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废杂铜氨性蚀刻溶铜工艺研究
1
作者
曹洪杨
王继民
+2 位作者
黄莉丽
周毅舟
许维健
《湿法冶金》
CAS
北大核心
2013年第4期234-236,共3页
研究了在CuCl2-NH3-NH4Cl和CuCl2-CuSO4-NH3-NH4Cl体系中蚀刻废杂铜,考察了蚀刻液组成、铜氨溶液中初始离子质量浓度、温度、溶液流动状态、蚀刻液pH等因素对铜溶解速率的影响。结果表明:CuCl2-NH3-NH4Cl体系中,在铜质量浓度120～165g/...
研究了在CuCl2-NH3-NH4Cl和CuCl2-CuSO4-NH3-NH4Cl体系中蚀刻废杂铜,考察了蚀刻液组成、铜氨溶液中初始离子质量浓度、温度、溶液流动状态、蚀刻液pH等因素对铜溶解速率的影响。结果表明:CuCl2-NH3-NH4Cl体系中,在铜质量浓度120～165g/L、氯质量浓度150～200g/L、pH 8.0～8.5、温度45℃、强化流动条件下,废杂铜的蚀刻速率为0.25g/(min.L);CuCl2-CuSO4-NH3-NH4Cl体系中,在铜质量浓度35～75g/L、氯质量浓度35～80g/L、pH 10.0～11.0、温度45℃、强化流动条件下,废杂铜的蚀刻速率为0.33g/(min.L)。
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关键词
废杂铜
铜氨溶液
蚀刻
铜
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职称材料
题名
废杂铜氨性蚀刻溶铜工艺研究
1
作者
曹洪杨
王继民
黄莉丽
周毅舟
许维健
机构
广州
有色金属研究院稀有金属研究所
广州翔骏铜业有限公司
出处
《湿法冶金》
CAS
北大核心
2013年第4期234-236,共3页
文摘
研究了在CuCl2-NH3-NH4Cl和CuCl2-CuSO4-NH3-NH4Cl体系中蚀刻废杂铜,考察了蚀刻液组成、铜氨溶液中初始离子质量浓度、温度、溶液流动状态、蚀刻液pH等因素对铜溶解速率的影响。结果表明:CuCl2-NH3-NH4Cl体系中,在铜质量浓度120～165g/L、氯质量浓度150～200g/L、pH 8.0～8.5、温度45℃、强化流动条件下,废杂铜的蚀刻速率为0.25g/(min.L);CuCl2-CuSO4-NH3-NH4Cl体系中,在铜质量浓度35～75g/L、氯质量浓度35～80g/L、pH 10.0～11.0、温度45℃、强化流动条件下,废杂铜的蚀刻速率为0.33g/(min.L)。
关键词
废杂铜
铜氨溶液
蚀刻
铜
Keywords
waste copper
copper-ammonia solution etching
copper
分类号
TF803.21 [冶金工程—有色金属冶金]
TF811 [冶金工程—有色金属冶金]
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作者
出处
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1
废杂铜氨性蚀刻溶铜工艺研究
曹洪杨
王继民
黄莉丽
周毅舟
许维健
《湿法冶金》
CAS
北大核心
2013
0
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