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透明导电薄膜的红外可见光兼容隐身的厚度依赖性研究
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作者 杨季薇 董玲 +6 位作者 谷东 徐华蕊 赵昀云 杨涛 李海平 李杰 朱归胜 《人工晶体学报》 北大核心 2025年第9期1614-1621,共8页
采用直流(DC)磁控溅射法,通过对透明导电薄膜氧化铟锡(ITO)进行结构调控,分析其中的载流子浓度、迁移率等变化,着重探究了薄膜的厚度对红外波段反射率的影响,诠释了薄膜厚度与光电性能之间的构效关系。通过设定特定的溅射功率、衬底温... 采用直流(DC)磁控溅射法,通过对透明导电薄膜氧化铟锡(ITO)进行结构调控,分析其中的载流子浓度、迁移率等变化,着重探究了薄膜的厚度对红外波段反射率的影响,诠释了薄膜厚度与光电性能之间的构效关系。通过设定特定的溅射功率、衬底温度、气氛控制ITO薄膜的薄膜厚度,得到了100~500 nm厚度的薄膜,实现了高(400)取向、高红外反射率、高可见光透过率的氧化铟锡薄膜的制备。构建的特殊膜层厚度,构成了协同的载流子浓度与迁移率,缓解了一部分漫反射的影响,在膜厚为400 nm时,平均可见光透过率为89.51%,实现了2.5~15μm宽谱段97.37%的平均红外反射率。且所得薄膜品质因数高达815.19×10^(-4)Ω^(-1),显著优于已报道的透明导电薄膜体系,解决了可见光与红外兼容隐身的问题,为频谱兼容光学隐身材料及智能窗的制备提供了新的思路。 展开更多
关键词 氧化铟锡薄膜 直流磁控溅射 红外隐身 厚度 光电性能 霍尔参数
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