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电子束重复曝光加工PCR微通道的工艺研究
被引量:
2
1
作者
孔祥东
冯圣玉
张玉林
《微纳电子技术》
CAS
北大核心
2009年第1期41-44,共4页
对PCR微流控芯片通道中流体的流动特性进行了分析,发现流体在横截面为圆形的通道中流动时由摩擦引起的等效水头损失及表面张力均小于微矩形通道。以此为依据,将PCR芯片微通道优化设计成圆形通道。在JSM-5CF电子束曝光机上采用束斑尺寸8...
对PCR微流控芯片通道中流体的流动特性进行了分析,发现流体在横截面为圆形的通道中流动时由摩擦引起的等效水头损失及表面张力均小于微矩形通道。以此为依据,将PCR芯片微通道优化设计成圆形通道。在JSM-5CF电子束曝光机上采用束斑尺寸80nm、能量20keV的电子束对1μm厚的聚甲基丙烯酸甲酯进行了单次曝光剂量40μC/cm2的8次重复增量扫描曝光实验,显影后得到的PCR芯片微圆通道轮廓清晰,边缘连续光滑。证明了电子束重复增量扫描曝光方式制作PCR微流控芯片微圆通道的可行性。
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关键词
电子束曝光
重复增量扫描
聚合酶链式反应(PCR)微流控芯片
流体
微通道
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职称材料
电子束重复增量扫描曝光技术
被引量:
4
2
作者
孔祥东
冯圣玉
+1 位作者
卢文娟
张玉林
《强激光与粒子束》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2007年第3期503-506,共4页
提出了电子束重复增量扫描曝光技术新概念,对吸收能量密度与深度和曝光剂量之间的关系、溶解速度与吸收能量密度之间的关系进行了理论分析,发现溶解速度随曝光剂量增加而增大。以此为依据,在SDS-3型电子束曝光机上采用20 keV能量的电子...
提出了电子束重复增量扫描曝光技术新概念,对吸收能量密度与深度和曝光剂量之间的关系、溶解速度与吸收能量密度之间的关系进行了理论分析,发现溶解速度随曝光剂量增加而增大。以此为依据,在SDS-3型电子束曝光机上采用20 keV能量的电子束对570 nm厚的聚甲基丙烯酸甲酯进行了7次重复增量扫描曝光实验,得到了轮廓清晰的梯锥和圆锥3维结构,证明了电子束重复增量扫描曝光技术的可行性,为电子束加工3维结构提供了新工艺。
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关键词
电子束曝光
吸收能量密度
剂量
溶解速度
抗蚀剂
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职称材料
基于软刻蚀技术的微三维结构加工方法研究
被引量:
1
3
作者
卢文娟
张玉林
+1 位作者
孔祥东
郝惠娟
《微纳电子技术》
CAS
2007年第10期957-959,963,共4页
软刻蚀是通过表面带有图案的弹性模板来实现图案转移的图形复制技术,弹性印章是软刻蚀技术的核心。简单介绍了软刻蚀技术,使用SDS-3型电子束曝光机,采用重复增量扫描方式进行曝光,生成弹性印章的母版,将其硅烷化后用以制作弹性印章,再...
软刻蚀是通过表面带有图案的弹性模板来实现图案转移的图形复制技术,弹性印章是软刻蚀技术的核心。简单介绍了软刻蚀技术,使用SDS-3型电子束曝光机,采用重复增量扫描方式进行曝光,生成弹性印章的母版,将其硅烷化后用以制作弹性印章,再利用软刻蚀技术可进行微图形的复制,得到微三维结构。显影后得到轮廓清晰的三维结构,证明将电子束重复增量扫描曝光方式与软刻蚀技术相结合可为制作微三维结构提供一种简单、有效的低成本途径。
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关键词
软刻蚀技术
弹性印章
重复增量扫描方式
电子束光刻
微三维加工
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职称材料
LIGA工艺的发展及应用
被引量:
9
4
作者
孔祥东
张玉林
宋会英
《微纳电子技术》
CAS
2004年第5期13-18,27,共7页
介绍了LIGA(lithographie,galvanoformungandabformung)技术以及在此基础上开发出来的准LIGA(like-LIGA)技术、SLIGA(sacrificialLIGA)、M2LIGA(movingmaskLIGA)技术和抗蚀剂回流LIGA(PRLIGA———photoresistreflowLIGA)技术等。利用...
介绍了LIGA(lithographie,galvanoformungandabformung)技术以及在此基础上开发出来的准LIGA(like-LIGA)技术、SLIGA(sacrificialLIGA)、M2LIGA(movingmaskLIGA)技术和抗蚀剂回流LIGA(PRLIGA———photoresistreflowLIGA)技术等。利用这一系列LIGA技术,可以生成具有高深宽比的复杂微结构,如微尖阵列、球形曲面、活动部件等,能较好地满足MEMS发展的需要。最后指出了目前这些方法存在的缺陷。
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关键词
LIGA工艺
光刻胶
X射线
曝光
微机电系统
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职称材料
IH工艺的发展及应用
被引量:
5
5
作者
孔祥东
张玉林
尹明
《微纳电子技术》
CAS
2003年第11期34-39,共6页
介绍了IH系列立体光刻技术。使用该系列技术可以加工出具有高深宽比和复杂曲面的各种微结构,可以容易地加工出微可动部件、电子聚合物组合结构和不同聚合物的全聚合物结构,能较好地满足MEMS发展的需要。最后指出这种方法目前存在的缺陷。
关键词
IH工艺
立体光刻
抗蚀剂
聚合物结构
微机电系统
集成固化聚合物
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职称材料
题名
电子束重复曝光加工PCR微通道的工艺研究
被引量:
2
1
作者
孔祥东
冯圣玉
张玉林
机构
山东大学
化学与化工
学院
东营职业
学院
科研处
山东大学控制科学与工程学院电子束研究所
出处
《微纳电子技术》
CAS
北大核心
2009年第1期41-44,共4页
基金
国家自然科学基金资助项目(10572078)
山东省博士后择优资助科研项目(200603004)
山东省自然科学基金资助课题(Y2003G03)
文摘
对PCR微流控芯片通道中流体的流动特性进行了分析,发现流体在横截面为圆形的通道中流动时由摩擦引起的等效水头损失及表面张力均小于微矩形通道。以此为依据,将PCR芯片微通道优化设计成圆形通道。在JSM-5CF电子束曝光机上采用束斑尺寸80nm、能量20keV的电子束对1μm厚的聚甲基丙烯酸甲酯进行了单次曝光剂量40μC/cm2的8次重复增量扫描曝光实验,显影后得到的PCR芯片微圆通道轮廓清晰,边缘连续光滑。证明了电子束重复增量扫描曝光方式制作PCR微流控芯片微圆通道的可行性。
关键词
电子束曝光
重复增量扫描
聚合酶链式反应(PCR)微流控芯片
流体
微通道
Keywords
electron beam lithography
overlapped increment scanning
micro-flow PCR (poly-merase chain reaction) chip
fluid
microchannel
分类号
TN305.7 [电子电信—物理电子学]
TN703 [电子电信—电路与系统]
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职称材料
题名
电子束重复增量扫描曝光技术
被引量:
4
2
作者
孔祥东
冯圣玉
卢文娟
张玉林
机构
山东大学
化学与化工
学院
山东大学
控制
学院
电子束
研究所
出处
《强激光与粒子束》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2007年第3期503-506,共4页
基金
国家自然科学基金重大研究计划资助课题(90307003)
国家自然科学基金资助课题(10572078)
山东省自然科学基金资助课题(Y2003G03)
文摘
提出了电子束重复增量扫描曝光技术新概念,对吸收能量密度与深度和曝光剂量之间的关系、溶解速度与吸收能量密度之间的关系进行了理论分析,发现溶解速度随曝光剂量增加而增大。以此为依据,在SDS-3型电子束曝光机上采用20 keV能量的电子束对570 nm厚的聚甲基丙烯酸甲酯进行了7次重复增量扫描曝光实验,得到了轮廓清晰的梯锥和圆锥3维结构,证明了电子束重复增量扫描曝光技术的可行性,为电子束加工3维结构提供了新工艺。
关键词
电子束曝光
吸收能量密度
剂量
溶解速度
抗蚀剂
Keywords
Eectron beam lithography
Absorbed energy density
Dose
Solution rate
Resist
分类号
TN305.7 [电子电信—物理电子学]
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职称材料
题名
基于软刻蚀技术的微三维结构加工方法研究
被引量:
1
3
作者
卢文娟
张玉林
孔祥东
郝惠娟
机构
山东大学
控制
学院
电子束
研究所
东营职业
学院
出处
《微纳电子技术》
CAS
2007年第10期957-959,963,共4页
基金
山东省自然科学基金资助项目(Y2003G03)
文摘
软刻蚀是通过表面带有图案的弹性模板来实现图案转移的图形复制技术,弹性印章是软刻蚀技术的核心。简单介绍了软刻蚀技术,使用SDS-3型电子束曝光机,采用重复增量扫描方式进行曝光,生成弹性印章的母版,将其硅烷化后用以制作弹性印章,再利用软刻蚀技术可进行微图形的复制,得到微三维结构。显影后得到轮廓清晰的三维结构,证明将电子束重复增量扫描曝光方式与软刻蚀技术相结合可为制作微三维结构提供一种简单、有效的低成本途径。
关键词
软刻蚀技术
弹性印章
重复增量扫描方式
电子束光刻
微三维加工
Keywords
soft lithography
elastic stamp
overlapped increment scanning manner
electron-beam lithography
3D micromachining
分类号
TN305.7 [电子电信—物理电子学]
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职称材料
题名
LIGA工艺的发展及应用
被引量:
9
4
作者
孔祥东
张玉林
宋会英
机构
山东大学控制科学与工程学院电子束研究所
出处
《微纳电子技术》
CAS
2004年第5期13-18,27,共7页
基金
山东省高科技发展基金资助项目(022090105)
山东省教育厅科技计划项目(03B53)
文摘
介绍了LIGA(lithographie,galvanoformungandabformung)技术以及在此基础上开发出来的准LIGA(like-LIGA)技术、SLIGA(sacrificialLIGA)、M2LIGA(movingmaskLIGA)技术和抗蚀剂回流LIGA(PRLIGA———photoresistreflowLIGA)技术等。利用这一系列LIGA技术,可以生成具有高深宽比的复杂微结构,如微尖阵列、球形曲面、活动部件等,能较好地满足MEMS发展的需要。最后指出了目前这些方法存在的缺陷。
关键词
LIGA工艺
光刻胶
X射线
曝光
微机电系统
Keywords
LIGA
photo resist
X-ray
exposure
分类号
TN305.7 [电子电信—物理电子学]
在线阅读
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职称材料
题名
IH工艺的发展及应用
被引量:
5
5
作者
孔祥东
张玉林
尹明
机构
山东大学
控制
学院
电子束
研究所
出处
《微纳电子技术》
CAS
2003年第11期34-39,共6页
基金
2003年山东省科学计划项目
文摘
介绍了IH系列立体光刻技术。使用该系列技术可以加工出具有高深宽比和复杂曲面的各种微结构,可以容易地加工出微可动部件、电子聚合物组合结构和不同聚合物的全聚合物结构,能较好地满足MEMS发展的需要。最后指出这种方法目前存在的缺陷。
关键词
IH工艺
立体光刻
抗蚀剂
聚合物结构
微机电系统
集成固化聚合物
Keywords
IH process
stereo lithography
resist
分类号
TN305.7 [电子电信—物理电子学]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
电子束重复曝光加工PCR微通道的工艺研究
孔祥东
冯圣玉
张玉林
《微纳电子技术》
CAS
北大核心
2009
2
在线阅读
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职称材料
2
电子束重复增量扫描曝光技术
孔祥东
冯圣玉
卢文娟
张玉林
《强激光与粒子束》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2007
4
在线阅读
下载PDF
职称材料
3
基于软刻蚀技术的微三维结构加工方法研究
卢文娟
张玉林
孔祥东
郝惠娟
《微纳电子技术》
CAS
2007
1
在线阅读
下载PDF
职称材料
4
LIGA工艺的发展及应用
孔祥东
张玉林
宋会英
《微纳电子技术》
CAS
2004
9
在线阅读
下载PDF
职称材料
5
IH工艺的发展及应用
孔祥东
张玉林
尹明
《微纳电子技术》
CAS
2003
5
在线阅读
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职称材料
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