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一类具有多重不匹配扰动的非同元次不确定系统的分数阶抗扰控制
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作者 郑伟佳 冯诗荣 +1 位作者 黄润权 陈阳泉 《控制理论与应用》 北大核心 2025年第6期1092-1100,共9页
现有的自抗扰控制(ADRC)方法主要针对整数阶系统或同元次分数阶系统,当应用于更一般的导数阶次互不相同的非同元次分数阶系统时,可能无法获得令人满意的性能.针对具有多重外源干扰的非同元次分数阶不确定系统的控制问题,提出了一种改进... 现有的自抗扰控制(ADRC)方法主要针对整数阶系统或同元次分数阶系统,当应用于更一般的导数阶次互不相同的非同元次分数阶系统时,可能无法获得令人满意的性能.针对具有多重外源干扰的非同元次分数阶不确定系统的控制问题,提出了一种改进的分数阶抗干扰控制方案(EFADC).将非同元次分数阶特性当作模型不确定性,采用分数阶自抗扰控制(FOADRC)进行补偿.设计分数阶扰动观测器(FODO)来估计由外源模型描述的扰动.在此基础上,设计一种基于不确定性和扰动补偿的分数阶滑模控制(FOSMC)方法,使系统具有快速响应性能和鲁棒性.通过理论分析和数值模拟验证了所提方法的有效性.仿真结果表明,所提方法有效改善了非同元次分数阶系统的动态性能和对外部扰动的鲁棒性. 展开更多
关键词 自抗扰控制 扰动观测器 滑模控制 非同元次分数阶系统
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基于多目标并行混沌优化的分布式驱动电动汽车横摆稳定性研究 被引量:1
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作者 肖祥慧 宋运豪 +1 位作者 史可 袁小芳 《电子学报》 CSCD 北大核心 2024年第12期4166-4174,共9页
横摆稳定性是分布式驱动电动汽车(Distributed Drive Electric Vehicle,DDEV)稳定性研究中的重要难题.为解决DDEV横摆稳定性结构复杂、强耦合等问题,基于DDEV轮毂电机的独立可控性,本文提出一种基于多目标并行混沌优化的DDEV横摆稳定性... 横摆稳定性是分布式驱动电动汽车(Distributed Drive Electric Vehicle,DDEV)稳定性研究中的重要难题.为解决DDEV横摆稳定性结构复杂、强耦合等问题,基于DDEV轮毂电机的独立可控性,本文提出一种基于多目标并行混沌优化的DDEV横摆稳定性控制系统.该控制系统由2个部分组成;上层控制器利用多目标优化策略,通过多目标并行混沌优化算法来计算DDEV维持横摆稳定所需的理想横摆角速度和期望滑移率;下层控制器为执行单元,根据上层控制器输出的最优期望变量,采用2个模糊控制器分别修正主动前轮转向角和分配驱/制动转矩,改善DDEV横摆稳定性.模型构建和仿真过程在Matlab/Simulink平台上完成,结果表明:该控制系统优化协调主动前轮转向角和驱/制动转矩,保证了DDEV横摆稳定性. 展开更多
关键词 电动汽车 多目标优化 模糊控制 分布式驱动 横摆稳定性
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Micro-LED芯片激光去除机理及工艺参数优化 被引量:2
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作者 乔健 吴振铎 +2 位作者 彭信翰 冉雨宣 杨景卫 《光学精密工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2024年第9期1360-1370,共11页
为提高面板级Micro-LED显示面板的制造质量,需要对不良Micro-LED芯片进行原位去除与修复,利用COMSOL建立激光双温烧蚀模型,开展了Micro-LED不良芯片激光去除机理和工艺参数的优化。通过单脉冲激光对MicroLED芯片烧蚀所形成表面光斑的直... 为提高面板级Micro-LED显示面板的制造质量,需要对不良Micro-LED芯片进行原位去除与修复,利用COMSOL建立激光双温烧蚀模型,开展了Micro-LED不良芯片激光去除机理和工艺参数的优化。通过单脉冲激光对MicroLED芯片烧蚀所形成表面光斑的直径平方来推算Micro-LED的烧蚀阈值,拟合出激光参数与烧蚀深度的关系,并对双温烧蚀模型的准确性进行验证;分析了激光光斑重叠率、能量密度和不同扫描路径下对应芯片的烧蚀特征及去除机理,结合双温烧蚀模型完成了激光扫描路径及对应工艺参数的优化。结果表明,飞秒激光烧蚀模型对Micro-LED芯片激光烧蚀加工的最大分析误差为9.28%,优化的激光去除模式实现了1秒/颗的快速精准剥离和焊盘表面的高质量整平修复,对大幅面Micro-LED显示面板规模化生产中不良芯片的快速修复具有重要的指导作用。 展开更多
关键词 飞秒激光 原位去除 微发光二极管显示器 不良芯片
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