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化学镀NiP原子沉积过程二维计算机模拟
1
作者
关凯书
刘鹏虎
+1 位作者
王志文
尹衍升
《机械工程材料》
CAS
CSCD
北大核心
2002年第10期15-18,共4页
建立了非晶态化学镀NiP原子沉积过程计算机模拟模型 ,用MonteCarlo方法对原子沉积过程进行了二维 (2D)计算机模拟。结果表明 ,吸附原子的迁移概率及最大迁移距离S对镀层的显微孔隙有显著的影响。随着吸附原子迁移概率的增加 (k减小 )及...
建立了非晶态化学镀NiP原子沉积过程计算机模拟模型 ,用MonteCarlo方法对原子沉积过程进行了二维 (2D)计算机模拟。结果表明 ,吸附原子的迁移概率及最大迁移距离S对镀层的显微孔隙有显著的影响。随着吸附原子迁移概率的增加 (k减小 )及最大迁移距离S的增大 ,吸附原子有更大的概率迁移到配位数较多的位置处沉积 ,即原子填充空穴及孔隙的机会多 ,镀层孔隙率低。
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关键词
计算机模拟
化学镀镍磷合金
MONTE-CARLO方法
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职称材料
题名
化学镀NiP原子沉积过程二维计算机模拟
1
作者
关凯书
刘鹏虎
王志文
尹衍升
机构
山东大学材料液态结构及遗传教育部重点实验室
辽宁工程技术
大学
材料
工程系
华东理工
大学
化工机械研究所
出处
《机械工程材料》
CAS
CSCD
北大核心
2002年第10期15-18,共4页
文摘
建立了非晶态化学镀NiP原子沉积过程计算机模拟模型 ,用MonteCarlo方法对原子沉积过程进行了二维 (2D)计算机模拟。结果表明 ,吸附原子的迁移概率及最大迁移距离S对镀层的显微孔隙有显著的影响。随着吸附原子迁移概率的增加 (k减小 )及最大迁移距离S的增大 ,吸附原子有更大的概率迁移到配位数较多的位置处沉积 ,即原子填充空穴及孔隙的机会多 ,镀层孔隙率低。
关键词
计算机模拟
化学镀镍磷合金
MONTE-CARLO方法
Keywords
computer simulation
electroless NiP alloy
Monte Carlo method
分类号
TQ153.2 [化学工程—电化学工业]
TP391.9 [自动化与计算机技术—计算机应用技术]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
化学镀NiP原子沉积过程二维计算机模拟
关凯书
刘鹏虎
王志文
尹衍升
《机械工程材料》
CAS
CSCD
北大核心
2002
0
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职称材料
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