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配体及溶剂调控的CsPbBr_(3)/Cs_(4)PbBr_(6)/CsPb_(2)Br_(5)相变及其光学特性
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作者 郭衡 石林林 +2 位作者 沈涛 张松 朱益志 《发光学报》 北大核心 2025年第2期296-304,共9页
作为一种具有广阔前景的新型材料,金属卤化物钙钛矿在光电子领域正冉冉升起,成为一颗耀眼的新星。本文采用传统的热注射法制备了三维CsPbBr_(3)钙钛矿纳米晶。通过向三维CsPbBr_(3)钙钛矿纳米晶添加配体或极性溶剂,实现了三维CsPbBr_(3... 作为一种具有广阔前景的新型材料,金属卤化物钙钛矿在光电子领域正冉冉升起,成为一颗耀眼的新星。本文采用传统的热注射法制备了三维CsPbBr_(3)钙钛矿纳米晶。通过向三维CsPbBr_(3)钙钛矿纳米晶添加配体或极性溶剂,实现了三维CsPbBr_(3)、零维Cs_(4)PbBr_(6)和二维CsPb_(2)Br_(5)之间的相变,并研究和比较了它们独特的光学性质。在紫外光的激发下,CsPbBr_(3)、CsPbBr_(3)@Cs_(4)PbBr_(6)、CsPbBr_(3)@CsPb_(2)Br_(5)均发出明亮的绿光,具有纳秒量级的荧光寿命。复合结构CsPbBr_(3)@Cs_(4)PbBr_(6)、CsPbBr_(3)@CsPb_(2)Br_(5)的荧光寿命与CsPbBr_(3)寿命几乎一致,表明CsPbBr_(3)@Cs_(4)PbBr_(6)和CsPbBr_(3)@CsPb_(2)Br_(5)复合物的发光均来自CsPbBr_(3)纳米晶。此外,添加配体使得CsPbBr_(3)转变到Cs_(4)PbBr_(6),极性溶剂水诱导CsPbBr_(3)到CsPb_(2)Br_(5)的相变也被证实。这项工作不仅为复合结构钙钛矿的制备提供了一种简便的方法,而且在一定程度上提供了铅卤钙钛矿在湿度环境中降解的知识。 展开更多
关键词 钙钛矿 维度 光学特性 相变
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相移掩模和光学邻近效应校正光刻技术 被引量:15
2
作者 冯伯儒 张锦 +2 位作者 侯德胜 周崇喜 苏平 《光电工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2001年第1期1-5,共5页
详细地论述了相移掩模提高光刻分辨力和改善焦深的原理。介绍了光学邻近效应校正方法。
关键词 相移掩模 光学邻近效应校正 光刻技术
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提高微细图形光刻分辨力的相移滤波技术研究 被引量:3
3
作者 陈旭南 石建平 +2 位作者 康西巧 罗先刚 秦涛 《光子学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2003年第3期323-326,共4页
详细研究了提高投影成像光刻分辨力的相移滤波技术的基本理论 ,给出了理论模型 ,进行了模拟计算 .对不同掩模图形设计制作的不同优化滤波器进行光刻对比实验并取得实验结果 .研究表明 ,相移滤波能显著提高部分相干成像系统光刻分辨力和... 详细研究了提高投影成像光刻分辨力的相移滤波技术的基本理论 ,给出了理论模型 ,进行了模拟计算 .对不同掩模图形设计制作的不同优化滤波器进行光刻对比实验并取得实验结果 .研究表明 ,相移滤波能显著提高部分相干成像系统光刻分辨力和增大焦深 ,同时能提高光能利用率 ,有利于提高光刻生产率 ,是一种有效提高光刻分辨力和焦深的波前工程技术 . 展开更多
关键词 相移滤波 投影成像光刻系统 分辨力和焦深 光能利用率
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微光学元件复制技术研究 被引量:4
4
作者 邓启凌 杜春雷 《光子学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2002年第1期110-113,共4页
本文介绍了一种用硅橡胶做模具、光照固化光敏胶的微光学元件复制技术 .利用这种方法成功地复制了各种单元尺寸的微光学元件 .获得复制精度高、表面粗糙度低、光学性能良好的元件 .并可批量生产 。
关键词 复制 微光学元件 微透镜阵列 硅橡胶
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用反应离子刻蚀技术制作二元光学元件 被引量:1
5
作者 张锦 杜春雷 +6 位作者 冯伯儒 王永茹 周礼书 侯德胜 郭勇邱 传凯 林大键 《光电工程》 CAS CSCD 1997年第S1期42-46,共5页
介绍了利用反应离子刻蚀技术制作二元光学元件的原理和方法,给出了制作结果。
关键词 离子束光刻 离子腐蚀 二元光学 衍射光学元件
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高功率半导体激光器微光学光束整形技术
6
作者 杜春雷 邓启凌 +1 位作者 董小春 周崇喜 《红外与激光工程》 EI CSCD 北大核心 2008年第S3期430-,共1页
基于微光学光束变换系统方法,采用双微棱镜列阵、同轴"之"字形整形方法、反射棱镜阵列法等技术对准直光束进行折叠及光参数积匹配变换,实现光束的完全消像散;利用自行研制的大数值孔径连续非球面微透镜列阵、整形器件等核心... 基于微光学光束变换系统方法,采用双微棱镜列阵、同轴"之"字形整形方法、反射棱镜阵列法等技术对准直光束进行折叠及光参数积匹配变换,实现光束的完全消像散;利用自行研制的大数值孔径连续非球面微透镜列阵、整形器件等核心微光学器件,实现了准直、聚焦和光纤输出等各种功能。形成了系统的半导体激光器光束整形变换技术,准直后光束发散角达到理论极限;成功获得高效率单芯径光纤耦合半导体激光器泵浦源。 展开更多
关键词 高功率半导体激光器 微光学 光束整形
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基于投影光刻技术的微透镜阵列加工方法 被引量:3
7
作者 龚健文 王建 +2 位作者 刘俊伯 孙海峰 胡松 《光电工程》 CAS CSCD 北大核心 2023年第12期81-90,共10页
本文提出了一种基于投影光刻技术的微透镜阵列制备方法,成功制备多种口径、面形及表面粗糙度均良好的微透镜阵列。该方法采用0.2倍投影物镜,降低掩模板制造成本,实现不同口径微透镜阵列制备。采用掩模移动滤波技术,在降低掩模制备复杂... 本文提出了一种基于投影光刻技术的微透镜阵列制备方法,成功制备多种口径、面形及表面粗糙度均良好的微透镜阵列。该方法采用0.2倍投影物镜,降低掩模板制造成本,实现不同口径微透镜阵列制备。采用掩模移动滤波技术,在降低掩模制备复杂性的同时,提高了微透镜阵列面形精度。本文对四种不同口径的微透镜阵列进行制备实验,分别为50μm、100μm、300μm、500μm,其表面形貌加工精度达到微米级,表面粗糙度达到纳米级。实验结果表明,该方法在微透镜阵列制造中具有很大的潜力,与传统方法相比,能够实现更低的线宽和更高的表面面形精度。 展开更多
关键词 微透镜阵列 投影光刻技术 掩模移动滤波技术
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量子磁力仪技术研究与应用
8
作者 汪孟珂 白萱瑶 +3 位作者 龙云 朱上果 蒲明博 罗先刚 《中国测试》 CAS 北大核心 2024年第12期1-12,44,共13页
量子磁力仪是一种利用量子效应进行高精度磁场测量的仪器。随着量子技术的进步和应用需求的增长,量子磁力仪在航空航天、地球科学、地质勘探、生物医疗和前沿探索等多个研究领域的重要性日益凸显。该文详细介绍量子磁力仪特别是基于热... 量子磁力仪是一种利用量子效应进行高精度磁场测量的仪器。随着量子技术的进步和应用需求的增长,量子磁力仪在航空航天、地球科学、地质勘探、生物医疗和前沿探索等多个研究领域的重要性日益凸显。该文详细介绍量子磁力仪特别是基于热原子系综的原子磁力仪的工作原理、性能及前沿应用。为梳理各类磁力仪的性能特点,首先,从测量的物理过程出发对量子磁力仪分类介绍,简述各类型磁力仪的基本原理与特点;然后,归纳关键技术指标和性能提升方法;最后,对量子磁力仪的发展趋势进行展望。 展开更多
关键词 量子磁力仪 光泵浦 拉莫尔进动
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基于DMD的动态红外场景投影光学系统设计 被引量:19
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作者 贾辛 廖志杰 +1 位作者 邢廷文 林妩媚 《红外与激光工程》 EI CSCD 北大核心 2008年第4期692-696,共5页
为了能够在实验室内实物模拟红外成像,降低光电系统的研发成本和提供可重复的实验环境,需要红外场景仿真器。动态红外投影技术是红外成像测试与评估的关键技术,与传统仿真器相比,采用数字微镜器件(DMD)的红外仿真器可以在更大动态范围... 为了能够在实验室内实物模拟红外成像,降低光电系统的研发成本和提供可重复的实验环境,需要红外场景仿真器。动态红外投影技术是红外成像测试与评估的关键技术,与传统仿真器相比,采用数字微镜器件(DMD)的红外仿真器可以在更大动态范围内进行高速模拟,这种模拟方法空间分辨率和温度分辨率较高,能满足较高的帧频要求,有较好的应用前景。回顾了动态红外场景投影技术及其分类,描述了基于DMD动态红外场景系统的原理。分析了红外光学系统的特点,给出了投影系统的设计参数,系统使用800×600的DMD,工作在长波波段。使用像差平衡理论设计了投影系统的基本结构,为了得到更好的分辨率和成像质量,利用CODEV软件进行了设计优化,并给出了设计结果及其像差曲线,结果表明:设计满足要求。 展开更多
关键词 DMD 红外光学 场景模拟 光学设计 投影系统
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星敏感器在地面观星实验的结果分析 被引量:13
10
作者 田宏 袁家虎 +3 位作者 李展 张建蓉 林玲 杨洪 《光电工程》 CAS CSCD 北大核心 2001年第5期1-4,共4页
星敏感器是为航天飞行器姿态控制系统提供姿态信息的测量系统。室外的实际观星,对检查星敏感器软件算法的正确性和实际星目标探测灵敏度能力,具有重要指导意义。本文介绍了星敏感器在云南天文台进行的观星实验,并对实验结果进行了分析。
关键词 地面观星实验 星敏感器 星图识别 航天飞行器 姿态控制系统
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微光学元件阵列面阵LD光束整形及光纤耦合 被引量:10
11
作者 周崇喜 杜春雷 +1 位作者 谢伟民 杨欢 《红外与激光工程》 EI CSCD 北大核心 2009年第3期452-455,共4页
采用微透镜阵列组成的快、慢轴准直器件进行高功率面阵半导体激光器阵列光束准直,从而减小其光参数积,进一步采用棱镜阵列对准直光束进行整形,实现两方向光束质量的平衡,使激光束的综合光参数积小于光纤的光参数积,提高光束质量,获得高... 采用微透镜阵列组成的快、慢轴准直器件进行高功率面阵半导体激光器阵列光束准直,从而减小其光参数积,进一步采用棱镜阵列对准直光束进行整形,实现两方向光束质量的平衡,使激光束的综合光参数积小于光纤的光参数积,提高光束质量,获得高耦合效率的光纤耦合模块。对5个吧条组成(每个吧条40W、总输出功率为200W)的面阵半导体激光器光束进行准直、整形聚焦并耦合到芯径800μm、数值孔径0.22的多模光纤,获得125.4W的激光输出。 展开更多
关键词 面阵LD 光纤耦合 微光学元件 光束准直 整形
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用于微器件加工的AZ4620厚胶光刻工艺研究 被引量:10
12
作者 罗铂靓 杜惊雷 +3 位作者 唐雄贵 杜春雷 刘世杰 郭永康 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 2005年第7期34-38,共5页
对AE4620厚胶紫外光刻工艺进行了实验研究,探讨了其工艺特性及光刻胶层的刻蚀面形与各种工艺条件的关系,提出了刻蚀高深宽比、最佳浮雕面形所需的工艺条件。通过对光刻工艺过程的研究, 可为较好地控制正性光刻胶面形,制作微机械、微光... 对AE4620厚胶紫外光刻工艺进行了实验研究,探讨了其工艺特性及光刻胶层的刻蚀面形与各种工艺条件的关系,提出了刻蚀高深宽比、最佳浮雕面形所需的工艺条件。通过对光刻工艺过程的研究, 可为较好地控制正性光刻胶面形,制作微机械、微光学器件提供了参考依据,对微浮雕结构的深刻蚀具有重要的指导意义。 展开更多
关键词 光刻胶 前烘 曝光 显影
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掩模移动技术中的边框效应及其应用 被引量:6
13
作者 曾红军 陈波 +2 位作者 郭履容 邱传凯 杜春雷 《光电工程》 EI CAS CSCD 2000年第5期19-22,共4页
掩模移动技术是一种通过移动掩模调制曝光量的连续面形微光学制作技术 ,其工作的局限性在于该技术对所制元件的对称性要求高 ,因此限制了制作复杂面形的功能。本文从分析掩模移动过程中的边框效应入手 ,阐明了消除这一效应负面影响的办... 掩模移动技术是一种通过移动掩模调制曝光量的连续面形微光学制作技术 ,其工作的局限性在于该技术对所制元件的对称性要求高 ,因此限制了制作复杂面形的功能。本文从分析掩模移动过程中的边框效应入手 ,阐明了消除这一效应负面影响的办法 ,并利用它来降低掩模移动技术的对称性要求 ,在实验中制作出了面形复杂的连续浮雕微光学元件。 展开更多
关键词 掩膜移动技术 微光学元件 边框效应 复杂面形
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深浮雕连续微光学元件制作方法(英文) 被引量:6
14
作者 曾红军 陈波 +4 位作者 郭履容 杜春雷 邱传凯 王永茹 潘丽 《光电工程》 EI CAS CSCD 2000年第4期1-6,共6页
提出一种连续深浮雕微光学元件的制作方法。在移动掩模的基础上经湿法显影获得光刻胶元件良好的面形 ,然后结合干法刻蚀将图形通过蚀速比放大的办法精密传递到石英片基上 ,从而使最终的元件达到设计的浮雕深度。作者对整个过程进行了考... 提出一种连续深浮雕微光学元件的制作方法。在移动掩模的基础上经湿法显影获得光刻胶元件良好的面形 ,然后结合干法刻蚀将图形通过蚀速比放大的办法精密传递到石英片基上 ,从而使最终的元件达到设计的浮雕深度。作者对整个过程进行了考察和讨论 ,并以微棱镜为例进行了实验验证 ,为进一步制作大数值孔径连续表面微光学元件打下了技术基础。 展开更多
关键词 微光学元件 蚀刻 连续深浮雕
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连续面形微光学元件的深刻蚀工艺 被引量:3
15
作者 唐雄贵 杜春雷 +2 位作者 邱传凯 董小春 潘丽 《光电工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2003年第3期13-16,共4页
利用电感耦合等离子(ICP)刻蚀技术,在石英上刻蚀深连续面形微光学元件。分析了影响 深刻蚀工艺的烘焙条件、气体组分、自偏压和刻蚀温度等主要工艺参数,并对影响深刻蚀稳定性、均匀性、刻蚀污染与损伤等因素进行了探讨。通过实验,在石... 利用电感耦合等离子(ICP)刻蚀技术,在石英上刻蚀深连续面形微光学元件。分析了影响 深刻蚀工艺的烘焙条件、气体组分、自偏压和刻蚀温度等主要工艺参数,并对影响深刻蚀稳定性、均匀性、刻蚀污染与损伤等因素进行了探讨。通过实验,在石英上制作出深达55微米的浮雕微柱透镜,其面形峰值误差小于3%。 展开更多
关键词 微光学元件 深刻蚀 等高子刻蚀 连续面形
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光纤传感技术在油田开发中的应用进展 被引量:23
16
作者 庄须叶 黄涛 +2 位作者 邓勇刚 王浚璞 姚军 《西南石油大学学报(自然科学版)》 CAS CSCD 北大核心 2012年第2期161-172,共12页
相对于传统电学传感器,光纤传感器具有体积小、灵敏度高、耐酸碱腐蚀、抗电磁干扰能力强、不产生电火花以及可实现分布式、实时在线、永久性监测等特点,得到了众多科研工作者的广泛关注,并在油田开发中获得了广泛应用。对应用于油田开... 相对于传统电学传感器,光纤传感器具有体积小、灵敏度高、耐酸碱腐蚀、抗电磁干扰能力强、不产生电火花以及可实现分布式、实时在线、永久性监测等特点,得到了众多科研工作者的广泛关注,并在油田开发中获得了广泛应用。对应用于油田开发中的光纤传感技术的原理和发展现状进行了介绍,主要包括用于温度、压力、流场、声波、应力等方面检测的光纤传感技术。阐述了各种光纤传感技术在油田开发中的具体应用,通过对各传感技术的优缺点进行分析,并与现有的传统传感技术比较,指出了光纤传感技术在油田开发应用中的巨大优势和广阔前景,并对光纤传感技术在油田勘探和开发中的进一步的应用和发展进行了展望。 展开更多
关键词 光纤 传感器 光纤传感器 光纤传感技术 油田勘探开发
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纳米加工中的光驻波场研究 被引量:3
17
作者 陈献忠 姚汉民 +3 位作者 李展 陈元培 罗先刚 康西巧 《光电工程》 EI CAS CSCD 2000年第6期25-29,共5页
介绍了纳米加工中的光驻波场 ,分别对单反射面和双反射面形成的驻波进行了分析 ,并对不同区域的光强分布进行了理论推导。最后对如何形成高质量的光驻波场进行了探讨。
关键词 纳米加工 光驻波 光强分布 光场
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微光刻相移掩模技术研究 被引量:3
18
作者 冯伯儒 孙国良 +3 位作者 沈锋 阙珑 陈宝钦 崔铮 《光电工程》 CAS CSCD 1996年第S1期1-11,共11页
本文系统地论述了提高光刻分辨率的相移掩模技术的基本原理、计算模拟和光刻曝光实验 ;给出了模拟和实验结果 ;研究表明 ,只有在一定的临界参数条件下 ,相移掩模才能明显地改善分辨率和工艺宽容度 ;采用无铬相移掩模得到了 0 .2 μm的... 本文系统地论述了提高光刻分辨率的相移掩模技术的基本原理、计算模拟和光刻曝光实验 ;给出了模拟和实验结果 ;研究表明 ,只有在一定的临界参数条件下 ,相移掩模才能明显地改善分辨率和工艺宽容度 ;采用无铬相移掩模得到了 0 .2 μm的清晰抗蚀剂图形 ,证明了相移掩模在提高光刻分辨率。 展开更多
关键词 投影光刻 相移掩模 高分辨率 计算机模拟
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迈向21世纪的光刻技术 被引量:4
19
作者 姚汉民 周明宝 田宏 《光电工程》 CAS CSCD 1999年第1期1-8,共8页
介绍了深紫外光刻技术、电子束光刻技术、X射线光刻技术以及与这些技术相关的一些单元技术的最新进展,概要介绍了这些技术最热门的研究课题,阐述了这些技术的发展前景。
关键词 深紫外光刻 电子束光刻 X射线光刻
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基于相位差法的波前检测技术 被引量:6
20
作者 李强 沈忙作 《光电工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2006年第11期114-119,共6页
基于相位差法的波前检测技术,主要是利用在焦面和离焦位置上同时采集的一对图像,对光瞳上的波前相位分布进行恢复,同时也可以对目标进行恢复。与哈特曼波前传感器和剪切干涉仪等波前检测技术相比,相位差法具有光路简单、易于实现的特点... 基于相位差法的波前检测技术,主要是利用在焦面和离焦位置上同时采集的一对图像,对光瞳上的波前相位分布进行恢复,同时也可以对目标进行恢复。与哈特曼波前传感器和剪切干涉仪等波前检测技术相比,相位差法具有光路简单、易于实现的特点,同时可以采用扩展目标作为参考源,主要适用于对实时性要求不高的领域。在计算机模拟大气湍流和成像系统的基础上,我们使用有限内存拟牛顿法对波前相位和目标进行了恢复。模拟研究结果表明,相位差法可以较准确的恢复出波前相位,并且最优化的离焦波面差为一个波长。 展开更多
关键词 波前检测 相位恢复 图像恢复 相位差
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