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电子束重复增量扫描曝光技术被引量：4: 1; 作者孔祥东冯圣玉 +1 位作者卢文娟张玉林《强激光与粒子束》 EI CAS CSCD 北大核心 2007年第3期503-506,共4页; 提出了电子束重复增量扫描曝光技术新概念,对吸收能量密度与深度和曝光剂量之间的关系、溶解速度与吸收能量密度之间的关系进行了理论分析,发现溶解速度随曝光剂量增加而增大。以此为依据,在SDS-3型电子束曝光机上采用20 keV能量的电子... 展开更多; 关键词电子束曝光吸收能量密度剂量溶解速度抗蚀剂; 在线阅读下载PDF 职称材料

用反差确定电子束曝光剂量与刻蚀深度的关系: 2; 作者卢文娟张玉林 +1 位作者孔祥东郝慧娟《强激光与粒子束》 EI CAS CSCD 北大核心 2007年第8期1377-1380,共4页; 为了精确地确定电子束曝光剂量与刻蚀深度间的关系，根据抗蚀剂的灵敏度曲线，采用反差经验公式来确定剂量与刻蚀深度间的关系。选用正性抗蚀剂PMMA进行曝光实验，将计算值进行曲线拟合，得到的关系曲线与实验结果基本相符。当剂量在20... 展开更多; 关键词电子束光刻曝光剂量刻蚀深度反差吸收能量密度; 在线阅读下载PDF 职称材料

基于软刻蚀技术的微三维结构加工方法研究被引量：1: 3; 作者卢文娟张玉林 +1 位作者孔祥东郝惠娟《微纳电子技术》 CAS 2007年第10期957-959,963,共4页; 软刻蚀是通过表面带有图案的弹性模板来实现图案转移的图形复制技术,弹性印章是软刻蚀技术的核心。简单介绍了软刻蚀技术,使用SDS-3型电子束曝光机,采用重复增量扫描方式进行曝光,生成弹性印章的母版,将其硅烷化后用以制作弹性印章,再... 展开更多; 关键词软刻蚀技术弹性印章重复增量扫描方式电子束光刻微三维加工; 在线阅读下载PDF 职称材料

微机电系统的微细加工技术被引量：5: 4; 作者孔祥东张玉林 +1 位作者宋会英卢文娟《微纳电子技术》 CAS 2004年第11期32-38,共7页; 详细阐述了硅微加工工艺以及近几年内国际上开发的一些新的加工技术,如3D电化学微加工、EFAB工艺等,并提出了目前这些方法中存在的缺陷。; 关键词微细加工技术微加工工艺 EFAB 微机电系统缺陷; 在线阅读下载PDF 职称材料

IH工艺的发展及应用被引量：5: 5; 作者孔祥东张玉林尹明《微纳电子技术》 CAS 2003年第11期34-39,共6页; 介绍了IH系列立体光刻技术。使用该系列技术可以加工出具有高深宽比和复杂曲面的各种微结构,可以容易地加工出微可动部件、电子聚合物组合结构和不同聚合物的全聚合物结构,能较好地满足MEMS发展的需要。最后指出这种方法目前存在的缺陷。; 关键词 IH工艺立体光刻抗蚀剂聚合物结构微机电系统集成固化聚合物; 在线阅读下载PDF 职称材料

题名电子束重复增量扫描曝光技术被引量：4: 1; 作者孔祥东冯圣玉卢文娟张玉林; 机构山东大学化学与化工学院山东大学控制学院电子束研究所; 出处《强激光与粒子束》 EI CAS CSCD 北大核心 2007年第3期503-506,共4页; 基金国家自然科学基金重大研究计划资助课题(90307003) 国家自然科学基金资助课题(10572078) 山东省自然科学基金资助课题(Y2003G03); 文摘提出了电子束重复增量扫描曝光技术新概念,对吸收能量密度与深度和曝光剂量之间的关系、溶解速度与吸收能量密度之间的关系进行了理论分析,发现溶解速度随曝光剂量增加而增大。以此为依据,在SDS-3型电子束曝光机上采用20 keV能量的电子束对570 nm厚的聚甲基丙烯酸甲酯进行了7次重复增量扫描曝光实验,得到了轮廓清晰的梯锥和圆锥3维结构,证明了电子束重复增量扫描曝光技术的可行性,为电子束加工3维结构提供了新工艺。; 关键词电子束曝光吸收能量密度剂量溶解速度抗蚀剂; Keywords Eectron beam lithography Absorbed energy density Dose Solution rate Resist; 分类号 TN305.7 [电子电信—物理电子学]; 在线阅读下载PDF 职称材料

题名用反差确定电子束曝光剂量与刻蚀深度的关系: 2; 作者卢文娟张玉林孔祥东郝慧娟; 机构山东大学控制学院电子束研究所东营职业学院; 出处《强激光与粒子束》 EI CAS CSCD 北大核心 2007年第8期1377-1380,共4页; 基金国家863计划项目资助课题; 文摘为了精确地确定电子束曝光剂量与刻蚀深度间的关系，根据抗蚀剂的灵敏度曲线，采用反差经验公式来确定剂量与刻蚀深度间的关系。选用正性抗蚀剂PMMA进行曝光实验，将计算值进行曲线拟合，得到的关系曲线与实验结果基本相符。当剂量在20-35μC／cm^2。间时，实验值与计算值间的差值最小，说明当剂量在此范围内时该方法能够更加精确地确定剂量与刻蚀深度间的关系。采用该方法节省了实验时间，提高了刻蚀效率。; 关键词电子束光刻曝光剂量刻蚀深度反差吸收能量密度; Keywords Electron beam lithography Exposure dose Etching depth Contrast Absorbing energy density; 分类号 TN305.7 [电子电信—物理电子学]; 在线阅读下载PDF 职称材料

题名基于软刻蚀技术的微三维结构加工方法研究被引量：1: 3; 作者卢文娟张玉林孔祥东郝惠娟; 机构山东大学控制学院电子束研究所东营职业学院; 出处《微纳电子技术》 CAS 2007年第10期957-959,963,共4页; 基金山东省自然科学基金资助项目(Y2003G03); 文摘软刻蚀是通过表面带有图案的弹性模板来实现图案转移的图形复制技术,弹性印章是软刻蚀技术的核心。简单介绍了软刻蚀技术,使用SDS-3型电子束曝光机,采用重复增量扫描方式进行曝光,生成弹性印章的母版,将其硅烷化后用以制作弹性印章,再利用软刻蚀技术可进行微图形的复制,得到微三维结构。显影后得到轮廓清晰的三维结构,证明将电子束重复增量扫描曝光方式与软刻蚀技术相结合可为制作微三维结构提供一种简单、有效的低成本途径。; 关键词软刻蚀技术弹性印章重复增量扫描方式电子束光刻微三维加工; Keywords soft lithography elastic stamp overlapped increment scanning manner electron-beam lithography 3D micromachining; 分类号 TN305.7 [电子电信—物理电子学]; 在线阅读下载PDF 职称材料

题名微机电系统的微细加工技术被引量：5: 4; 作者孔祥东张玉林宋会英卢文娟; 机构山东大学控制学院电子束研究所; 出处《微纳电子技术》 CAS 2004年第11期32-38,共7页; 基金国家自然科学基金重大研究计划资助项目(90307003) 山东省自然科学基金资助项目(Y2003G03); 文摘详细阐述了硅微加工工艺以及近几年内国际上开发的一些新的加工技术,如3D电化学微加工、EFAB工艺等,并提出了目前这些方法中存在的缺陷。; 关键词微细加工技术微加工工艺 EFAB 微机电系统缺陷; Keywords micro-processing technology EFAB(electrochemical fabrication) electrochemical 3D micromachining technology CELT; 分类号 TN305.7 [电子电信—物理电子学] TH-39 [机械工程]; 在线阅读下载PDF 职称材料

题名IH工艺的发展及应用被引量：5: 5; 作者孔祥东张玉林尹明; 机构山东大学控制学院电子束研究所; 出处《微纳电子技术》 CAS 2003年第11期34-39,共6页; 基金 2003年山东省科学计划项目; 文摘介绍了IH系列立体光刻技术。使用该系列技术可以加工出具有高深宽比和复杂曲面的各种微结构,可以容易地加工出微可动部件、电子聚合物组合结构和不同聚合物的全聚合物结构,能较好地满足MEMS发展的需要。最后指出这种方法目前存在的缺陷。; 关键词 IH工艺立体光刻抗蚀剂聚合物结构微机电系统集成固化聚合物; Keywords IH process stereo lithography resist; 分类号 TN305.7 [电子电信—物理电子学]; 在线阅读下载PDF 职称材料

	题名	作者	出处	发文年	被引量	操作
1	电子束重复增量扫描曝光技术	孔祥东冯圣玉卢文娟张玉林	《强激光与粒子束》 EI CAS CSCD 北大核心	2007	4	在线阅读下载PDF 职称材料
2	用反差确定电子束曝光剂量与刻蚀深度的关系	卢文娟张玉林孔祥东郝慧娟	《强激光与粒子束》 EI CAS CSCD 北大核心	2007	0	在线阅读下载PDF 职称材料
3	基于软刻蚀技术的微三维结构加工方法研究	卢文娟张玉林孔祥东郝惠娟	《微纳电子技术》 CAS	2007	1	在线阅读下载PDF 职称材料
4	微机电系统的微细加工技术	孔祥东张玉林宋会英卢文娟	《微纳电子技术》 CAS	2004	5	在线阅读下载PDF 职称材料
5	IH工艺的发展及应用	孔祥东张玉林尹明	《微纳电子技术》 CAS	2003	5	在线阅读下载PDF 职称材料