氧化物颗粒—颗粒嵌镶堆垛—融合长大的方式生成,大部分膜层为非晶态区域,其中包含少量局部有序区域,SiOx中的硅氧原子比为1∶1.60～1∶1.75,膜层疏松多孔,具有很高的紫外可见光吸收率,膜层与基底具有很好的结合性。
关键词
化学气相沉积(CVD)
铝基
SiOx膜层
性能
Keywords
chemical vapor deposition(CVD)
SiO_x film
aluminum substrate
property
分类号
TB43 [一般工业技术]
TN304.12 [电子电信—物理电子学]
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职称材料
题名
作者
出处
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1
铝基SiOx膜层滑动磨损及其机理研究
张际亮
沃银花
郦剑
甘正浩
《材料科学与工程学报》
CAS
CSCD
北大核心
2005
0
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职称材料
2
铝表面化学气相沉积SiO_x膜层的显微结构和性能
张际亮
郦剑
沃银花
王幼文
沈复初
甘正浩
《中国有色金属学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2004
4
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