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铝基APCVD沉积SiO_x膜层的光学性能研究
被引量：
1
1
作者
张际亮
沃银花
+2 位作者
郦剑
甘正浩
徐亚伯
《浙江大学学报（工学版）》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2005年第8期1243-1246,共4页
采用低温常压化学气相沉积(APCVD)的方法在铝基底上制备硅氧化物陶瓷膜层.采用XPS、XRD、HRTEM、UV-VAS和NIRS等技术分析膜层的成分、结构组织和形貌特征,并测试了膜层的光学吸收性能.研究结果表明,SiOx中的硅氧原子比为1∶1.60～1∶1....
采用低温常压化学气相沉积(APCVD)的方法在铝基底上制备硅氧化物陶瓷膜层.采用XPS、XRD、HRTEM、UV-VAS和NIRS等技术分析膜层的成分、结构组织和形貌特征,并测试了膜层的光学吸收性能.研究结果表明,SiOx中的硅氧原子比为1∶1.60～1∶1.75,硅氧化物陶瓷膜层大部分为非晶态组织,包含少量局部有序区域.SiOx陶瓷膜层沉积在铝基上后具有很高的紫外-可见光吸收率和较高的近红外光吸收率,产生机制是硅氧化物陶瓷膜层中氧空位存在局域电子态,电子吸收能量产生能级跃迁.
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关键词
常压化学气相沉积(APCVD)
铝基SiOx膜层
显微结构
光学性能
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职称材料
题名
铝基APCVD沉积SiO_x膜层的光学性能研究
被引量：
1
1
作者
张际亮
沃银花
郦剑
甘正浩
徐亚伯
机构
浙江
大学
材料科学与
工程学系
新加坡南洋理工大学电气工程学系
浙江
大学
物
理
学系
出处
《浙江大学学报（工学版）》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2005年第8期1243-1246,共4页
基金
国家自然科学基金资助项目(50271065).
文摘
采用低温常压化学气相沉积(APCVD)的方法在铝基底上制备硅氧化物陶瓷膜层.采用XPS、XRD、HRTEM、UV-VAS和NIRS等技术分析膜层的成分、结构组织和形貌特征,并测试了膜层的光学吸收性能.研究结果表明,SiOx中的硅氧原子比为1∶1.60～1∶1.75,硅氧化物陶瓷膜层大部分为非晶态组织,包含少量局部有序区域.SiOx陶瓷膜层沉积在铝基上后具有很高的紫外-可见光吸收率和较高的近红外光吸收率,产生机制是硅氧化物陶瓷膜层中氧空位存在局域电子态,电子吸收能量产生能级跃迁.
关键词
常压化学气相沉积(APCVD)
铝基SiOx膜层
显微结构
光学性能
Keywords
ambient pressure chemical vapor deposition （APCVD）
SiOx film on aluminum substrate
microstructure
optical properties
分类号
TB43 [一般工业技术]
TN304.12 [电子电信—物理电子学]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
铝基APCVD沉积SiO_x膜层的光学性能研究
张际亮
沃银花
郦剑
甘正浩
徐亚伯
《浙江大学学报（工学版）》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2005
1
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