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偶氮类染料添加剂在铜电沉积中的机理和应用研究
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作者 肖龙辉 何为 +8 位作者 皮亦鸣 王城 何科翰 黎钦源 曾红 田玲 王悦聪 黄云钟 陈苑明 《电镀与精饰》 北大核心 2025年第3期1-9,33,共10页
铜电沉积是高密度互连印制电路中实现电气连接的主要方式,电沉积铜层质量直接影响到层间互连和信号传输稳定性。有机添加剂在金属电沉积过程中能够通过特征官能团在电极表面电流密度较高区域的吸附作用调控阴极表面的电流分布,提高镀液... 铜电沉积是高密度互连印制电路中实现电气连接的主要方式,电沉积铜层质量直接影响到层间互连和信号传输稳定性。有机添加剂在金属电沉积过程中能够通过特征官能团在电极表面电流密度较高区域的吸附作用调控阴极表面的电流分布,提高镀液的均镀能力和微观整平能力。在铜电沉积过程中,偶氮类化合物中与苯环相连的氮-氮双键被认为是发挥调控作用的关键基团,因此采用直接黄86、灿烂黄和活性嫩黄3G-P三种偶氮类染料作为电沉积铜添加剂。采用电化学和量子化学方法探究了3种添加剂的化学性质及其在铜电沉积过程中的作用机制,通过哈林槽实验研究了3种偶氮类染料添加剂对金属铜镀层的影响,分析了3种添加剂对通孔电沉积效果,并通过电镀通孔的均匀性评估了添加剂作用下镀液的均镀能力(Throwing Power,TP),实现厚径比为10:1通孔的TP值达92.03%。 展开更多
关键词 铜电沉积 通孔 偶氮类染料添加剂 均镀能力
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PCB酸性蚀刻液中缓蚀剂对厚铜线路制作的影响(英文) 被引量:4
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作者 王小丽 何为 +8 位作者 陈先明 曾红 苏元章 王翀 李高升 黄本霞 冯磊 黄高 陈苑明 《电化学》 CAS CSCD 北大核心 2022年第7期57-66,共10页
以2-巯基苯并噻唑(2-MBT)、苯并三氮唑(BTA)和苯氧基乙醇(MSDS)作为缓蚀剂,研究了其加入在酸性蚀刻液后对PCB厚铜线路的缓蚀效果。通过接触角测试、电化学测试和蚀刻因子得出缓蚀状态,并结合扫描电子显微镜观察铜表面形貌。通过分子动... 以2-巯基苯并噻唑(2-MBT)、苯并三氮唑(BTA)和苯氧基乙醇(MSDS)作为缓蚀剂,研究了其加入在酸性蚀刻液后对PCB厚铜线路的缓蚀效果。通过接触角测试、电化学测试和蚀刻因子得出缓蚀状态,并结合扫描电子显微镜观察铜表面形貌。通过分子动力学计算和量子化学模拟分析缓蚀剂在铜表面的吸附机理。结果表明,2-MBT+MSDS与BTA+MSDS的分子结构可有效地平行吸附在铜表面,且吸附能高于单一缓蚀剂。加入了2-MBT+MSDS的蚀刻液,对厚度约为33μm铜线路进行刻蚀,铜线路的蚀刻因子提高到6.59,可有效应用于PCB厚铜线路制作。 展开更多
关键词 缓蚀剂 协同作用 厚铜线路 酸性蚀刻液
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