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以新型硼源制备硼掺杂金刚石膜的性能研究 被引量:1
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作者 王梁 江彩义 +5 位作者 郭胜惠 高冀芸 胡途 杨黎 彭金辉 张利波 《金刚石与磨料磨具工程》 CAS 2017年第1期7-12,共6页
采用微波等离子体化学气相沉积技术,以氧化硼-乙醇溶液作为硼源,制备不同掺硼浓度的金刚石膜。利用扫描电子显微镜、X射线衍射仪、激光拉曼光谱仪、电化学工作站等研究其表面形貌、晶体结构、薄膜质量和电化学性能。结果表明:随硼元素... 采用微波等离子体化学气相沉积技术,以氧化硼-乙醇溶液作为硼源,制备不同掺硼浓度的金刚石膜。利用扫描电子显微镜、X射线衍射仪、激光拉曼光谱仪、电化学工作站等研究其表面形貌、晶体结构、薄膜质量和电化学性能。结果表明:随硼元素含量升高,金刚石膜的晶体颗粒尺寸先减小后增大,电势窗口由3.1V降至2.6V,阳极电流密度由0.022 7mA·cm^(-2)降至0.011 9mA·cm^(-2),但对背景电流及电化学可逆性几乎不影响。 展开更多
关键词 硼掺杂 金刚石膜 电化学性能
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MPCVD制备金刚石膜的形核与生长过程 被引量:3
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作者 江彩义 髙冀芸 +5 位作者 郭胜惠 杨黎 彭金辉 张利波 胡途 王仕兴 《材料导报》 EI CAS CSCD 北大核心 2016年第11期83-88,共6页
简要介绍了金刚石膜的物理化学特性及应用领域。对比分析了主要化学气相沉积方法的优缺点,并指出MPCVD所面临的技术瓶颈。总结了反应腔体内压强、基片温度、基体材料及增强形核技术对金刚石膜形核过程的影响。较低腔体内压力、基片温度... 简要介绍了金刚石膜的物理化学特性及应用领域。对比分析了主要化学气相沉积方法的优缺点,并指出MPCVD所面临的技术瓶颈。总结了反应腔体内压强、基片温度、基体材料及增强形核技术对金刚石膜形核过程的影响。较低腔体内压力、基片温度,高碳源浓度及等离子体预处理能有效提高形核密度。阐述了各过程参数对金刚石膜生长的影响和微米、纳米、超纳米金刚石膜的技术特点及应用。指出各类金刚石膜制备所面临的技术难题,并综述了解决该技术瓶颈的最新研究工作。 展开更多
关键词 金刚石膜 微波等离子体 化学气相沉积 形核 生长
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氧气流量对MPCVD法制备超纳米金刚石膜的影响 被引量:1
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作者 江彩义 髙冀芸 +5 位作者 郭胜惠 杨黎 彭金辉 张利波 胡途 王仕兴 《材料导报》 EI CAS CSCD 北大核心 2017年第A01期66-69,共4页
采用微波等离子化学气相沉积技术,以CH_4/H_2/Ar为气源,通过调节O_2流量,增强等离子体对非金刚石相的刻蚀能力,提高超纳米金刚石膜中金刚石相的含量。并利用扫描电子显微镜(SEM)、X射线衍射(XRD)、拉曼光谱及X射线光电子能谱(XPS)分别... 采用微波等离子化学气相沉积技术,以CH_4/H_2/Ar为气源,通过调节O_2流量,增强等离子体对非金刚石相的刻蚀能力,提高超纳米金刚石膜中金刚石相的含量。并利用扫描电子显微镜(SEM)、X射线衍射(XRD)、拉曼光谱及X射线光电子能谱(XPS)分别对超纳米金刚石膜的形貌、生长速率、晶型、晶粒尺寸及金刚石含量进行了表征分析,重点研究了O_2流量对晶粒尺寸及金刚石含量的影响。实验结果表明,随O_2流量的增加,平均晶粒尺寸从8.4nm增大至16.1nm,随后减小至9.6nm;当O_2流量为0.7sccm时,金刚石相含量由71.58%提升至85.46%,平均晶粒尺寸约为9.6nm。 展开更多
关键词 氧气流量 MPCVD 超纳米金刚石膜 金刚石含量
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