井口除砂器抗冲蚀性能评价分析

1

作者 冯春宇 王臻 +3 位作者 赵琦璘 罗晓龙 贵恒 陈渡 《材料保护》 CAS CSCD 2024年第1期204-211,共8页

含砂天然气对井口除砂器部件会造成严重的冲蚀进而降低开采效率,并且留下安全隐患。针对除砂器关键部件冲蚀严重的问题,从冲蚀角度和热处理2个方面研究其关键部件的耐冲蚀材料42CrMo、45钢、2Cr13、20CrMnTi和H13(4Cr5MoSiV1)的抗冲蚀... 含砂天然气对井口除砂器部件会造成严重的冲蚀进而降低开采效率,并且留下安全隐患。针对除砂器关键部件冲蚀严重的问题,从冲蚀角度和热处理2个方面研究其关键部件的耐冲蚀材料42CrMo、45钢、2Cr13、20CrMnTi和H13(4Cr5MoSiV1)的抗冲蚀性能。首先搭建冲蚀试验平台进行了冲蚀模拟试验,其次利用扫描电镜观察靶材冲蚀后的微观形貌,探讨冲蚀磨损机理。结果表明:当冲蚀角在30°~90°时,冲蚀率随冲蚀角的增加而减小;并非所有材料经热处理都能提高抗冲蚀性能;调质状态的2Cr13的抗冲蚀性能最优;调质状态的2Cr13、45钢和出厂状态的H13倾斜冲击时磨损形式以切削为主,垂直冲击时磨损形式为磨料冲击使靶材发生塑性变形而脱落为主。本试验为除砂器耐蚀件选材提供了参考。 展开更多

关键词 除砂器 冲蚀试验 冲蚀角度 热处理 抗冲蚀

在线阅读 下载PDF 职称材料

构树豆渣饼干制作工艺优化

2

作者 陶瑞霄 孙腾莲 +2 位作者 李雨翾 彭馨悦 李旭田 《现代食品》 2024年第7期74-77,共4页

以豆渣添加量、构树叶粉添加量、低筋面粉添加量和白砂糖添加量为研究因素,以感官评分为考察指标,采用单因素和正交试验优化构树豆渣饼的制作工艺。结果表明,构树豆渣饼干的最佳配方为豆渣添加量50%、低筋面粉添加量30%、构树叶粉添加... 以豆渣添加量、构树叶粉添加量、低筋面粉添加量和白砂糖添加量为研究因素,以感官评分为考察指标,采用单因素和正交试验优化构树豆渣饼的制作工艺。结果表明,构树豆渣饼干的最佳配方为豆渣添加量50%、低筋面粉添加量30%、构树叶粉添加量5%和白砂糖添加量20%,此配方下制作的饼干酥脆香口、口感饱满,有特殊的豆香味和清香味。 展开更多

关键词 豆渣 构树 制作工艺

在线阅读 下载PDF 职称材料

HADS阵列基板沟道干法刻蚀光刻胶残留与漏电流研究

3

作者 杨小飞 孟佳 +5 位作者 苏磊 李洋 万稳 吕耀军 王军才 邓金阳 《光电子技术》 2024年第4期328-333,344,共7页

高开口率高级超维场转换技术(HADS)阵列基板沟道干法刻蚀后,源/漏电极线边缘易形成光刻胶残留,导致钝化层微裂纹和沟道污染。为改善光刻胶残留和薄膜晶体管(TFT)漏电流,研究了光刻胶变性残留形成机理,光刻胶灰化工艺对光刻胶缺口形貌影... 高开口率高级超维场转换技术(HADS)阵列基板沟道干法刻蚀后,源/漏电极线边缘易形成光刻胶残留,导致钝化层微裂纹和沟道污染。为改善光刻胶残留和薄膜晶体管(TFT)漏电流,研究了光刻胶变性残留形成机理,光刻胶灰化工艺对光刻胶缺口形貌影响,解释了不同灰化时间下光刻胶缺口、台阶和TFT漏电流关系。采用全因子实验设计,研究了后处理工艺对漏电流影响。结果表明,在增强型电容耦合等离子体刻蚀中形成光刻胶缺口和副产物,两者共同作用导致光刻胶变性残留。光刻胶灰化工艺提高偏置功率,降低压力,使光刻胶覆盖源/漏极距离d>0,光刻胶缺口显著改善。然而随着距离d增加,沟道台阶增长,导致TFT漏电流增加。后处理优化进一步减少沟道副产物污染,降低背沟道漏电流。当后处理偏置功率1 kW,压力4 Pa,O_(2)/SF_(6) 10时,高温光照漏电流较量产条件降低18%,且无光刻胶残留发生。该工作为不同模式的沟道干法刻蚀工艺研究、光刻胶形貌优化和TFT漏电流改善提供参考。 展开更多

关键词 高开口率高级超维场转换技术 沟道干法刻蚀 光刻胶残留 光刻胶缺口 薄膜晶体管漏电流

在线阅读 下载PDF 职称材料

卫生纸机压榨部运行参数及能效关系分析与优化 被引量：4

4

作者 马文明 沈天宇 《中国造纸学报》 CAS CSCD 北大核心 2019年第2期47-52,共6页

通过对纸机压榨部压力和压榨脱水原理的分析,得到出压榨部纸幅干度可作为压榨部的能耗指标,同时确定压榨线压力和纸机车速是压榨部能耗的主要影响因素。结合纸机实际生产测试并记录压榨脱水数据,绘制测试数据曲线图并拟合压榨线压力、... 通过对纸机压榨部压力和压榨脱水原理的分析,得到出压榨部纸幅干度可作为压榨部的能耗指标,同时确定压榨线压力和纸机车速是压榨部能耗的主要影响因素。结合纸机实际生产测试并记录压榨脱水数据,绘制测试数据曲线图并拟合压榨线压力、纸机车速和出压榨部纸幅干度三者之间的函数关系,最终确定压榨线压力和纸机车速的最优取值范围。通过对测试数据的分析和拟合,控制压榨线压力在90kN/m、纸机车速在1075m/min时,纸幅质量可满足正常生产的要求,还可以节约2.1%的电能,实现卫生纸机压榨部的能耗优化。 展开更多

关键词 压榨部 纸幅干度 压榨线压力 纸机车速 能耗优化

在线阅读 下载PDF 职称材料

基于PCA-Bayes的矿井水源类型在线判别模型 被引量：4

5

作者 李兴华 杨勇 《煤炭与化工》 CAS 2018年第2期21-25,共5页

水源类型的判别是煤矿突水后抢险决策的决定因素,对于煤矿的安全生产有重要意义。针对常规判别方法耗时较长的问题,提出了一种通过多类线性判别分析快速在线判别水源类型水质的在线分析系统,该系统采用荧光光谱、pH值、电导率等物理传... 水源类型的判别是煤矿突水后抢险决策的决定因素,对于煤矿的安全生产有重要意义。针对常规判别方法耗时较长的问题,提出了一种通过多类线性判别分析快速在线判别水源类型水质的在线分析系统,该系统采用荧光光谱、pH值、电导率等物理传感器。以淮南集团李家嘴煤矿为例,采用该系统现场采集13组水样数据,通过模型判别取得了良好的判别效果,实践表明该系统可作为在线水源识别的有效监测手段。 展开更多

关键词 水源识别 荧光光谱 水质在线分析系统

在线阅读 下载PDF 职称材料

TFT-LCD移动显示窄边框技术进展 被引量：18

6

作者 刘亮 王向楠 +2 位作者 赵德友 王永茂 杨国波 《液晶与显示》 CAS CSCD 北大核心 2013年第2期228-232,共5页

窄边框显示屏因其简洁、美观、相同尺寸可视面积大等优点,已成为高品质显示屏的主要发展趋势。文章结合近几年平板显示展会信息,介绍了移动显示窄边框技术的进展。同时,介绍了实现窄边框所涉及到的显示屏电极线设计技术、边框胶固化工... 窄边框显示屏因其简洁、美观、相同尺寸可视面积大等优点,已成为高品质显示屏的主要发展趋势。文章结合近几年平板显示展会信息,介绍了移动显示窄边框技术的进展。同时,介绍了实现窄边框所涉及到的显示屏电极线设计技术、边框胶固化工艺和液晶滴下工艺及其改善,并对边框胶涂布和液晶滴下设备的改进方向进行了说明。 展开更多

关键词 移动显示 窄边框 边框胶涂布 液晶滴下

在线阅读 下载PDF 职称材料

Zara漏光和Rubbing Mura改善研究 被引量：17

7

作者 石天雷 杨国波 +1 位作者 程石 杭苗 《液晶与显示》 CAS CSCD 北大核心 2012年第2期208-211,共4页

研究了摩擦强度对Zara漏光和摩擦痕Mura的影响。实验表明,当摩擦强度偏低时,Zara漏光易发生,而摩擦强度偏高时,则易引发摩擦痕Mura。通过选择合适的摩擦强度,可降低Zara漏光和摩擦痕Mura的发生率。另外,利用FIB对基板表面进行分析,找到... 研究了摩擦强度对Zara漏光和摩擦痕Mura的影响。实验表明,当摩擦强度偏低时,Zara漏光易发生,而摩擦强度偏高时,则易引发摩擦痕Mura。通过选择合适的摩擦强度,可降低Zara漏光和摩擦痕Mura的发生率。另外,利用FIB对基板表面进行分析,找到了FFS型产品容易发生Zara漏光和摩擦痕Mura的原因。 展开更多

关键词 LCD Zara漏光 摩擦痕Mura

在线阅读 下载PDF 职称材料

TFT-LCD中隔垫物密度与Push Mura和低温气泡的关系 被引量：13

8

作者 程石 王涛 +3 位作者 张敏 张铁军 史华威 杨国波 《液晶与显示》 CAS CSCD 北大核心 2011年第5期604-607,共4页

研究了隔垫物密度对Push Mura和低温气泡的影响。实验表明,通过增加隔垫物密度,能提高液晶面板的抗压强度,降低Push Mura发生率。但是,隔垫物密度过高会引起低温气泡发生。当隔垫物密度控制在适当范围内时,既能大大改善Push Mura,又不... 研究了隔垫物密度对Push Mura和低温气泡的影响。实验表明,通过增加隔垫物密度,能提高液晶面板的抗压强度,降低Push Mura发生率。但是,隔垫物密度过高会引起低温气泡发生。当隔垫物密度控制在适当范围内时,既能大大改善Push Mura,又不会发生低温气泡,且不影响产品的光学特性。 展开更多

关键词 LCD 不良改善 隔垫物

在线阅读 下载PDF 职称材料

液晶显示器模组黑态均匀性改善研究 被引量：6

9

作者 李兴华 暴军萍 +1 位作者 徐兵 樊浩原 《液晶与显示》 CAS CSCD 北大核心 2018年第4期271-276,共6页

随着显示行业发展,市场对液晶显示品质提出了更高的要求,特别是车载等领域,背光亮度几乎在10 000cd/m2以上,此时显示装置的细微缺陷可能被凸显进而影响画面显示品质。黑态均匀性是液晶显示模组显示画质的重要指标,为提升液晶显示模组黑... 随着显示行业发展,市场对液晶显示品质提出了更高的要求,特别是车载等领域,背光亮度几乎在10 000cd/m2以上,此时显示装置的细微缺陷可能被凸显进而影响画面显示品质。黑态均匀性是液晶显示模组显示画质的重要指标,为提升液晶显示模组黑态均匀性,改善显示画质,特对可能造成黑态漏光的相应结构及设计进行研究。从液晶面板受外力方向,针对机构干涉及柔性电路板(FPC)应力两方面的影响因素设计实验,确定出利于提升黑态均匀性的设计方法或管控标准。实验结果表明,通过对背光及铁框平整度的管控及缓冲胶带优化可减少机构干涉应力,通过对FPC结构及外形设计优化可减少FPC弯折应力,通过玻璃厚度减薄及增大下偏光片尺寸可提升液晶面板抗变形能力,从而将模组黑态均匀性提升到80%以上。 展开更多

关键词 液晶显示器 黑态均匀性 机构干涉 FPC应力

在线阅读 下载PDF 职称材料

具有管控液晶面板设备工艺参数的制造执行系统的技术研究 被引量：6

10

作者 陈蔚 张雯旭 +1 位作者 冯举 张璞 《液晶与显示》 CAS CSCD 北大核心 2016年第12期1118-1123,共6页

由于液晶显示行业材料成本高且生产工艺复杂,不同尺寸的产品需切换不同的工艺参数,频繁换模造成了对工艺参数难以把控,一旦出现将造成较大亏损。本文提出对制造执行系统MES进行模块增加,形成一种具有智能化管控工艺参数的设计方案。这... 由于液晶显示行业材料成本高且生产工艺复杂,不同尺寸的产品需切换不同的工艺参数,频繁换模造成了对工艺参数难以把控,一旦出现将造成较大亏损。本文提出对制造执行系统MES进行模块增加,形成一种具有智能化管控工艺参数的设计方案。这种新方案使得MES可以实时管控生产工艺参数,并提供后期数据分析,减少生产过程中的人为风险,以提高生产过程的稳定性。 展开更多

关键词 液晶显示 制造执行系统 工艺参数 实时管控

在线阅读 下载PDF 职称材料

TFT-LCD制造工艺中金属残留的解决方案 被引量：5

11

作者 蒋冬华 李淳东 李炳天 《液晶与显示》 CAS CSCD 北大核心 2011年第2期170-173,共4页

在TFT-LCD阵列的四次掩模技术中,复合层刻蚀是非常难控制的一道工序,最突出的问题是在复合层刻蚀后信号线的两边有金属残留,金属残留会对之后的绝缘层产生影响,导致断层等不良。调整复合层刻蚀工艺是目前解决金属残留问题的通用方法,但... 在TFT-LCD阵列的四次掩模技术中,复合层刻蚀是非常难控制的一道工序,最突出的问题是在复合层刻蚀后信号线的两边有金属残留,金属残留会对之后的绝缘层产生影响,导致断层等不良。调整复合层刻蚀工艺是目前解决金属残留问题的通用方法,但是都没有根本地解决这个问题。文章通过研究信号线刻蚀时间对复合层刻蚀后金属残留的影响,认为通过调整信号线的刻蚀时间能够根本解决复合层刻蚀后金属残留的问题,并且不会使金属线线宽超出控制范围。 展开更多

关键词 四次掩模 复合层 刻蚀 信号线 金属残留

在线阅读 下载PDF 职称材料

ODF工艺用封框胶的研究 被引量：13

12

作者 石天雷 杨国波 +1 位作者 刘亮 程石 《光电子技术》 CAS 北大核心 2011年第3期211-214,共4页

研究了液晶面板制造ODF工艺用封框胶材料与周边M ura的关系。实验表明,通过提高UV光照量,调整封框胶中引发剂和偶联剂等活性成分,能有效地改善周边M ura,同时提高液晶面板的剥离强度。

关键词 液晶显示器 液晶滴下灌注工艺 封框胶 周边Mura

在线阅读 下载PDF 职称材料

液晶模组ESD失效分析及防护研究 被引量：5

13

作者 李卿硕 吴倩 王莎 《液晶与显示》 CAS CSCD 北大核心 2013年第5期711-715,共5页

研究了液晶模组结构与静电放电(ESD)路径间的关系,当液晶模组受ESD冲击电荷无法顺利导出,抗ESD能力仅有2 kV的Driver IC便成为最容易损坏的器件,IC失效会导致液晶模组无法正常工作。实验证明,当在ESD放电路径上特定位置增加静电保护装置... 研究了液晶模组结构与静电放电(ESD)路径间的关系,当液晶模组受ESD冲击电荷无法顺利导出,抗ESD能力仅有2 kV的Driver IC便成为最容易损坏的器件,IC失效会导致液晶模组无法正常工作。实验证明,当在ESD放电路径上特定位置增加静电保护装置,可将瞬间的电荷浪涌导入大地以提高液晶模组抗ESD的能力。论文探讨了一种在TFT基板增加静电环设计的方法可以代替FPC增加TVS管的现有模式。 展开更多

关键词 薄膜晶体管液晶显示器 静电放电 静电保护环 瞬变电压抑制二极管

在线阅读 下载PDF 职称材料

AMOLED亮点不良修复方法 被引量：3

14

作者 朱世楠 李楠 《液晶与显示》 CAS CSCD 北大核心 2020年第3期198-204,共7页

为了提高有源矩阵有机发光二极管面板(AMOLED)亮点不良修复成功率,优化设备性能,本文研究一种AMOLED亮点修复方法,实现阴极隔离原理。由装置激光调形机构(Slit)的激光修复设备构造一束固定形状和频率的脉冲激光束。该激光束透过AMOLED... 为了提高有源矩阵有机发光二极管面板(AMOLED)亮点不良修复成功率,优化设备性能,本文研究一种AMOLED亮点修复方法,实现阴极隔离原理。由装置激光调形机构(Slit)的激光修复设备构造一束固定形状和频率的脉冲激光束。该激光束透过AMOLED面板封装层,照射目标亚像素上方阴极膜层,使目标亚像素发光层与面板整体阴极隔断,阴极电子无法迁移至目标亚像素发光层,目标亚像素由亮点变为暗点,达到亮点修复目的。提出并比较了矩形修复法与线修复法,结果表明矩形修复方法成功率为33.5%,容易出现封装层损伤,信赖性风险高;线修复方法成功率为100%,无封装层损伤风险,信赖性风险低。将线修复方法导入量产后,亮点不良修复良率由96.9%提升至100%。 展开更多

关键词 有源矩阵有机发光二极体面板 亮点 修复 阴极

在线阅读 下载PDF 职称材料

新型TFT-LCD黑矩阵的细线化研究 被引量：3

15

作者 靳福江 卢兵 +5 位作者 朱凤稚 罗峰 柳星 代伟男 刘华 范峻 《液晶与显示》 CAS CSCD 北大核心 2014年第4期521-526,共6页

介绍了新型TFT LCD黑矩阵细线化研究.在原有工艺设备的基础上,突破设备局限和工艺瓶颈,通过引入相掩膜技术和背面曝光设备,达到进一步减小黑矩阵线宽的效果.实验测试结果显示：在普通掩膜板设计上应用相位移掩膜板技术,降低透光区边缘... 介绍了新型TFT LCD黑矩阵细线化研究.在原有工艺设备的基础上,突破设备局限和工艺瓶颈,通过引入相掩膜技术和背面曝光设备,达到进一步减小黑矩阵线宽的效果.实验测试结果显示：在普通掩膜板设计上应用相位移掩膜板技术,降低透光区边缘衍射和散射现象,使曝光后黑矩阵线宽降低1.0～1.5 μm.在原有工艺基础上添加背面曝光工艺,使黑矩阵材料在显影后进行背面曝光预固化,改善黑矩阵图形形貌,进一步减小黑矩阵线宽达到0.3～0.5 μm.通过新工艺和新设备的引入和应用,黑矩阵线宽整体降低1.5～2.0 pm,达到5.0～5.5 μm,可以满足目前高PPI（单位面积像素个数）产品对透过率和对比度要求. 展开更多

关键词 黑矩阵 线宽 相位移掩膜板 背面曝光

在线阅读 下载PDF 职称材料

TFT-LCD的Line Zara失效机制及改善 被引量：2

16

作者 王欢 于翔 +4 位作者 朱凤稚 苏彦新 沈武林 郁信波 刘旭 《液晶与显示》 CAS CSCD 北大核心 2019年第6期549-555,共7页

为了彻底改善TFT-LCD的Line Zara不良,本文建立了Line Zara失效模型,并分析了Line Zara失效机制,其中Line Zara发生率与外力大小及玻璃弯曲形变程度成正比,与框胶至柱状隔垫物距离、框胶粘结力成反比。基于Line Zara的失效机制,针对性... 为了彻底改善TFT-LCD的Line Zara不良,本文建立了Line Zara失效模型,并分析了Line Zara失效机制,其中Line Zara发生率与外力大小及玻璃弯曲形变程度成正比,与框胶至柱状隔垫物距离、框胶粘结力成反比。基于Line Zara的失效机制,针对性地提出了改善措施并进行了实验验证。实验结果表明,减薄时的抛光工艺、减薄后运输箱的填充密度和框胶粘结力对Line Zara有显著的影响。随着抛光压力的减小和时间缩短,Line Zara发生率逐渐减少。随着运输箱中玻璃数量或隔垫物数量的增加,运输箱的填充密度逐渐增大,玻璃受外力发生的弯曲形变逐渐减小,相应的Line Zara发生率逐渐减小;当隔垫物为无尘纸时,玻璃的弯曲形变最小,Line Zara发生率最低。此外,当框胶与ITO粘结力增加12.5%、与PI粘结力增加66%后,Line Zara的发生率可降低至2%以下。TFT-LCD的Line Zara不良可通过降低抛光压力与时间、增加运输箱的填充密度和增加框胶粘结力彻底改善。 展开更多

关键词 TFT-LCD LINE ZARA 失效机制 弯曲形变 抛光工艺 填充密度 框胶粘结力

在线阅读 下载PDF 职称材料

TFT-LCD曝光工艺参数TP实验研究 被引量：2

17

作者 董小龙 张兴强 +1 位作者 江俊波 王军才 《液晶与显示》 CAS CSCD 北大核心 2017年第10期783-786,共4页

从Total Pitch(TP)的理论含义与监控原理出发,通过对相同Device下Pitch量和TP测试Mark的更改,讨论了X方向以及Y方向TP的变化。通过相同Lay out不同产品和相同产品不同Lay out的对比,发现TP并不随着Pitch量的改变而变化,但设备扭曲度(Dis... 从Total Pitch(TP)的理论含义与监控原理出发,通过对相同Device下Pitch量和TP测试Mark的更改,讨论了X方向以及Y方向TP的变化。通过相同Lay out不同产品和相同产品不同Lay out的对比,发现TP并不随着Pitch量的改变而变化,但设备扭曲度(Distortion)影响着TP的变化,由此TP也可称为Distortion在实际生产中的简化监测点,并且得到TP从NG到OK变化的pitch量区间,这也为降低图形在基板上的扭曲程度和优化Mask设计提供了新思路。 展开更多

关键词 整体倾斜度 扭曲程度 曝光 产品布局

在线阅读 下载PDF 职称材料

车载TFT LCD器件高温信赖性串扰机理及改善研究 被引量：2

18

作者 苏磊 杨小飞 +3 位作者 李兴华 刘旭 牟勋 孟佳 《光电子技术》 CAS 北大核心 2019年第2期123-126,共4页

研究了车载液晶显示器可靠性试验中高温串扰的相关影响因子,通过实验发现TFT沟道N+台阶越大,高温串扰表现越差,通过增加工艺中灰化时间可以改善沟道台阶问题。同时栅极绝缘层的厚度也会对可靠性评价中的高温串扰产生影响。并且通过DOE... 研究了车载液晶显示器可靠性试验中高温串扰的相关影响因子,通过实验发现TFT沟道N+台阶越大,高温串扰表现越差,通过增加工艺中灰化时间可以改善沟道台阶问题。同时栅极绝缘层的厚度也会对可靠性评价中的高温串扰产生影响。并且通过DOE实验确定可靠性串扰的显著影响因子为沟道N+台阶和栅绝缘层厚度。 展开更多

关键词 车载 液晶显示器 高温 串扰

在线阅读 下载PDF 职称材料

TFT-LCD产品开机边缘白化现象研究 被引量：1

19

作者 李兴华 贺伟 +4 位作者 朴承翊 樊浩源 暴军萍 江定荣 王静 《液晶与显示》 CAS CSCD 北大核心 2013年第4期572-576,共5页

通过对TFT-LCD开机状态的测试,分析了TFT-LCD开机边缘白化现象的发生机制,提出了改善TFT-LCD开机边缘白化现象的方法。分析表明TFT-LCD开机边缘白化现象的根源在于开机时边缘感应电场的干扰使靠近面板边缘两侧的液晶分子发生旋转而漏光... 通过对TFT-LCD开机状态的测试,分析了TFT-LCD开机边缘白化现象的发生机制,提出了改善TFT-LCD开机边缘白化现象的方法。分析表明TFT-LCD开机边缘白化现象的根源在于开机时边缘感应电场的干扰使靠近面板边缘两侧的液晶分子发生旋转而漏光。液晶盒内表面的形貌影响感应电荷的淤积状态和液晶分子的取向,黑矩阵材料的阻抗影响感应电荷向显示区的扩散程度。进行了TFT-LCD开机边缘白化现象的改善实验,试验结果表明,通过减少栅极引线、增加感应电荷的屏蔽层、使用高阻抗的BM材料、增大栅极引线与显示区的距离等方法可以有效解决边缘白化现象。 展开更多

关键词 开机边缘白化 感应电场 栅极引线 栅极关断电压

在线阅读 下载PDF 职称材料

一种实用的PECVD腔体检漏工具设计方法 被引量：1

20

作者 周梁 韩大伟 +3 位作者 孙泉钦 王丹名 李华 陈垚 《液晶与显示》 CAS CSCD 北大核心 2015年第5期813-818,共6页

在TFT-LCD行业,PECVD设备主要用于Array TFT基板工艺中的气相沉积;产生的非金属膜层,为金属电路提供保护、开关作用;在PECVD工艺制程中,腔体设计复杂,反应条件苛刻,产生的制程物会造成产品不良,故需要定期进行PM(pre maintenance预防性... 在TFT-LCD行业,PECVD设备主要用于Array TFT基板工艺中的气相沉积;产生的非金属膜层,为金属电路提供保护、开关作用;在PECVD工艺制程中,腔体设计复杂,反应条件苛刻,产生的制程物会造成产品不良,故需要定期进行PM(pre maintenance预防性维护)。本文以PECVD PM作业为背景,针对设备PM耗时长的问题,制定了改善方法,并着重介绍了腔体检漏工具的设计过程。设计制作了一台国产化检漏工具,成功运用于量产。通过测试,检漏工具3min内达到10mT(1mT=0.133Pa),漏率为0.45mT/min,基本符合设备Spec.(标准)要求。 展开更多

关键词 TFT-LCD PECVD 腔体检漏工具 自主设计

在线阅读 下载PDF 职称材料